[发明专利]一种具有高温自保护功能的IGBT器件无效
申请号: | 201210303840.6 | 申请日: | 2012-08-24 |
公开(公告)号: | CN102800697A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 李泽宏;赵起越;夏小军;任敏;张金平;张波 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/10 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 温利平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 高温 保护 功能 igbt 器件 | ||
技术领域
本发明属于功率半导体器件技术领域,涉及绝缘栅双极型晶体管(IGBT)的结构及其制备方法。
背景技术
绝缘栅双极型晶体管(IGBT)是一种新型的功率半导体器件。它既具有MOSFET的输入阻抗高、驱动功率小、驱动电路简单、开关速度高的优点,又具有双极晶体管的电流密度大、饱和压降低、电流处理能力强的优点。因此,IGBT具有高压、大电流。高速的三大特点,这是其他功率器件所不能比拟的。IGBT作为功率开关管或功率输出管广泛应用于电磁炉、UPS不间断电源、汽车电子点火器、三相电动机变频器、电焊机开关电源等产品中,现已成为电力电子领域的主流产品之一。
在IGBT的应用中,通常采用多颗IGBT器件并联工作,以提高整个电力电子设备的电流等级,进而提高整个电力电子设备的功率等级。在并联应用中,希望IGBT器件的正向压降具有负的温度系数,即随着温度的升高,IGBT的正向压降增大,避免温度进一步增加,使器件因过热而失效。在IGBT的发展过程中,首先出现的PT(穿通型)IGBT的正向压降是正的温度系数,不宜并联使用。现阶段广泛应用的NPT(非穿通型)和FS(场终止型)IGBT的正向导通压降已经具有负的温度系数,但随着IGBT技术的不断发展,IGBT的功率级别越来越高,在应用中所产生的热量也越来越大,所以需要对IGBT正向压降的的负温度系数进行优化,实现IGBT器件高温下的自我保护。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有高温自保护功能的IGBT器件,在不影响器件正向导通特性的前提下,优化器件正向导通压降的负温度系数,延长器件使用寿命。
本发明的核心思想是在传统绝IGBT的P型基区5中靠近多晶硅栅电极10的沟道区A中引入带有受主能级的深能级杂质12,这些深能级杂质12在常温下电离率比较低,对器件的阈值电压影响非常小。当器件工作在大电流下,器件温度升高,上述深能级杂质12的电离率将得到大幅提高,相当于提高了P型基区5的有效掺杂水平,使器件的阈值电压大幅提高,从而降低IGBT器件的饱和电流值,加之器件的正向导通压降的负温度系数,在双重机理的作用下达到对IGBT器件的正向导通压降的负温度系数进一步优化的目的。避免器件因为自身产生的热损耗导致的温度过高而失效,从而使得器件具有高温自我保护的功能。
本发明技术方案如下:
一种具有高温自保护功能的IGBT器件,其基本结构如图2、3所示,包括金属化集电极1、P型集电区2、N+缓冲层3、N-漂移区4、P+体区6、P、N+源区7、二氧化硅栅氧化层8、多晶硅栅电极9、二氧化硅场氧化层10、金属化发射极11;金属化集电极1位于P型集电区2的背面,N+缓冲层3位于P型集电区2的正面,且上方同N-漂移区4相连;N+源区7和P+体区6二者并排位于金属化发射极12下方、且与金属化发射极12相连,其中P+体区6下方与N-漂移区4直接相连,N+源区7同N-漂移区4之间隔着P型基区5;N-漂移区4、P型基区5和N+源区7三者与多晶硅栅电极9之间隔着二氧化硅栅氧化层8,多晶硅栅电极9与金属化发射极11之间隔着二氧化硅场氧化层10;所述P型基区5中引入了带有受主能级的深能级杂质12。
在上述方案中:所述深能级杂质12的杂质能级应位于导带底以下0.15eV,以保证在常温下深能级施主杂质的电离率非常低,对器件常温下的阈值电压影响很小;所述带有受主能级的深能级杂质12可以带有一个受主能级或多个受主能级,可以是铟(In)、钛(Ti)、铍(Be)、锌(Zn)或镍(Ni);所述二氧化硅栅氧化层8和多晶硅栅电极9构成的栅极结构可以是平面栅结构(如图2所示),也可以是沟槽栅结构(如图3所示)。
本发明的工作原理:
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