专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN202180004469.0有效
  • 赵起越;石瑜 - 英诺赛科(苏州)科技有限公司
  • 2021-08-11 - 2023-07-07 - H01L29/778
  • 所述半导体装置包含第一氮化物基半导体层、第二氮化物基半导体层、第一源极/漏极(S/D)电极、第二S/D电极、第一栅极电极、第二栅极电极、第一钝化层、导电层和第二钝化层。所述第二氮化物基半导体层安置在所述第一氮化物基半导体层上。所述第一和第二S/D电极以及所述第一和第二栅极电极安置于所述第二氮化物基半导体层上方。所述第一钝化层覆盖所述第一和第二栅极电极。所述导电层安置在所述第一钝化层上方且包含电极部分和场板部分。所述第二钝化层安置在所述导电层上且穿透所述导电层以与所述第一钝化层接触。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]基于氮化物的半导体器件和其制造方法-CN202180003505.1在审
  • 董志文;赵起越;李茂林 - 英诺赛科(苏州)科技有限公司
  • 2021-06-15 - 2023-06-23 - H01L29/66
  • 一种基于氮化物的半导体器件,其包括第一基于氮化物的半导体层、第二基于氮化物的半导体层、栅极电极、第一源极电极、第二源极电极和漏极电极。所述第二基于氮化物的半导体层包括掺杂的漂移区、第一势垒区和第二势垒区。所述第一势垒区和所述第二势垒区从所述第二基于氮化物的半导体层的顶面向下延伸并且通过所述漂移区的一部分彼此间隔开。所述栅极电极被安置于所述第一势垒区上。所述第一源极电极被安置于所述漂移区的所述部分上。所述第二源极电极被安置于所述第二势垒区上并且与所述第一源极电极电耦合。所述漏极电极与所述第一基于氮化物的半导体层连接。
  • 基于氮化物半导体器件制造方法
  • [发明专利]具有非对称栅极结构的半导体器件-CN202010564674.X有效
  • 廖航;赵起越;李长安;王超;周春华;黄敬源 - 英诺赛科(珠海)科技有限公司
  • 2020-06-19 - 2023-04-18 - H01L29/778
  • 本发明是关于一种具有非对称栅极结构的半导体器件,其包含:衬底;沟道层,位于所述衬底上方;势垒层,位于所述沟道层上方,所述势垒层和所述沟道层经配置以形成二维电子气体,所述二维电子气体沿着所述沟道层与所述势垒层之间的界面形成在所述沟道层中;及源极接触及漏极接触,位于所述势垒层上方;经掺杂III‑V族层,位于所述势垒层上方及所述漏极接触和所述源极接触之间;及栅电极,位于所述经掺杂III‑V族层上方且经组态与所述经掺杂III‑V族层形成肖特基接面,其中所述经掺杂III‑V族层及/或栅电极具有非中心对称的几何结构,从而使该器件于应用上达成控制栅极漏电流分布态样的效果。
  • 具有对称栅极结构半导体器件
  • [发明专利]半导体装置结构和其制造方法-CN202080003725.X有效
  • 杨超;周春华;赵起越 - 英诺赛科(苏州)科技有限公司
  • 2020-09-09 - 2022-12-06 - H01L29/06
  • 本揭露提供了半导体装置结构和其制造方法。所述半导体装置结构包含衬底、第一氮化物半导体层、第二氮化物半导体层、阻挡层、第三氮化物半导体层以及栅极结构。所述第一氮化物半导体层安置在所述衬底上。所述第二氮化物半导体层安置在所述第一氮化物半导体层上,并且所述第二氮化物半导体层的能隙大于所述第一氮化物半导体层的能隙。所述阻挡层安置在所述第二氮化物半导体层上,并且所述阻挡层的能隙大于所述第二氮化物半导体层的能隙。所述第三氮化物半导体层掺杂有杂质并且安置在所述阻挡层上。所述栅极结构安置在所述第三氮化物半导体层上。
  • 半导体装置结构制造方法

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