[发明专利]一种曝光机的对位验证方法

权利要求书

1.一种曝光机的对位验证方法，包括以下步骤：

（一）下菲林的设计：

在下菲林上设有对位圆排列结构，上述对位圆排列结构包括多个对位圆，上述多个对位圆中含有一个对位基准圆，上述多个对位圆相互外离，上述多个对位圆的半径相同、圆心直线排列、圆心距相等；

（二）上菲林的设计：

运用同心圆的方法，在上菲林上设有验证圆排列结构，上述验证圆排列结构包括多个验证圆，上菲林上各个验证圆的圆心与下菲林上各个对位圆的圆心相对应；上述多个验证圆中含有一个验证基准圆，上述验证基准圆的半径、圆心位置与对位基准圆的半径、圆心位置相同；上述多个验证圆相互外离，以验证基准圆为起点，上述多个验证圆的半径依次增大；

（二）测量方法：

（1）将上述下菲林安装在曝光机的下台面上，在曝光机的自动对位过程中，上述下菲林固定不动；

（2）将上述上菲林安装在曝光机的上台面上，在曝光机的自动对位过程中，上述上菲林可相对下台面上的下菲林移动，当曝光机自动对位后，上菲林上的各个验证圆与下菲林上的各个对位圆重叠，上菲林与下菲林完成对位；

（3）上菲林和下菲林对位精度的测量：

当上菲林和下菲林完成对位后，以验证基准圆为起点，从小到大观察上菲林上各个验证圆与下菲林上各个对位圆的重合程度，从而判断上菲林和下菲林的对位精度是否达到精度要求；

如果验证基准圆与对位基准圆重合、除验证基准圆以外的其它各个验证圆分别与对应的对位圆构成同心圆，即各个验证圆分别与对应的对位圆不内切，则上菲林和下菲林的对位精度达到要求；

如果验证基准圆与对位基准圆不重合、除验证基准圆以外的其它各个验证圆分别与对应的对位圆不能构成同心圆，则上菲林和下菲林的对位达不到精度要求；此时，以验证基准圆为起点，逐个观察各个验证圆，找出与对位圆内切的验证圆，相互内切的验证圆与对位圆之间的半径差值即为上菲林和下菲林的对位偏移量；

（4）曝光机的对位验证：

如果上菲林和下菲林的对位精度达到要求，则曝光机的对位精度也达到要求；

如果上菲林和下菲林的对位精度达不到要求，则上菲林和下菲林的对位偏移量就是曝光机的对位偏移量。

2.根据权利要求1所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述下菲林的四个角上分别设有对位圆排列结构，上菲林的四个角上分别设有验证圆排列结构，上菲林各个角上的验证圆排列结构分别与下菲林各个角上的对位圆排列结构相对应。

3.根据权利要求1所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述对位圆排列结构的对位圆和验证圆排列结构的验证圆均直线形排列，对位圆排列结构的对位基准圆和验证圆排列结构的验证基准圆均位于直线形的首位上。

4.根据权利要求1所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述对位圆排列结构的对位圆和验证圆排列结构的验证圆均直角形排列，对位圆排列结构的对位基准圆和验证圆排列结构的验证基准圆均位于直角形的顶角上。

5.根据权利要求1所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述上菲林上多个验证圆的半径依次等比例增大。

6.根据权利要求5所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述上菲林上验证圆与对应的对位圆的半径差值依次等比例增大。

7.根据权利要求6所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：所述半径差值标注在上菲林上且位于相应验证圆的旁边。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光机的对位验证方法，其特征在于：当上菲林和下菲林完成对位后，根据验证圆与对位圆的内切方向，可以判断上菲林和下菲林对位的偏向，上菲林和下菲林对位的偏向也是曝光机对位的偏向。