[发明专利]壳体的制作方法及由该方法制得的壳体无效
| 申请号： | 201010263721.3 | 申请日： | 2010-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102373416A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;万自成 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 制作方法 法制 | ||
【权利要求书】：
1.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供透明的基体；
使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为10～14sccm，氮气流量为115～125sccm，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，溅射时间为75～95分钟，以在基体的表面形成钛氧氮膜层；
在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，溅射时间为0.5小时，使该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于40至55，a*坐标值介于8至10，b*坐标值介于-24至-16。
2.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该钛氧氮膜层以氩气为工作气体，镀膜腔体的温度保持在0℃，钛靶的功率为8～12kw。
3.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：磁控溅射该铬膜层以铬靶为靶材，铬靶功率为8～10kw。
4.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述基体为透明玻璃或塑料。
5.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述对基体的一表面遮蔽是采用高温胶带进行遮蔽。
6.一种由权利要求1-5中的任一项所述的方法制得的壳体。
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