[发明专利]半导体装置结构及半导体装置无效
申请号: | 200810080665.2 | 申请日: | 2008-02-28 |
公开(公告)号: | CN101257021A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 伊藤弘造;川本和弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;G05F1/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉;杨梧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 结构 | ||
技术领域
本发明涉及半导体装置结构及半导体装置,尤其涉及内藏所谓串联稳压器(series regulator)或开关稳压器(switching regulator)的定电压电路、使用金属-绝缘体-金属(metal-insulator-matal,以下简记为“MIM”)型电容器作为补偿用电容器的半导体装置的配置。
背景技术
以往,在开关稳压器或串联稳压器中,为了稳定动作,在电路内使用补偿用电容器。具有电阻和补偿用电容器串联连接的RC电路场合,为了抑制芯片面积增加,有以下技术:在构成电容部的MIM电容器的上基体金属膜或下基体金属膜的至少一方,使用具有所定片材电阻值的薄膜电阻用金属材料形成电阻部(例如参照专利文献1)。
[专利文献1]日本特开平1-223757号公报
但是,在这种结构中,存在只能形成电阻和电容器的串联电路的问题。
发明内容
本发明就是为解决上述先有技术所存在的问题而提出来的,本发明的目的在于,提供能不限制电阻和电容器连接、芯片面积小的半导体装置结构及半导体装置。
为了实现上述目的,本发明提出以下方案:
(1)一种半导体装置结构,包括:
半导体基板;
电阻层,形成在所述半导体基板上,所述电阻层具有配置在其中的电阻;
电容层,形成在所述电阻层上,所述电容层具有电容器,与电阻电气连接。
(2)在上述(1)所述的半导体装置结构中,其特征在于:
所述电阻包括多个可互相连接的单位电阻,形成多单位电阻;
所述电容层包括:
第一金属层,与所述电阻层邻接,该第一金属层形成上述电容器的一电极,同时,对所述多个单位电阻提供电连接;
电介质层,形成在所述第一金属层上;以及
第二金属层,形成在所述电介质层上,该第二金属层形成上述电容器的另一电极,通过所述电介质层与第一金属层绝缘。
(3)在上述(1)所述的半导体装置结构中,其特征在于:
进一步包括插入所述电阻层和电容层之间的中间金属层;
所述电阻包括多个可互相连接的单位电阻,形成多单位电阻;
所述中间金属层对所述多个单位电阻提供电连接;以及
所述电容层包括:
第一金属层,与所述中间金属层邻接,该第一金属层形成上述电容器的一电极;
电介质层,形成在所述第一金属层上;以及
第二金属层,形成在所述电介质层上,该第二金属层形成上述电容器的另一电极,通过所述电介质层与第一金属层绝缘。
(4)在上述(3)所述的半导体装置结构中,其特征在于:
进一步包括至少一个金属配线层,配置在所述中间金属层和第一金属层之间。
(5)在上述(1)所述的半导体装置结构中,其特征在于:
所述电容器是金属-绝缘体-金属型电容器。
(6)一种半导体装置,从输入电压产生一定的输出电压,该半导体装置包括:
半导体基板;
电阻层,形成在所述半导体基板上,所述电阻层具有配置在其中的电阻;
电容层,形成在所述电阻层上,所述电容层具有电容器,与电阻电气连接。
(7)在上述(6)所述的半导体装置中,其特征在于:
所述电阻包括多个可互相连接的单位电阻,形成多单位电阻;
所述电容层包括:
第一金属层,与所述电阻层邻接,该第一金属层形成上述电容器的一电极,同时,对所述多个单位电阻提供电连接;
电介质层,形成在所述第一金属层上;以及
第二金属层,形成在所述电介质层上,该第二金属层形成上述电容器的另一电极,通过所述电介质层与第一金属层绝缘。
(8)在上述(7)所述的半导体装置中,其特征在于:
进一步包括:
电压分压器,通过对输出电压进行分压,产生反馈信号;
控制电路,根据该反馈信号,输出控制信号;
输出晶体管,根据所述控制信号,控制电流通过,使得所述反馈信号成为所定的基准信号;
所述多单位电阻通过所述第一金属层被结合,形成与所述电容器连接的所述电压分压器。
(9)在上述(7)所述的半导体装置中,其特征在于:
进一步包括:
电压分压器,通过对输出电压进行分压,产生反馈信号;
控制电路,根据该反馈信号,输出控制信号;
电感器,将输入电压变换成输出电压;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的