专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种MMG掩模板的制作方法-CN202010714162.7在审
  • 李春兰 - 合肥清溢光电有限公司
  • 2020-07-23 - 2020-10-27 - G03F1/68
  • 本发明实施例涉及光刻技术领域,公开了一种MMG掩模板的制作方法,该方法通过制作MMG掩模板的数据;分析数据中像素间隔值,将数据中X轴方向像素间隔值相同或/和Y轴方向像素间隔值相同的panel划分为同一曝光区域;将同一曝光区域内所有panel设计到同一图层;设置每个曝光区域的曝光参数,并在设置好曝光参数后进行格式转换;投入MMG掩模板原材料,根据转换后的曝光参数,按照曝光参数,依序对每个同一图层进行曝光;之后依照常规掩模板制作流程进行生产,直至获得MMG掩模板,本发明实施例提供的MMG掩模板的制作方法,在不需要通过光刻机设备自带收费软件功能,实现了MMG掩模板的制作,降低了生产成本。
  • 一种mmg模板制作方法

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