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[实用新型]一种真空镀膜高速恒卷绕张力设备-CN201520852352.X有效
发明人：廖雪超;刘振兴;陈绪轩;张凯;胡威;李峰;沈丹丹 -专利权人：武汉科技大学
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空镀膜装置控制技术领域，具体公开了一种真空镀膜高速恒卷绕张力设备。本实用新型通过在传统镀膜机上增加监测装置和控制装置，实现薄膜基材从开卷、蒸镀、收卷完成的全自动过程控制，用于解决现有技术中薄膜基材的张力和速度控制由人工设定并凭经验在镀膜过程中实时调整，造成劳动强度大、镀膜效率和产品质量低的问题，实现了系统张力和速度实时控制，提高了生产效率和镀膜镀层质量，降低了劳动强度，提高了系统自动化水平。
一种真空镀膜高速卷绕张力设备

[发明专利]于光学镀膜时通过反射式光控计算镀膜材料折射率的方法-CN202310089119.X在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G06F17/10 文献下载
摘要：本发明公开一种于光学镀膜时通过反射式光控计算镀膜材料折射率的方法，其包括获取反射光控监控片于真空状态下由反射光量值通过光电转换成的电压值V；计算反射光控监控片于未镀膜前真空状态下的反射率系数R0；计算反射光控监控片于真空状态下的折射率Ns；设定光学镀膜状态的起始光控光量值S；获取反射光控监控片在镀膜过程中的最值反射光量值E；计算反射光控监控片于光学镀膜状态下的反射系数C1；计算反射光控监控片在光学镀膜光量值达到极值的反射率系数Rf；计算镀膜材料的折射率Nf。本发明基于反射式光控原理，实现获得于光学镀膜时镀膜材料的精确折射率的计算过程和公式，该方法对于光学镀膜的反射式光控镀膜具有普适性。
光学镀膜通过反射光控计算材料折射率方法

[发明专利]一种锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备-CN202210182567.X在审
发明人：倪鹏玉;曲永鹏;严毅龙 -专利权人：福建金石能源有限公司
申请日： 2022-02-26 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备，其由镀膜模组、密封腔和导辊模组组成；所述复合式镀膜设备采用两侧脱出式结构，所述镀膜模组和导辊模组分别设置密封腔的两侧，并可以从密封腔嵌入和脱出。其包括导向辊、溅射镀膜单元、预处理离子源、预热除气单元、镀膜辊、蒸发镀膜单元、放料卷、收料卷、摆臂、纠偏机构和隔板。该锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备兼容单面镀膜和双面同时镀膜；镀膜过程采用溅射镀膜和蒸发镀膜的多种组合镀膜方式。
一种锂电池流体电极双面同时复合镀膜设备

[发明专利]超薄镜片的镀膜应变的计算方法及其控制方法、超薄镜片-CN202210002949.X有效
发明人：潘安练;范鹏 -专利权人：湖南大学
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种超薄镜片的镀膜应变的计算方法及其控制方法、超薄镜片，其中镀膜应变计算：获取超薄镜片所需膜层材料的镀膜应力与厚度之间的关系模型，根据各膜层所需厚度求解对应的镀膜应力，再按改进的斯通利公式计算超薄镜片的镀膜层应力，进而得到镀膜层对基片的应变大小；镀膜应变控制：基于超薄镜片的镀膜层应力，设计一种金属氧化膜层，且其镀膜应力与镀膜层应力的矢量和小于预设应力阈值，将设计的金属氧化膜层添加到超薄镜片的镀膜层中，实现对镀膜应力的控制本发明可以对超薄镜片在镀膜过程中的应变进行预测和控制，得到镀膜后无应变的超薄镜片。
超薄镜片镀膜应变计算方法及其控制方法

[实用新型]一种5G光通讯用棱镜加工装置-CN202120471401.0有效
发明人：张博;何应春;武鹏;徐长全;刘洪涛;马伟生;宋永昌 -专利权人：新乡市百合光电有限公司
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： B26D1/18 文献下载
摘要：本实用新型包括切割台、切割机、镀膜台和镀膜机，切割台后方固定连接有切割机，切割台和切割机一侧设置有镀膜台，镀膜台上方固定连接有镀膜机。本实用新型通过设置切割台、转盘电机、切割转盘、镀膜台、镀膜槽、镀膜机、镀膜电机、镀膜转轴和镀膜头，解决了现有的5G光通讯用棱镜加工装置对棱镜的切割不够便捷，切割精度不高，切割效率低；5G光通讯用棱镜加工装置镀膜方式传统老旧，在镀膜的过程中会误入杂质，且镀膜效率也不高的问题。
一种通讯棱镜加工装置

[实用新型]一种锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备-CN202220398145.1有效
发明人：倪鹏玉;曲永鹏;严毅龙 -专利权人：福建金石能源有限公司
申请日： 2022-02-26 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备，其由镀膜模组、密封腔和导辊模组组成；所述复合式镀膜设备采用两侧脱出式结构，所述镀膜模组和导辊模组分别设置密封腔的两侧，并可以从密封腔嵌入和脱出其包括导向辊、溅射镀膜单元、预处理离子源、预热除气单元、镀膜辊、蒸发镀膜单元、放料卷、收料卷、摆臂、纠偏机构和隔板。该锂电池集流体电极双面同时复合式镀膜设备兼容单面镀膜和双面同时镀膜；镀膜过程采用溅射镀膜和蒸发镀膜的多种组合镀膜方式。
一种锂电池流体电极双面同时复合镀膜设备

[实用新型]一种薄膜镀膜装置及镀膜系统-CN202222816521.7有效
发明人：刘国春;贾斌;蒋文强;程毅;李学法;张国平 -专利权人：扬州纳力新材料科技有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： C25D5/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种薄膜镀膜装置及镀膜系统，通过设置在壳体内的镀膜阳极和镀膜导轨，以及滑接在镀膜导轨上的镀膜阴极形成了镀膜环境，在镀膜过程中，塑料薄膜可按照镀膜导轨的形状路径走膜，将镀膜导轨设置成第一导轨和第二导轨相对称的结构，可实现塑料薄膜未与第一导轨和第二导轨接触的部分完全不会出现薄膜被刺穿或镀膜不均匀等不合格现象，同时，将第一导轨和第二导轨中段设置向上凸起或向下凹陷，能够通过增加电流效率的同时增加方阻，有利于增加塑料薄膜镀膜时电镀的时间，进而提升塑料薄膜镀膜的镀膜加工质量。
一种薄膜镀膜装置系统

[实用新型]一种偏振分光棱镜防漏镀膜挡条装置-CN201720266875.5有效
发明人：钟福明 -专利权人：福州科思捷光电有限公司
申请日： 2017-03-18 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： G02B7/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种偏振分光棱镜防漏镀膜挡条装置，包括镀膜零件固定盘，镀膜零件固定盘中设有向下凹陷的镀膜腔，镀膜腔的两侧设有能够托放待镀膜偏振分光棱镜的棱镜定位挡边，镀膜腔中两端的棱镜定位挡边上设有镀膜保护条，待镀膜偏振分光棱镜紧密排列固定在镀膜保护条之间的棱镜定位挡边上，其中一个镀膜保护条与镀膜腔的一个端面紧密接触，另一个镀膜保护条的外侧面被夹紧调节螺钉的端面顶紧，夹紧调节螺钉螺旋设置于镀膜腔另一端面的螺纹孔中；本实用新型能够使待镀膜偏振分光棱镜不需要镀膜的侧面相互紧密接触，通过压紧调节确保紧密接触良好、不易漏膜，在镀膜过程不再使用保护胶带，能够大大提高镀膜合格率，提高镀膜质量。
一种偏振分光棱镜防漏镀膜装置

[发明专利]滤波片多区域镀膜方法及其应用-CN201811555085.4在审
发明人：戴乾;范利康;沙昭 -专利权人：武汉正源高理光学有限公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于玻璃材料镀膜工艺技术领域，具体涉及一种滤波片多区域镀膜方法及其应用，尤其是适用于激光器的区域滤波片的镀制。一种滤波片多区域镀膜方法，在玻璃基片表面通过光刻法光刻出其中一块待镀膜区域，在该区域镀膜，对玻璃基片表面进行清洗，重复上述过程对其他待镀膜区域进行镀膜。
滤波片镀膜多区域玻璃基片表面镀膜区域玻璃材料镀膜工艺区域镀膜激光器光刻法成膜镀制光刻应用清洗重复

[发明专利]观察窗防污组件及其使用方法、真空镀膜系统-CN201710052096.X有效
发明人：付文悦;高浩然;王小虎 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： C23C14/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种观察窗防污组件及其使用方法、真空镀膜系统，属于制造领域。包括：设置在真空镀膜腔室内的透明挡板，所述透明挡板与所述真空镀膜腔室可拆卸连接，所述透明挡板能够覆盖所述观察窗。本发明通过在真空镀膜腔室内部设置透明挡板，并且该透明挡板与真空镀膜腔室可拆卸连接，保证了真空镀膜腔室的使用效果。本发明用于镀膜过程中。
观察窗防污组件及其使用方法真空镀膜系统

[实用新型]一种红外滤光片用高效镀膜伞具-CN201420178782.3有效
发明人：范辛 -专利权人：京浜光学制品（常熟）有限公司
申请日： 2014-04-14 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种红外滤光片用高效镀膜伞具，包括球形伞面，所述球形伞面的底边圆周设有垂直于伞底平面的翻边，所述球形伞面的顶部设有中心圆孔，所述中心圆孔四周设有直立遮挡边。该镀膜伞具增加了整个镀膜伞具的有效镀膜面积，提高生产效率，降低单片镀膜成本，整体强度高，长时间使用也不容易变形，减少蒸发过程中镀膜蒸气对镀膜装置的污染。
一种红外滤光高效镀膜伞具

[发明专利]磁控溅射镀膜源及其装置与方法-CN201611232745.6在审
发明人：王开安 -专利权人：王开安
申请日： 2016-12-27 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及材料沉积技术领域，具体涉及磁控溅射镀膜源及其装置与方法。磁控溅射镀膜源包括一对可旋转的镀膜组件。每一镀膜组件包括溅射靶座和溅射靶座内部设置磁力产生件。在每一镀膜组件内的磁力产生件朝向镀膜组件中心轴线的极性相同，不同镀膜组件内磁力产生件朝向其各自镀膜组件中心轴线的极性相反。镀膜过程中，镀膜组件自转，而磁力产生件位置保持不变。磁控溅射镀膜装置采用磁控镀膜溅射源，能将过热的电子或其他携带能量的负离子被磁场束缚在两个镀膜组件之间，从而大大减少轰击工件的机会，并能有效地抑制工艺温度上升，实现低温镀膜。本发明还涉及磁控溅射镀膜方法，其采用上述磁控溅射镀膜装置。
磁控溅射镀膜及其装置方法

[发明专利]一种低折射率镀膜材料及其制备方法-CN202310593086.2在审
发明人：梁小生;万一兵;梁楚军;黄洪浜 -专利权人：湖南戴斯光电有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种低折射率镀膜材料及其制备方法，涉及光学镀膜材料的领域。镀膜材料包括以下原材料：氟化镁、纳米二氧化硅、氧化铝、氟化钇、氟化钕、氟化镨钕。本申请在镀膜材料中加入了氟化钕、氟化镨钕和氟化钇，氟化钕和氟化镨钕的加入后在镀膜的过程中与氟化镁和纳米二氧化硅等同时蒸发并沉积在基底表面，通过氟化钕和氟化镨钕的共同作用可以抑制氟化镁在沉积过程中的定向生长的问题氟化钇在镀膜过程中可以形成更加致密的膜层，并且成膜均匀，在提升膜层均匀性的同时增强附着力。另外，氟化钇的加入还可以改善氟化钕和氟化镨钕的吸湿问题，提升镀膜材料的稳定性。
一种折射率镀膜材料及其制备方法

[发明专利]反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机及方法-CN202111059182.6在审
发明人：李青;李赫然;罗靖;任书明;王升;刘春元;向鸿;吕先跃 -专利权人：四川旭虹光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机、监测方法及镀膜方法，包括监测片，以及安装在镀膜机门板上的反射率测量机构，所述镀膜机门板上设置有供所述反射率测量机构测量所述监测片的反射率的测量孔。通过设计监测片，在单层镀膜完成后对该监测片进行反射率光谱测量，得到该层镀膜实际厚度，从而可以及时地在单层镀膜完成后进行补镀或后续镀层优化，从而实现镀膜过程中的膜层优化和改善，有效提高镀膜的稳定性，降低废品率，提高镀膜质量。
反射磁控溅射镀膜厚度监测装置方法

[实用新型]一种大型真空镀膜设备-CN202021635388.X有效
发明人：尹刚;张华静 -专利权人：肇庆市龙泽真空设备有限公司
申请日： 2020-08-09 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种大型真空镀膜设备，包括外机和排气泵，所述外机的上部固定有显示屏，且显示屏的下部安置有操作台，所述外机的底部前段安装有溅射镀膜点，所述排气泵的左端安置有电机。该种大型真空镀膜设备通过结构的改进，使本装置在实际使用时，密封性增强，不容易导致空气进入，使其在镀膜过程中避免受空气影响导致镀膜时产生气泡，镀膜质量较高，并且本大型真空镀膜设备镀膜在机器工作时不容易出现镀膜不均匀的现象，避免因镀膜不均匀而影响镀膜质量，可靠性强。
一种大型真空镀膜设备