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[发明专利]金属选择性蚀刻液-CN200610075444.7有效
发明人：高桥秀树;黑岩健次;加藤胜 -专利权人：关东化学株式会社
申请日： 2006-04-14 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明目的在于抑制将有贵金属和贱金属共存的半导体材料上的贵金属进行蚀刻时的贱金属发生腐蚀的问题，并提高成品率。本发明提供一种蚀刻液，其与以氰化物和铅化合物为成分的水溶液相比，安全性优异且对环境的影响少。本发明的蚀刻液为从有贵金属和贱金属共存的半导体材料中蚀刻贵金属的碘系蚀刻液，该蚀刻液的贵金属与贱金属的蚀刻速率之比(贵金属的蚀刻速率/贱金属的蚀刻速率)为0.03或以上。
金属选择性蚀刻

[发明专利]选择性吸附贵金属的电极与选择性回收贵金属的方法-CN201611248168.X有效
发明人：鐘琍菁;颜嘉亨;梁德明;洪仁阳;张敏超;邵信;刘柏逸;方峙翔;韩吟龙;范愷军 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种选择性吸附贵金属的电极，包括：含碳材料所形成的电极；以及嗜热性碱性蛋白酶生产菌属(Tepidimonas)的菌的蛋白质固定于该含碳材料所形成的电极上，以形成该选择性吸附贵金属的电极，其中该贵金属包括金本发明还提供利用该电极选择性回收贵金属的方法。本发明的选择性吸附贵金属的电极以及使用其选择性回收贵金属的方法具有有效提升电极的吸附量、提升蛋白质的吸附效率、以及缩短金吸附时间等优点，且可有效选择性吸附所需的金属，具备高度使用价值。
贵金属电极选择性吸附选择性回收含碳材料吸附蛋白质固定电极选择性碱性蛋白酶有效选择性吸附效率生产菌吸附量热性蛋白质回收金属

[发明专利]选择性纤维敷金属法-CN01817351.9有效
发明人： M·N·米勒 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2001-02-20 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：一种向非导电衬底，包括单根纤维尤其是光纤的选定区域施加金属的方法，它包含以下步骤：提供具有无涂层部分的非导电衬底，用敏化剂溶液处理提供非导电衬底的敏化的部分。当非导电衬底的被掩蔽部分浸在无电镀浴中时，金属沉积在活化的区域上，结果在非导电衬底上产生了选择性镀敷的金属。该方法提供了选择性敷金属制品，包括选择性敷金属的光纤。
选择性纤维金属

[发明专利]一种选择性辐射红外隐身结构-CN201710019819.6在审
发明人：屈绍波;徐翠莲;王甲富;庞永强;马华;王军;李勇峰;杜洪亮 -专利权人：中国人民解放军空军工程大学
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： F41H3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种选择性辐射红外隐身结构，涉及红外隐身技术领域，红外隐身结构包括多个红外选择性热发射单元，多个红外选择性热发射单元按周期p呈矩阵式排列分布；每个红外选择性热发射单元包括由下到上依次设置的衬底层、金属背板、介质层和金属片层，金属片层包括第一金属片、第二金属片、第三金属片和第四金属片，第一金属片、第二金属片、第三金属片和第四金属片围绕红外选择性热发射单元的中心间隔90°设置在介质层上。本发明中选择性辐射红外隐身结构用红外超材料的电磁谐振特性实现选择性热辐射，并通过发射频谱设计实现红外隐身技术。
一种选择性辐射红外隐身结构

[发明专利]选择性钝化和选择性沉积-CN201910938338.4在审
发明人： J·W·梅斯;M·吉文斯;S·豪卡;V·帕鲁丘里;I·拉伊梅克斯;S·邓;A·伊利贝里;E·托伊斯;D·朗格里 -专利权人： ASMIP控股有限公司
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的发明名称为选择性钝化和选择性沉积。提供了用于选择性沉积的方法。材料相对于不同材料组成的第二表面被选择性沉积在衬底的第一表面上。将抑制剂(如聚酰亚胺层)相对于第二表面由气相反应物选择性地形成在第一表面上。将目标层相对于第一表面由气相反应物选择性地沉积在第二表面上。第一表面可以是金属的，而第二表面是介电的。因此，可利用本文所述技术将材料(如介电过渡金属氧化物和氮化物)相对于电介质表面选择性地沉积在金属表面上。
选择性钝化沉积

[发明专利]选择性钝化和选择性沉积-CN202210891880.0在审
发明人： J.W.梅斯;M.E.吉文斯;S.P.霍卡;V.帕鲁丘里;I.J.拉伊杰马克斯;邓少任;A.伊利贝里;E.E.托伊斯;D.朗格里;C.德泽拉;M.图米恩 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：提供了选择性沉积的方法。材料相对于不同材料成分的第二表面选择性地沉积在基板的第一表面上。相对于第二表面，在第一表面上由气相反应物选择性地形成抑制剂，例如聚酰亚胺层。相对于第一表面，感兴趣的层从气相反应物选择性地沉积在第二表面上。第一表面可以是金属的，而第二表面是介电的。因此，诸如介电过渡金属氧化物和氮化物的材料可以使用这里描述的技术相对于介电表面选择性地沉积在金属表面上。
选择性钝化沉积

[发明专利]离子选择性功能隔膜及其制备方法和应用-CN202010425394.0在审
发明人：王志豪;陶晶;杜辉;王思双;欧阳玲萍;陈瀚 -专利权人：重庆恩捷纽米科技股份有限公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： H01M50/497 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子选择性功能隔膜及其制备方法和应用。所述离子选择性功能隔膜包括隔膜和涂覆于隔膜单侧或双侧的离子选择性功能涂层，所述离子选择性功能涂层由含有离子选择性材料的浆液涂覆而成。本发明利用离子选择性材料对过渡金属离子的选择性，在保证锂离子穿过性的前提下选择性的阻止过渡金属离子穿过，从而达到阻止正极溶解的过渡金属离子迁移沉积到负极的目的，改善了电池衰减。实验表明，本发明的离子选择性功能隔膜使沉积在负极SEI上的过渡金属含量从182ppm减少到101ppm，使循环中LMO/graphite电池的容量保留率提高2.3倍。
离子选择性功能隔膜及其制备方法应用

[发明专利]化学－机械抛光方法-CN00816878.4无效
发明人：王淑敏;霍马·乔 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2000-12-01 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： H01L21/321 文献下载
摘要：本发明提供一种用于化学－机械抛光一种包含钽及一种导电性金属(钽除外)的基体的方法。该方法包含(a)施加至该基体一种导电性金属－选择性抛光组合物及一种金属氧化物研磨剂，(b)自该基体选择性移除与该钽比较至少一部分该导电性金属，(c)施加至该基体一种钽－选择性抛光组合物及一种金属氧化物研磨剂在一个实施方案中，该导电性金属－选择性抛光组合物是任何此类抛光组合物，及该钽－选择性抛光组合物包含一种过硫酸盐化合物及一种该导电性金属的钝化膜－生成剂。在另一个实施方案中，该导电性金属－选择性抛光组合物包含一种过硫酸盐化合物及任选的一种该导电性金属的钝化膜－生成剂，及诸如以上所述可以调节该导电性金属－选择性抛光组合物或该抛光方法以使该导电性金属－选择性抛光组合物成为一种钽－选择性抛光组合物。
化学机械抛光方法

[发明专利]芯片、其制备方法及电子设备-CN202210391100.6在审
发明人：黄伟川;陈东奇;谢雨思;林军 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-04-14 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L23/532 文献下载
摘要：在金属填充层和第一金属层之间插入第二金属层，可以简化选择性生长金属填充层之前的预处理工艺，在形成通孔后且未选择性生长金属填充层前仅需进行氧气等离子体处理，去除通孔内壁在刻蚀过程中产生的悬挂键和刻蚀副产物，针对第二金属层在氧气等离子体处理过程中被氧化的连接区，通过选择性生长金属填充层时预先在高温下通入的反应气体，可以还原第二金属层被氧化的连接区，替代现有的在选择性生长金属填充层前的氢气等离子体处理，减少了氧气等离子体处理和氢气等离子体处理之间平衡的问题，提高了选择性生长金属填充层在第二金属层和第二介质层之间的选择性，提升了金属填充层的选择性生长品质。
芯片制备方法电子设备

[发明专利]一种评价沸石材料重金属吸附选择性的方法-CN201711106443.9有效
发明人：陈晨;田园;孟春凤;师一粟;刘雅淑 -专利权人：江苏科技大学
申请日： 2017-11-10 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G16C20/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种评价沸石材料重金属材料吸附选择性方法，其步骤为：首先，按照分析吸附选择性的重金属的数量及其种类，选择合适的多元吸附选择性分析方程；然后，采用静态间歇吸附模型，利用沸石材料吸附含有混合重金属的溶液，控制一定的吸附反应时间、反应温度和重金属浓度，之后测定反应后溶液中重金属的浓度；第三，将溶液中重金属的浓度数据带入多元吸附选择性分析方程，通过方程对重金属吸附数据进行拟合，得出表征沸石吸附材料吸附选择性的特征参数，通过分析特征参数，评价沸石材料对重金属的吸附选择性。本发明基于数据的多元函数分析，得到的结果准确，适用于分析评价沸石类材料在重金属废水中应用的可能性，并为其应用提供理论基础。
一种评价石材重金属吸附选择性方法

[发明专利]一种多层选择性氢渗透复合膜及其制备和应用-CN202110122878.2有效
发明人：郭亚昆;陈长安;邹东利;刘瑞东;邓立;李赣;叶小球 -专利权人：中国工程物理研究院材料研究所
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B01D61/00 文献下载
摘要：本发明提供一种多层选择性氢渗透复合膜，属于渗氢技术领域。包括对氢气透过率高的金属基材层，对氢具有催化活性和透过性的金属层以及对质子氢具有选择性透过的单层石墨烯膜；其中，所述金属基材层为铌或铌与其它金属元素组成的金属合金，所述金属层为钯或钯与其它元素组成的金属合金本发明还提供多层选择性氢渗透复合膜的制备方法。本发明的多层选择性氢渗透复合膜可有效阻止金属层中金属原子、金属基材层中金属原子的高温互扩散同时不影响复合膜的氢渗透率，可延长复合膜的使用寿命。本发明的多层选择性氢渗透复合膜材料，特别适用于通过选择性扩散将氢气从气体混合物中分离。
一种多层选择性渗透复合及其制备应用

[发明专利]一种光催化选择性金属溶解剂及溶解方法-CN201910917447.8有效
发明人：卞振锋;陈瑶;徐梦娇;闻洁雅;万瑜;李和兴 -专利权人：上海师范大学
申请日： 2019-09-26 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种光催化选择性金属溶解剂及溶解方法，该溶解剂为含光催化剂的氰类化合物溶液，所述的溶液中含水量为0‑50wt％，所述的溶液中光催化剂的含量为0.01‑50mg/mL。光催化选择性金属溶解方法，该方法为：将金属材料分散到光催化选择性金属溶解剂中，光照射一定时间即可对金属材料中各个金属进行选择性溶解。与现有技术相比，本发明突破了对贵金属选择性溶解过程的现有认识，对金属在环境中的演变以及金属开采或金属分离提纯处理有指导意义。
一种光催化选择性金属溶解方法

[发明专利]一种贵金属/氨基MOFs选择性加氢催化剂、制备方法及其用途-CN201910827931.1在审
发明人：郭文雅;关超阳;郎嘉良;赵刚;黄翟 -专利权人：北京氦舶科技有限责任公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： B01J31/28 文献下载
摘要：本发明具体涉及一种负载型贵金属/氨基MOFs选择性加氢催化剂、制备方法及其用途，该负载型贵金属/氨基MOFs选择性加氢催化剂的制备方法，包括以下步骤：(1)低温液相还原制备单原子贵金属溶胶；(2)将步骤(1)中的单原子贵金属溶胶负载到氨基MOFs材料中，得到负载型贵金属/氨基MOFs选择性加氢催化剂。该催化剂可用于肉桂醛选择性加氢制备肉桂醇的反应中。该催化剂具有高活性、高选择性、高稳定性的特点。
氨基选择性加氢催化剂制备负载型贵金属贵金属溶胶单原子催化剂选择性加氢低温液相高稳定性高选择性高活性肉桂醇肉桂醛可用还原

[发明专利]高性能选择性吸收处理膜的形成方法-CN201310573656.8有效
发明人：黑田纯;松本徹;谷生美典 -专利权人：矢崎能源系统公司
申请日： 2013-11-15 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： C23C22/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够在金属基板的表面形成集热特性良好的选择性吸收面的利用太阳能的集热器的选择性吸收面的形成方法和基于该方法形成的选择性吸收处理膜，该选择性吸收面的形成方法的特征在于中，通过将金属基板浸渍在含有硫酸和重铬酸钠或硫酸和铬酐的化学转化处理液中而在上述金属基板表面形成选择性吸收面，该化学转化处理液含有含氧酸的金属盐或氢卤酸的金属盐。
性能选择性吸收处理形成方法

[发明专利]一种辐射制冷透射膜-CN201911075259.1有效
发明人：徐绍禹;张园园;徐静涛 -专利权人：宁波瑞凌新能源科技有限公司
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：一种辐射制冷透射膜，包括从外到内依次设置的选择性发射层和选择性发射层；所述选择性反射层包括一层金属层和一层第一非金属层，所述第一非金属层设置在金属层的入射光线的一侧。本发明通过设置有选择性发射层，通过对选择性发射层中高分子树脂、有机微粒、无机微粒的材料和粒径的选择，将热量转化为特定波段的电磁波以辐射的方式传递到宇宙空间去，可以有效地对物体进行降温，其辐射制冷效果更优异，在7μm~14μm波段的发射率为85%以上；还通过设置包括金属层和第一非金属层、第二非金属层的选择性反射层，通过选择性反射层中适当的膜层和膜层厚度的设计，改变入射光的传递状态，即通过多层膜的光学干涉实现透射可见光
一种辐射制冷透射

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