专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于规则的版图修正方法-CN202211691129.2在审
  • 刘畅;董立松;马乐 - 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-04-04 - G03F1/36
  • 本发明涉及版图修正技术领域,具体涉及一种基于规则的版图修正方法,包括基于修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正,得到最终修正后的图形,将最终修正后的图形写入版图完成版图修正,用户设置版图输入输出文件、层信息、修正规则、是否执行等信息,校验用户定义的修正规则是否符合约束,同时根据规则也会把约束做适当的校正,根据用户设置的修正规则,自动执行对应的函数,收集修正后的边、图形,并将结果写入到版图文件,从而解决设计图形因为线宽小于曝光波长产生光学影像退化现象,导致光刻图案相对于掩模版上的图案发生严重畸变的问题,同时解决现有基于设计规则进行版图修正方法的易用性问题。
  • 一种基于规则版图修正方法
  • [发明专利]一种流量信息分析方法、系统及相关组件-CN202111494785.9在审
  • 张江湖;范渊;刘博 - 杭州安恒信息技术股份有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-07-08 - G06F21/55
  • 本申请公开了一种流量信息分析方法、系统及相关组件,该方法包括:获取流量数据;获取初始匹配规则;根据所述初始匹配规则对所述流量数据进行匹配,确定初始匹配结果;根据所述初始匹配结果修正所述初始匹配规则,得到修正后匹配规则;根据所述修正后匹配规则对所述流量数据进行再次匹配,确定修正匹配结果;根据所述修正匹配结果生成所述流量数据的敏感信息分析报告。本申请利用流量数据对初始匹配规则进行修正,再利用修正后匹配规则对流量数据进行匹配,继而得到准确可靠的敏感数据分析报告,分析过程耗时小效率高,且匹配规则根据实际的流量数据进行自适应调整,更为贴近实际的流量数据
  • 一种流量信息分析方法系统相关组件
  • [发明专利]一种基于修正网络的不规则文本识别系统及方法-CN201911145879.8在审
  • 张雨柔;李锐;于治楼 - 山东浪潮人工智能研究院有限公司
  • 2019-11-21 - 2020-03-17 - G06K9/20
  • 本发明公开了一种基于修正网络的不规则文本识别系统及方法,本发明的识别系统包括文本修正网络和文本识别网络本发明还涉及一种基于修正网络的不规则文本识别方法,包括如下步骤:通过文本修正网络将不规则文本图片转换成规则文本图片;通过文本识别网络识别上述规则文本图片并输出相对应的文本信息。本发明的识别方法先通过文本修正网络对不规则文本进行修正,如使图片中的文本在水平方向上呈现、去除图片中不相关的噪音信息,再通过后续文本识别网络进行识别,基于修正网络对不规则文本图片进行处理能够避免几何约束,可以对各种复杂的不规则的文本图片进行修正,降低了后序文本识别的难度,进而识别效率也就更高。
  • 一种基于修正网络不规则文本识别系统方法
  • [发明专利]一种光学临近效应的修正方法、修正装置及掩模-CN201911039992.8有效
  • 马乐;韦亚一;张利斌;陈睿 - 中国科学院微电子研究所
  • 2019-10-29 - 2023-10-20 - G03F1/36
  • 本发明提供一种光学临近效应的修正方法,包括:获得测试图形;基于测试图形的掩模进行曝光,获得曝光数据;基于测试图形的数据和曝光数据的对应关系建立OPC第一规则库;确定待修正版图的关键区域,并获得关键区域的图形特征参数;根据关键区域的图形特征参数对OPC第一规则库进行筛选,得到OPC第二规则库;基于OPC第二规则修正修正版图,得到修正后版图,基于修正后版图制作用于曝光的掩模。本发明还提供一种光学临近效应的修正装置。根据关键区域的图形特征参数对OPC第一规则库进行筛选,降低规则库中的规则数量,缩短修正的运行时间。本发明还提供一种利用上述修正方法形成的掩模,提高了曝光后图形的保真度。
  • 一种光学临近效应修正方法装置
  • [发明专利]一种机器翻译后编辑处理方法-CN201610045883.7在审
  • 姚佳;刘世林;吴雨浓;陈炳章 - 成都数联铭品科技有限公司
  • 2016-01-22 - 2016-07-06 - G06F17/24
  • 本发明涉及机器翻译领域,特别涉及一种机器翻译后编辑处理方法,通过设计错词修正规则模板和调序规则模板来抽取机器翻译中的错词修正规则和调序规则,根据先修正译词错误再调整语序错误的顺序,来修正和调整机器译文的错误本发明的错词修正规则模板和调序规则模板中引入的考虑因数全面,除了具有机器译文、标准译文以外还引入了源文的相关信息;引入原文的方法更加符合翻译的原理和本质;所提取出来的修正规则也相应的结合了更多的合理条件,能够更加有效的修正机器翻译的译词和语序错误。
  • 一种机器翻译编辑处理方法
  • [发明专利]一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质-CN202010175353.0有效
  • 徐进 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-03-13 - 2022-03-04 - G03F1/36
  • 本发明实施例公开了一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质,其中光学临近效应修正方法包括:根据目标图形的设计规则,制作测试图形光罩;获取光学临近效应修正模型所需的数据,并建立光学临近效应修正模型;获取测试图形的线端回缩数据,并建立线端回缩规则表;根据线端回缩规则表,确定初始修正值;根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。本发明实施例提供的方法通过建立线端回缩规则表确定初始修正值,利用初始修正值进行光学临近效应修正,可以有效提高光学临近效应修正修正线端回缩时的收敛性,提高修正效率,减少光学临近效应修正的运行时间,进而提高半导体制造效率
  • 一种光学临近效应修正方法装置设备介质
  • [发明专利]一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备-CN202210035463.6在审
  • 王航宇 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2022-01-12 - 2022-05-13 - G03F1/72
  • 尤其涉及一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备,该方法包括步骤:提供一个或者多个初始掩模图形的初始掩模版图,基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定;选出待修正掩模图形,提供关于每个待修正掩模图形的修正规则,将每个修正规则和初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形;基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正;输出修正后的掩模版图,通过该方法修正初始掩模图形速度快,准确找到待修正的待修正掩模图形,修正后获得的掩模版图具有较宽的工艺窗口。
  • 一种应用于产生图形方法装置电子设备

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