“等离子清洗”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1370078个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种蒸发台的等离子清洗装置-CN202123134966.9有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸发台的等离子清洗装置，所述等离子清洗装置安装于蒸发台的真空腔的内部且位于下隔板的底部，所述真空腔的下隔板的底部滑动安装有滑台，所述蒸发台的金属坩埚和等离子清洗装置安装于所述滑台上，所述滑台由工位切换装置驱动使金属坩埚或者等离子清洗装置处于工作工位，当金属坩埚处于工作工位时与下隔板上的工作口位置对应用于金属蒸发镀膜；当等离子清洗装置处于工作工位时与下隔板上的工作口位置对应，等离子清洗装置产生等离子体从工作口溢出用于清洗真空腔上部的晶圆
一种蒸发等离子清洗装置

[发明专利]一种自动清洗油烟净化器以及厨具-CN201710075939.8在审
发明人：温庭德 -专利权人：贵州红太阳环保厂
申请日： 2017-02-13 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： F24C15/20 文献下载
摘要：本发明公开一种自动清洗油烟净化器以及厨具，涉及油烟净化领域。自动清洗油烟净化器包括清洗壳体、等离子净化装置以及冲洗装置。清洗壳体限定清洗空间，并具有与清洗空间连通的进风口和排风口。等离子净化装置设置于清洗空间中。冲洗装置对应等离子净化装置设置于清洗空间中，用于冲洗等离子净化装置。其适用于多种场所，能提高油烟的去除率、净化率，以及降低维护成本。
一种自动清洗油烟净化器以及厨具

[实用新型]一种自动清洗油烟净化器以及厨具-CN201720129241.5有效
发明人：温庭德 -专利权人：贵州红太阳环保厂
申请日： 2017-02-13 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： F24C15/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种自动清洗油烟净化器以及厨具，涉及油烟净化领域。自动清洗油烟净化器包括清洗壳体、等离子净化装置以及冲洗装置。清洗壳体限定清洗空间，并具有与清洗空间连通的进风口和排风口。等离子净化装置设置于清洗空间中。冲洗装置对应等离子净化装置设置于清洗空间中，用于冲洗等离子净化装置。其适用于多种场所，能提高油烟的去除率、净化率，以及降低维护成本。
一种自动清洗油烟净化器以及厨具

[实用新型]涂胶设备-CN202221807315.3有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：江苏立导科技有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B05C9/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种涂胶设备；其中，涂胶设备包括等离子清洗装置和涂布装置；所述等离子清洗装置包括第一载置台及等离子清洗头，所述第一载置台用于载置待涂胶产品，所述等离子清洗头面向所述待涂胶产品，用于清洗产品并使等离子体附着于产品表面；所述涂布装置用于对清洗后的待涂胶产品进行涂敷胶水。本申请通过在涂布装置对待涂胶产品进行涂敷胶水之前，使用等离子清洗头对待涂胶产品进行清洗，增强了待涂胶产品表面的粗糙度，增强了胶水在产品表面的摩擦力。
涂胶设备

[实用新型]一种带过滤装置的等离子清洗机-CN202121587843.8有效
发明人：周伟 -专利权人：苏州浦丰鑫电子科技有限公司
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带过滤装置的等离子清洗机，包括等离子清洗机本体，所述等离子清洗机本体的底部固定连接有水箱，所述水箱的底部固定连接有气泵，所述气泵的出气端连通有加气管，所述加气管的顶部贯穿至水箱内腔的底部，所述水箱右侧的底部连通有出水管，所述水箱右侧的顶部连通有进气管，所述进气管的右端连通有气液分离器，所述气液分离器的前后两侧均固定连接有固定架，所述固定架的左侧与等离子清洗机本体的右侧固定连接。本实用具备过滤空气的优点，解决了现有的等离子清洗机在使用的过程中，不便于对进入等离子清洗机的空气进行过滤，容易造成灰尘等杂质进入到等离子清洗机内，影响清洗机清洗质量的问题。
一种过滤装置等离子清洗

[发明专利]一种清洗等离子体反应腔体的方法及系统-CN201010526081.0无效
发明人：周华强;熊炳辉;徐峰 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2010-10-25 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件生产领域，尤其涉及一种清洗等离子体反应腔体的方法及系统，用于降低清洗等离子体反应腔体内壁的时间、提高清洗效率；本发明主要方法包括：将三氟化氮(NF3)气体输入到所述等离子体反应腔体内；触发所述三氟化氮(NF3)气体与所述等离子体反应腔体内的氮化硅化合物进行化学反应；将所述等离子体反应腔体内的残留气体抽走。采用本发明，能够大大缩减清洗等离子体反应腔体内壁所需的时间、提高清洗效率。
一种清洗等离子体反应方法系统

[实用新型]一种曲面清洗机-CN202023160142.4有效
发明人：杨美高 -专利权人：深圳市八零联合装备有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及曲面产品的清洗技术领域，公开一种曲面清洗机，包括机架、运输机构、曲面治具、无尘布清洗机构及等离子清洗机构，运输机构设置在机架上，曲面治具设置在运输机构上且运输机构能够带动曲面治具沿运输方向运动，曲面治具能够吸附曲面产品，无尘布清洗机构设置在机架上，无尘布清洗机构能够对曲面产品进行初步清洗，等离子清洗机构设置在机架上，等离子清洗机构能够对曲面产品进行等离子清洗。本实用新型公开的曲面清洗机增设的曲面治具能够吸附曲面产品，使曲面产品定位在曲面治具上，无尘布清洗机构能够对曲面产品进行初步清洗，等离子清洗机构能够对曲面产品进行等离子清洗，使得该曲面清洗机能够适用于清洗曲面产品
一种曲面清洗

[实用新型]一种腔体式等离子清洗机-CN201920273857.9有效
发明人：彭香玲;连立亭 -专利权人：无锡奥威赢科技有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种腔体式等离子清洗机，包括箱体，所述箱体侧壁安装有控制器，所述箱体从上到下依次设置有气体发生腔、清洗腔和工作腔，气体发生腔内部设置有气体发生器，所述气体发生器通过管道连接等离子发生器，所述等离子发生器安装等离子喷头，所述等离子发生器表面接触冷却设备子清洗机，工作时，气体发生器在控制器控制下将选定的工作气体用合适的气压吹送到等离子发生器内，等离子发生器再利用电源给工作气体以足够的能量而使工作气体达到极高温度并被高度电离，从而得到所需的等离子，形成等离子后再吹送到待清洗物体的表面，使待清洗物体表面在很短的时间内局部产生强烈的振动冲击波及高温，从而将污垢发生汽化或剥落。
等离子发生器气体发生器工作气体气体发生腔等离子清洗汽化等离子清洗机本实用新型等离子喷头控制器控制从上到下管道连接冷却设备内部设置物体表面箱体侧壁依次设置振动冲击控制器工作腔清洗机清洗腔再利用电离污垢剥落气压种腔电源

[实用新型]一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置-CN202021791983.2有效
发明人：王艳会;叶雨城;赵子淳;邹洁;鹿建;谢斌平 -专利权人：费勉仪器科技（南京）有限公司;费勉仪器科技（上海）有限公司
申请日： 2020-08-25 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置，包括电镜分析仪器腔体，电镜分析仪器腔体分别与真空规、RGA分析器、QCM膜厚控制仪和抽气泵连接，电镜分析仪器腔体还连接有等离子发生器，等离子发生器的输出端与电镜分析仪器腔体之间的连接管道上设置有朗缪尔探针，用以测量等离子发生器放电时产生的等离子参数，等离子发生器输出端的顶部设置有漏气阀，等离子发生器的输入端通过射频线与射频源主体连接。该用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置可以根据需要清洗腔体的类型和尺寸选择合适的放电功率，从而达到清洗污染物的目的，适用性更强；采用射频源激励产生等离子体对腔体内部进行清洗，对清洗腔体的内壁不会产生损伤
一种用于精密分析仪器等离子清洗装置

[发明专利]一种等离子清洗装置-CN202010162985.3有效
发明人：徐俊成;尹影;江伟;庞浩 -专利权人：北京烁科精微电子装备有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路制造技术领域，具体涉及一种等离子清洗装置。其包括清洗腔室，和与所述清洗腔室连通的气源装置，所述气源装置向所述清洗腔室内通入洁净气体，使所述清洗腔室处于正压状态，避免外部环境污染物进入到所述清洗腔室内，实现清洗腔室内微环境控制，保持等离子工艺腔室内的洁净度等级，达到避免清洗件等离子清洗后二次污染，提高等离子清洗工艺效果。
一种等离子清洗装置

[实用新型]清洗装置-CN201922272124.6有效
发明人：谭卓 -专利权人：深圳市爱科纳智能科技有限公司
申请日： 2019-12-14 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本申请属于自动加工技术领域，尤其涉及一种清洗装置，本申请的清洗装置，通过设置具有等离子清洗腔的装置，且该等离子清洗腔内设有能够对工件进行等离子清洗的清洗组件，便能将工件从清洗开口处伸入到等离子清洗腔内进行清洗，具体地，将该清洗开口开设于该清洗装置的顶部，可便于将工件从顶部置入，通过顶盖将该清洗开口封堵，使得清洗腔内为一密闭的空间，此时便能有效地对工件进行清洗，在工件等离子清洗完成之后，打开顶盖，再将工件从清洗腔内取出，这样，由于能够从清洗装置的顶部将工件安装和取出，可有效件简化机械化工具转运工件的行程，进而提高使用机械化工具转运工件的效率以及精准度。
清洗装置

[发明专利]引线清洗导向装置-CN200810005590.1无效
发明人：掘之正幸;藤田和雄 -专利权人：株式会社新川
申请日： 2008-02-14 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： H01L21/60 文献下载
摘要：本发明涉及引线清洗导向装置。设有等离子发生室(41)，从等离子用气体供给部(34)供给等离子用气体，从等离子发生用的高频电力供给部(32)供给高频电力，引线(12)通过设在等离子发生室(41)的绝缘套(43，45)的导向孔(44，引线(12)接地，在引线(12)和等离子发生室之间通以高频电力，在等离子发生室内部使得等离子用气体等离子化，清洗引线(12)。使得引线输出部侧导向孔(44)的孔径比焊接工具侧导向孔(46)的孔径大，以便使得从引线输出部侧的导向孔(44)流出的引线清洗后的气体流量比从焊接工具侧的导向孔(46)流出的引线清洗后的气体流量多。
引线清洗导向装置

[发明专利]一种无晶圆等离子腔室的清洗方法-CN202110478675.7在审
发明人：张卓民;苏兴才;李涵 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种无晶圆等离子腔室的清洗方法，其包含执行预定次数的循环，该循环包含以下步骤：氧清洗：在第一功率下，向等离子腔室内通入O2，以清除腔室内沉积的有机聚合物杂质；氟清洗：在第二功率下，向等离子腔室内通入O2及含氟气体，以清除腔室内沉积的无机或金属残余物；在第一功率下，向等离子腔室内通入O2，以清除氟清洗带来的含氟残留物，实现等离子腔室清洁环境的一致性；其中，第二功率小于第一功率。本发明将含氟的等离子体清洗引入到无晶圆状态下的干清洗过程中，采用大气体流量低功率的含氟气体的等离子体和O2等离子体循环清理，可对有机、无机残留物同时清理，避免对ESC造成损伤，适用于无晶圆等离子腔室的干清洗。
一种无晶圆等离子清洗方法

[发明专利]等离子处理装置用保护皮膜的清洗方法-CN202180017270.1在审
发明人：上田和浩;池永和幸 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-08-23 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供可靠性高的等离子处理装置用保护皮膜的清洗方法。作为其手段，是一种等离子处理装置用保护皮膜的清洗方法，该等离子处理装置用保护皮膜形成于配置在等离子处理装置的处理室内部的基材的表面，且包含对等离子具有耐受性的材料，其中，该等离子处理装置对载置于配置在真空容器内部的处理室内的处理对象的晶片使用在该处理室内形成的等离子进行处理，在该等离子处理装置用保护皮膜的清洗方法中，具有如下工序：(a)准备在表面具备含有钇的皮膜的基材；和(b)将基材浸渍到稀硝酸液中，通过对皮膜进行超声波照射来进行清洗，在(b)工序中，在清洗中检测钇的洗脱速度，在从开始超声波照射起的钇的洗脱速度依次经过了第1减少、第1增加、第2减少后，在发生第2增加前停止清洗。
等离子处理装置保护皮膜清洗方法

[发明专利]一种FPC板的等离子清洗方法-CN201510644242.9在审
发明人：胡珂珂;郑泽红 -专利权人：景旺电子科技(龙川)有限公司
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及FPC表面处理技术领域，尤其涉及一种FPC板的等离子清洗方法，主要包括以下步骤：步骤1：通入氮气、四氟化碳和氧气作为工作气体对FPC板进行等离子清洗；步骤2：通入氧气作为工作气体对FPC板进行等离子清洗本发明与现有技术相比有以下优点：1、采用气体作为清洗介质，避免了因使用液体溶剂清洗介质对FPC板带来的二次污染；2、经过等离子清洗之后的FPC板是干燥的，不需要再经干燥处理即可送下工序，可以提高整个工艺流水线的处理效率；3、经过等离子清洗之后的FPC板表面可以得到更好的改性，会提高FPC和铝基的结合力；4、等离子清洗相对常规清洗方法来说，会提高清洗效率，产率高，保证品质。
一种 fpc 等离子清洗方法