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[发明专利]一种SiC材料清洗方法-CN201310744030.9在审
发明人：陆敏;张昭;田亮;杨霏 -专利权人：国家电网公司;国网智能电网研究院
申请日： 2013-12-30 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及SiC器件的制作工艺，具体涉及一种SiC材料清洗方法。该方法包括SiC材料含氧混合等离子体氧化、氧化膜去除、常规无机清洗、常规有机清洗，关键的工艺改进是在氧等离子体氧化成膜过程中增加了其它含氧混合等离子体气体。本发明解决了以往只采用氧气等离子体氧化工艺的成膜效率低的问题，可以在SiC表面快速获得氧化物薄膜，该方法可以有效便捷的进行SiC材料清洗。
一种 sic 材料清洗方法

[发明专利]一种等离子自动清洗装置-CN201910933033.4在审
发明人：丁程 -专利权人：适新科技(苏州)有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： B41F35/00 文献下载
摘要：本发明的一种等离子自动清洗装置，包括操作室，操作室内设有操作面，操作室的一端设有自动丝印机，另一端设有人工放料位，自动丝印机与人工放料位之间设有等离子清洗机，操作面上方，操作面上转动设有转动盘，转动盘上设有若干用于放置产品的承托盘，自动丝印机、人工放料位和等离子清洗机均位于转动盘的上方，操作室远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架，收料架上设有成品收料盘，收料架旁设有用于夹起产品转移至成品收料盘的四轴机器人。该装置能够根据清洗需求控制清洗，避免一直开启等离子清洗机，节约了清洗气体和电能，并且可以避免人工触碰清洗后的产品，有利于提升产品表面的清洁度。
等离子清洗机自动丝印机操作室放料位收料架转动盘清洗等离子收料盘自动清洗装置清洁度四轴机器人自动清洗机产品表面产品转移清洗气体需求控制操作面承托盘触碰转动室内节约

[实用新型]一种等离子自动清洗装置-CN201921641306.X有效
发明人：丁程 -专利权人：适新科技（苏州）有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： B41F35/00 文献下载
摘要：本实用新型的一种等离子自动清洗装置，包括操作室，操作室内设有操作面，操作室的一端设有自动丝印机，另一端设有人工放料位，自动丝印机与人工放料位之间设有等离子清洗机，操作面上方，操作面上转动设有转动盘，转动盘上设有若干用于放置产品的承托盘，自动丝印机、人工放料位和等离子清洗机均位于转动盘的上方，操作室远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架，收料架上设有成品收料盘，收料架旁设有用于夹起产品转移至成品收料盘的四轴机器人。该装置能够根据清洗需求控制清洗，避免一直开启等离子清洗机，节约了清洗气体和电能，并且可以避免人工触碰清洗后的产品，有利于提升产品表面的清洁度。
一种等离子自动清洗装置

[实用新型]一种等离子清洗设备-CN201920649662.X有效
发明人：詹登星;韦水金 -专利权人：东莞市安达自动化设备有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子清洗设备，包括机架，设于所述机架上用于运输工件的传送通道，所述传送通道上方设有等离子枪头和带动等离子枪头位移的第一移动机构；所述机架上于传送通道的中间设有工件清洗台，所述工件清洗台的下方设有一控制工件清洗台上下位移的升降气缸，所述升降气缸固定于一旋转件上，一旋转马达带动所述旋转件、升降气缸和工件清洗台旋转。通过本实用新型能实现自动化地对工件进行清洗，同时可适用于流水线式生产，使得效率提高，增加利润；本实用新型设有一旋转马达，可带动工件旋转使等离子枪头可以对工件进行多边清洗；等离子枪头通过角度调节机构具有可以多角度对工件进行清洗的优点，使得清洗更加全面。
等离子枪头工件清洗本实用新型传送通道升降气缸清洗旋转马达旋转件角度调节机构等离子清洗工件旋转流水线式移动机构运输工件自动化利润生产

[实用新型]双重无接触式清洗处理系统-CN202020584700.0有效
发明人：罗弦 -专利权人：深圳市诚峰智造有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： B08B7/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双重无接触式清洗处理系统，包括第一线性移动机构、第二线性移动机构和滚轮传送机构，还包括第一干式超声清洗设备、第二干式超声清洗设备和等离子处理设备，第一干式超声清洗设备的下方对应设有第一吸附机构，第一线性移动机构带动所述第一吸附机构作线性运动；第二干式超声清洗设备的上方设有第二吸附机构，所述第二线性移动机构带动所述第二吸附机构作线性运动；所述等离子处理设备包括用于固定产品的固定机构和上下对应设置的第一等离子处理机构和第二等离子处理机构集超声波清洗设备和等离子清洗设备为一体，可进行多维度清洗，清洗效果好，且效率高。
双重接触清洗处理系统

[发明专利]等离子清洗机-CN202011013982.X在审
发明人：朱霆;叶贤斌;李文强;杨建新;张凯 -专利权人：深圳泰德半导体装备有限公司
申请日： 2020-09-23 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提出一种等离子清洗机。所述等离子清洗机包括清洗机本体、安装件、夹持治具及调节装置。其中，所述清洗机本体包括控制器；所述安装件安装于所述清洗机本体上；所述夹持治具安装于所述安装件上，所述夹持治具具有夹槽，所述夹槽的宽度可调；所述调节装置安装于所述夹持治具的一侧，所述调节装置与所述控制器电连接本发明的等离子清洗机，能够提高夹持治具的兼容性，以提高等离子清洗机的适用性。
等离子清洗

[实用新型]一种原位等离子体清洗和键合晶片的设备-CN201220005989.1有效
发明人：代盼;李鹏;黄寓洋;何巍;季莲;陆书龙;董建荣;杨辉 -专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请日： 2012-01-09 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶片清洗、键合技术，尤其是指一种能高效率完成清洗和键合操作的原位等离子体清洗和键合晶片的设备。这种设备包括真空键合装置（110），还包括等离子体清洗装置，所述等离子体清洗装置与真空键合装置（110）连通。本实用新型的有益效果在于：将等离子体清洗和晶片键合过程并入到同一腔室中实施，同时实现有效、高质量的晶片清洗、去氧化层和键合。
一种原位等离子体清洗晶片设备

[实用新型]等离子清洗机-CN202022117148.7有效
发明人：朱霆;叶贤斌;李文强;杨建新;张凯 -专利权人：深圳泰德半导体装备有限公司
申请日： 2020-09-23 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型提出一种等离子清洗机。所述等离子清洗机包括清洗机本体、安装件、夹持治具及调节装置。其中，所述清洗机本体包括控制器；所述安装件安装于所述清洗机本体上；所述夹持治具安装于所述安装件上，所述夹持治具具有夹槽，所述夹槽的宽度可调；所述调节装置安装于所述夹持治具的一侧，所述调节装置与所述控制器电连接本实用新型的等离子清洗机，能够提高夹持治具的兼容性，以提高等离子清洗机的适用性。
等离子清洗

[发明专利]玻璃表面清洗设备-CN201810408730.3在审
发明人：李圣根 -专利权人：信义汽车玻璃（深圳）有限公司
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明属于玻璃清洗设备技术领域，尤其涉及一种玻璃表面清洗设备，包括等离子装置、支撑装置、限高辅助装置和用于支撑玻璃的工作平台，所述支撑装置的固定安装于所述工作平台上，所述等离子装置上设有等离子发生头，所述等离子发生头固定安装于所述支撑装置上，所述限高辅助装置上设有限高杆，所述限高杆的顶端安装于所述支撑装置上且位于所述等离子发生头的侧部，所述限高杆的底端和所述等离子发生头均正对所述工作平台上。本发明的玻璃表面清洗设备，提高了塑胶板与五金支架安装的制造效率，明显提高产品安装后外观质量，同时采用本发明的玻璃表面清洗设备，有效地减少了底涂涂敷药品对人体的伤害。
等离子发生头玻璃表面清洗设备支撑装置工作平台等离子装置辅助装置限高杆限高玻璃清洗设备有效地减少产品安装顶端安装五金支架塑胶板底端底涂高杆涂敷正对玻璃伤害支撑制造

[实用新型]玻璃表面清洗设备-CN201820648712.8有效
发明人：李圣根 -专利权人：信义汽车玻璃（深圳）有限公司
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型属于玻璃清洗设备技术领域，尤其涉及一种玻璃表面清洗设备，包括等离子装置、支撑装置、限高辅助装置和用于支撑玻璃的工作平台，所述支撑装置的固定安装于所述工作平台上，所述等离子装置上设有等离子发生头，所述等离子发生头固定安装于所述支撑装置上，所述限高辅助装置上设有限高杆，所述限高杆的顶端安装于所述支撑装置上且位于所述等离子发生头的侧部，所述限高杆的底端和所述等离子发生头均正对所述工作平台上。本实用新型的玻璃表面清洗设备，提高了塑胶板与五金支架安装的制造效率，明显提高产品安装后外观质量，同时采用本实用新型的玻璃表面清洗设备，有效地减少了底涂涂敷药品对人体的伤害。
等离子发生头玻璃表面清洗设备支撑装置本实用新型工作平台等离子装置辅助装置限高杆限高玻璃清洗设备有效地减少产品安装顶端安装五金支架塑胶板底端底涂高杆涂敷正对玻璃伤害支撑制造

[实用新型]一种双面同时清理的等离子电路板清洗机-CN202222370402.3有效
发明人：邹军 -专利权人：深圳市普拉斯玛自动化设备有限公司
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双面同时清理的等离子电路板清洗机，包括清洗机构，所述清洗机构包括壳体、等离子体发生器、喷头、螺杆和压杆；所述壳体的右侧固定连接有等离子体发生器，所述等离子体发生器的出口延伸至壳体内连通并固定有竖管本实用新型电机通过螺杆带动竖板移动，竖板通过横杆对连接杆进行挤压，连接杆通过横块带动两个压杆移动对电路板进行夹紧固定，真空泵通过进气口将壳体内部的气体抽出，打开等离子体发生器，等离子体通过竖管通过喷头排出，活性粒子轰击待清洗的电路板表面，使污染物脱离电路板表面最终被真空泵吸走，能对电路板进行双面同时清理。
一种双面同时清理等离子电路板清洗

[实用新型]防指纹喷涂设备-CN201520358621.7有效
发明人：杨磊 -专利权人：深圳市顺安恒科技发展有限公司
申请日： 2015-05-28 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：一种防指纹喷涂设备，包括机箱、等离子清洗直线模组和喷枪直线模组，机箱设置在物料传输机构上，在机箱上设有进料口和出料口，等离子清洗直线模组和喷枪直线模组设置在机箱中；等离子清洗直线模组包括设置在物料传输机构的传输轨迹上方的第一导轨、第一滑块、第一电机和与等离子控制器连接的等离子清洗头，等离子清洗头与第一滑块连接；喷枪直线模组包括设置在传输轨迹上方的第二导轨、第二滑块、第二电机和通过连接管道与喷涂液存储装置连接的涂料进料装置，在涂料进料装置上设有喷枪头
指纹喷涂设备

[实用新型]一种可自动翻转的等离子电路板清洗机-CN202222648092.7有效
发明人：邹军 -专利权人：深圳市普拉斯玛自动化设备有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种可自动翻转的等离子电路板清洗机，包括机体组件，所述等离子清洗机壳的内顶壁安装有若干个等离子发射器，所述等离子清洗机壳的前表面一侧安装有时控开关。本实用新型通过电缸推动一个侧板带动限位板和置放板同步移动，通过两个置放板和两个限位板对电路板的底部和两侧限位并固定，增加限位翻转组件对电路板进行翻转清洗时的稳定性及可适用于不同规格的电路板，然后在清洗时并等到时控开关所设定的时间后，控制马达带动一个限位板转动，由一个限位板通过外筒体和内筒体带动另一个限位板转动，使固定在置放板上的电路板进行翻转，进而通过等离子发射器对电路板的另一面进行清洗，使等离子清洗机对电路板的清洗彻底充分。
一种自动翻转等离子电路板清洗

[实用新型]一种用于核电线圈绕组扁平铜线的等离子体清洗装置-CN202221277698.8有效
发明人：刘伟;庄百亮;陈欣吕 -专利权人：中国机械总院集团江苏分院有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B21C43/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于核电线圈绕组扁平铜线的等离子体清洗装置，其特征在于：本实用新型包括等离子体喷射头组件、喷头自动调整装置、等离子体发生电源、表面检测装置、负压净化装置、控制系统、支撑组件组成。核电线圈用的铜线经过挤压设备拉丝成型之后，经过等离子喷射头所喷射的等离子区，利用高能等离子体轰击铜线表面的污渍，使污渍分解脱离铜线表面，经负压净化装置将污渍吸附到净化装置内，表面质量检测装置将检测数据上传数据系统本实用新型的有益之处在于：使用等离子物理干法清洗方法，清洗效果更优的同时此方法更为绿色，产品尺寸小，易于线上集成。
一种用于核电线圈绕组扁平铜线等离子体清洗装置

[发明专利]一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机及清洗工艺-CN202110532363.X有效
发明人：刘伟波 -专利权人：滨州学院
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机，包括清洗腔和设置在清洗腔内部的等离子体清洗机构、下位支撑件、上位夹持件，下位支撑件包括下位伸缩电缸和支撑板，本发明还公开了一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机的清洗工艺，包含以下步骤；待清洗陶瓷件的放入及初清洗过程；待清洗陶瓷件的位置调整过程；待清洗陶瓷件的再清洗过程；陶瓷件的取出过程，此发明通过在离子体清洗机的清洗腔内部设置等离子体清洗机构、下位支撑件、上位夹持件等结构，并将下位支撑件设置成由下位伸缩电缸和支撑板构成，并将上位夹持件设置成由上位伸缩电缸、上位支架和夹持组件组合构成，从而通过对陶瓷体进行二次清洗，从而保证其清洗效果。
一种陶瓷印刷表面处理工用等离子体清洗工艺