专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种电芯清洗-CN202022776822.2有效
  • 张凯奇;刘虔昊;赵爱鑫;高天宇;王振光;安洪力 - 天津荣盛盟固利新能源科技有限公司
  • 2020-11-26 - 2021-07-30 - B08B7/00
  • 一种电芯清洗台,包括:支架,支架包括支架本体和支撑板,支撑板设于支架本体内;电芯承载组件,电芯承载组件包括一对第一滑轨和承载托盘,其中,一对第一滑轨设于支撑板的上表面,承载托盘可滑动地连接于一对第一滑轨,承载托盘用于承载电芯;驱动组件,驱动组件设于支架本体上;等离子发生器,等离子发生器连接于驱动组件以便在驱动组件的驱动下运动,等离子发生器的等离子输出口朝向承载托盘。在实际对电芯清洗中,将多个电芯放置于承载托盘上,驱动组件带动等离子发生器,等离子发生器发出的等离子体对电芯进行有效清洗清洗效果较好且清洗成本低廉,有效降低了锂电池的生产成本。
  • 一种清洗
  • [发明专利]调控等离子体反应腔室环境的方法-CN201310752645.6在审
  • 罗巍;符雅丽;陈永远 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2013-12-31 - 2015-07-01 - H01J37/32
  • 本发明公开了一种调控等离子体反应腔室环境的方法,包括:在晶圆进入等离子体反应腔室前,在等离子体反应腔室的内壁和位于等离子体反应腔室内部的基片台的表面制备富碳材料涂层;在晶圆在等离子体反应腔室中完成等离子体加工处理并离开等离子体反应腔室后,向等离子体反应腔室中通入第一清洗气体,去除等离子体加工处理过程中吸附在富碳材料涂层表面的反应产物;向等离子体反应腔室中通入第二清洗气体,去除等离子体反应腔室的内壁和基片台表面的富碳材料涂层,使等离子体反应腔室恢复到清洁状态上述方法在维持了较好的工艺稳定性的同时,能够延长平均清洗时间间隔和零部件的使用寿命。
  • 调控等离子体反应环境方法
  • [实用新型]一种真空等离子清洗-CN201921975022.4有效
  • 何国栋 - 深圳中舜伟迅科技有限公司
  • 2019-11-15 - 2020-07-31 - B08B7/00
  • 本实用新型提供一种真空等离子清洗机,涉及等离子领域。该真空等离子清洗机,包括底架,所述底架的上表面固定安装有机体,所述机体的内壁固定安装有第一搁板,所述第一搁板的上表面固定安装有射频电源,所述射频电源的一侧固定安装有软管,所述机体的一侧固定安装有第二搁板该真空等离子清洗机,通过设置有第一搁板,可为射频电源提供安装位置,方便了射频电源的安装,通过设置有射频电源,射频电源可对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态,通过软管注入到等离子发射器内,通过设置有等离子发射器,可对被清洗物的表面进行冲刷,被清洗表面的污染物可被彻底清洗掉。
  • 一种真空等离子清洗
  • [发明专利]一种晶圆清洗方法及晶圆清洗设备-CN202010266188.X有效
  • 江伟;尹影;庞浩;徐俊成 - 北京晶亦精微科技股份有限公司
  • 2020-04-07 - 2023-05-19 - H01L21/02
  • 本发明提供一种晶圆清洗方法及晶圆清洗设备,属于半导体制造技术领域;所述晶圆清洗方法,包括如下步骤:S1:将晶圆放置在等离子清洗装置的真空腔体中,向真空腔体中通入惰性气体,使惰性气体在高压交变电场作用下生成等离子体,并释放出紫外光,等离子体适于对晶圆表面的残留物进行清洗;S2:紫外光产生后,向等离子清洗装置的真空腔体中通入氧化性气体。本发明的利用等离子体的物理轰击清洗与强氧化气体的氧化清洗结合,不仅清洗效果好,还无废液产生、节能环保。
  • 一种清洗方法设备
  • [实用新型]一种等离子清洗机的气流导流结构-CN202022495114.1有效
  • 郭峰;王宇 - 昆山普乐斯电子科技有限公司
  • 2020-11-02 - 2021-07-20 - B08B7/00
  • 本实用新型涉及一种等离子清洗机的气流导流结构,属于等离子清洗技术领域;其设置在等离子清洗机上,等离子清洗机包括箱门以及箱体,其特征在于:所述箱体内设置有多个清洗舱室,所述箱门上设置有进气装置,所述箱体上设置有抽气装置,所述进气装置与抽气装置均能够连通至清洗舱室内,所述进气装置包括多个进气孔,每个清洗舱室均对应有进气孔,所述抽气装置包括导流夹层,所述导流夹层包括多个导流板,每个导流板上均阵列分布有多个贯通的抽气孔,每个导流板上的抽气孔孔径均不一致;本实用新型提供了一种等离子清洗机的气流导流结构,气体流向分布均匀,电离效果较好,清洗效果较好。
  • 一种等离子清洗气流导流结构
  • [发明专利]一种双通道等离子清洗-CN202310411739.0在审
  • 王学军;赵威 - 普洛赛斯(苏州)智能装备有限公司
  • 2023-04-17 - 2023-06-30 - H05K3/26
  • 本发明涉及一种双通道等离子清洗机,特别涉及等离子清洗技术领域,解决目前人工对FPC板清洗容易对FPC板污染或者损坏的技术问题。该双通道等离子清洗机包括机架、上料组件、传送组件、等离子清洗组件以及下料组件,其中机架具有安装面;上料组件安装在安装面上;两组传送组件安装在安装面上,两组传送组件带动FPC板沿第一方向运动,上料组件沿第二方向延伸;等离子清洗组件安装在安装面上,并位于传送组件上方;下料组件安装在安装面上,下料组件沿第二方向运动。因此,该双通道等离子清洗机能够持续向传送组件上料以及将清洗完成的FPC板进行下料,减少了对FPC板污染和损坏的可能性,同时,上料组件通过向两组传送组件上料,提高了对FPC板的清洗效率。
  • 一种双通道等离子清洗
  • [实用新型]一种实验室专用玻璃表面等离子清洗装置-CN202020375522.0有效
  • 桂园;甄真真;田银玲 - 洛阳古洛玻璃有限公司
  • 2020-03-23 - 2020-11-17 - B08B7/00
  • 本实用新型公开了一种实验室专用玻璃表面等离子清洗装置,包括清洗箱和等离子发生器,所述等离子发生器的发生端安装在清洗箱的内部,清洗箱的外侧表面设置有控制开关组,控制开关组的输入端与外置电源的输出端电连接,等离子发生器的输入端与控制开关组的输出端电连接,所述清洗箱的两侧表面分别开设有玻璃进口和玻璃出口。本实验室专用玻璃表面等离子清洗装置,通过可翻转玻璃的移动机构对玻璃进行移动和翻转,只需要一个等离子发生器即可对玻璃进行双面清洗,减小了装置体积,降低了使用和维护成本,同时在清洗后可以通过设置在清洗箱上的检测机构即时检测
  • 一种实验室专用玻璃表面等离子清洗装置
  • [实用新型]一种清洗烘干一体的等离子电路板清洗-CN202222370391.9有效
  • 邹军 - 深圳市普拉斯玛自动化设备有限公司
  • 2022-09-07 - 2022-12-02 - B08B7/00
  • 本实用新型提供了一种清洗烘干一体的等离子电路板清洗机,包括清洗组件和固定组件,所述清洗组件包括清洗机机体、转动柱、圆板、放置座、第一电机、齿轮、齿环、等离子发生器、连接软管、等离子喷头、螺杆、螺母座、第二电机本实用新型通过将电路板放置于放置座上,借助等离子发生器和等离子喷头可对电路板进行清洗,通过第二电机的输出轴一端转动可带动螺杆转动,使螺母座沿螺杆的外侧壁移动,从而带动等离子喷头移动,对电路板的不同位置进行清洗,通过第一电机的输出轴一端转动可带动齿轮转动,继而可带动齿环和转动柱转动,从而使电路板转动,对电路板进行360度清洗,使清洗工作更加全面彻底。
  • 一种清洗烘干一体等离子电路板
  • [实用新型]一种循环清洗等离子电路板清洗-CN202222648985.1有效
  • 邹军 - 深圳市普拉斯玛自动化设备有限公司
  • 2022-10-08 - 2023-01-06 - B08B13/00
  • 本实用新型提供了一种循环清洗等离子电路板清洗机,包括循环组件,所述循环组件包括清洗台、侧板、定位杆、U形板、方杆、铰接杆、支撑板、电机、圆板、转动杆、L形板、等离子发射器、等离子喷头;所述清洗台的顶部焊接有两个侧板本实用新型等离子发射器通过等离子喷头对电路板进行清洗,电机带动圆板转动,圆板通过转动杆带动铰接杆移动,使铰接杆通过方杆带动U形板移,进而使U形板带动多个电路板向右移动通过等离子喷头进行清洗,通过电机持续工作带动电路板循环左右移动进行往复均匀清洗,提高对电路板的清洗效率及清洗效果。
  • 一种循环清洗等离子电路板

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