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[发明专利]单次多点同时测量的激光诱导击穿光谱系统及测量方法-CN201811104992.7在审
发明人：朱瑜;周平伟;钟森城;彭琛;李江;朱礼国 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本发明公开了一种单次多点同时测量的激光诱导击穿光谱系统及测量方法，该系统包括：激光激发与收集子系统，用于输出激光脉冲并将激光脉冲聚焦成线光斑，收集样品光斑位置产生的等离子体发光并成像到光纤传输与分光子系统；光纤传输与分光子系统，用于对等离子体发光像进行传输并将不同波长的光散开；数据采集与处理子系统，用于将等离子体发光像呈现出来并分析不同位置等离子体发光光谱；电路控制子系统，用于向激光激发与收集子系统和数据采集与处理子系统发送控制信号本发明不仅增大了样品测量空间范围，提高了诊断效率，而且缩短了样品测量时间，适用于固体、液体、气体、粉尘等不同领域多点诊断应用。
等离子体发光测量激光诱导击穿光谱数据采集与处理分光子系统光纤传输激光激发样品测量等离子体发光光谱输出激光脉冲光斑电路控制发送控制光斑位置激光脉冲时间同步诊断应用散开波长成像粉尘聚焦传输诊断分析

[发明专利]一种用于测量局部等离子体的光学诊断探头及其测量方法-CN202010786656.6有效
发明人：汤海滨;齐佳运;张广川;张尊 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于测量局部等离子体的光学诊断探头及其测量方法，包括光纤探头、陶瓷套、石英芯和保护套，所述陶瓷套一端为测量端，所述陶瓷套的另一端为配合端，所述陶瓷套的内部形成有测量腔，所述陶瓷套的测量端开设有圆形通孔，待测局部位置的等离子体通过所述圆形通孔进入所述陶瓷套内部的测量腔，所述石英芯设置在所述陶瓷套的测量腔中，用于传播等离子体产生的光，同时避免射频放电在陶瓷管内部产生等离子体对测量结果的影响，所述保护套可拆卸的套设在陶瓷套配合端的外部,所述光纤探头设置在所述保护套的内部，且与陶瓷套配合端可拆卸连接，通过陶瓷套测量端的圆形通孔缩小光纤探头的测量范围，提高光学诊断的空间分辨率。
一种用于测量局部等离子体光学诊断探头及其测量方法

[发明专利]一种射频放电等离子体诊断装置-CN201110003263.4无效
发明人：陆文琪;王友年;邓新绿;徐军;董闯 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2011-01-08 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及到一种射频放电等离子体诊断装置，属于等离子体科学与技术领域，用于诊断射频放电等离子体，能够克服射频放电，特别是两个以上射频同时放电时存在的射频扰动，获得电子密度和电子温度等参数。其特征是由探测器和伺服系统构成，其中，探测器由金属制成的探针、基电极和参考电极组成，基电极为环形，与所在位置放电电场的等势面平行放置，探针位于环形基电极的中心，参考电极可位于等离子体中的任何位置，基电极表面积大于探针表面积的
一种射频放电等离子体诊断装置

[实用新型]单次多点同时测量的激光诱导击穿光谱系统-CN201821562705.2有效
发明人：朱瑜;周平伟;钟森城;彭琛;李江;朱礼国 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单次多点同时测量的激光诱导击穿光谱系统，该系统包括：激光激发与收集子系统，用于输出激光脉冲并将激光脉冲聚焦成线光斑，收集样品光斑位置产生的等离子体发光并成像到光纤传输与分光子系统；光纤传输与分光子系统，用于对等离子体发光像进行传输并将不同波长的光散开；数据采集与处理子系统，用于将等离子体发光像呈现出来并分析不同位置等离子体发光光谱；电路控制子系统，用于向激光激发与收集子系统和数据采集与处理子系统发送控制信号本实用新型增大了样品测量空间范围，提高了诊断效率，缩短了样品测量时间，适用于固体、液体、气体、粉尘等不同领域多点诊断应用。
等离子体发光激光诱导击穿光谱数据采集与处理本实用新型分光子系统光纤传输激光激发样品测量测量等离子体发光光谱输出激光脉冲光斑电路控制发送控制光斑位置激光脉冲时间同步诊断应用散开波长成像粉尘聚焦传输诊断分析

[发明专利]一种等离子体处理装置-CN202011278984.1在审
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置

[实用新型]一种等离子体处理装置-CN202022643438.5有效
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置

[发明专利]等离子体发生装置-CN201380081635.2有效
发明人：朴宰范 -专利权人：应用等离子体株式会社
申请日： 2013-12-11 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明公开等离子体发生装置。根据本发明一实施例的等离子体发生装置包括：等离子体发生模块，用于发生等离子体；以及旋转体，具有至少一个等离子体喷嘴，上述至少一个等离子体喷嘴用于将通过上述等离子体发生模块发生的等离子体吹向外部，上述旋转体与上述等离子体发生模块分开设置，且以能够旋转的方式配置于上述等离子体发生模块的外侧。
等离子体发生装置

[发明专利]确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法-CN202210144478.6在审
发明人：陈光明;曹建峰;李勰;陈略;张晓芳;满海钧;高红;刘舒莳;谭永政;高峰 -专利权人：北京航天飞行控制中心
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本公开提供一种确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法，确定行星际等离子体密度总含量的方法包括：获取行星际等离子体在观测点处的等离子体密度和等离子体速度；根据等离子体速度，确定对行星际等离子体的初始观测时刻；根据等离子体密度，确定行星际等离子体密度总含量。根据本公开的确定行星际等离子体密度总含量及电波路径延迟的方法解决了无法准确确定行星际等离子体所引起的电波折射的问题，可以基于实测等离子体密度和速度，计算观测点与深空探测器间的等离子体密度总含量，从而确定等离子体引起的电波路径延迟
确定行星等离子体密度含量电波路径延迟方法

[发明专利]大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置-CN201610712284.6有效
发明人：陈选章;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体清洗设备，具体为一种大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置，包括低温等离子体激励部分和低温等离子体发生装置；所述低温等离子体激励部分包括低温等离子体电源发生器，低温等离子体变压器；低温等离子体发生装置包括两只电极，所述低温等离子体电源发生器通过等离子体变压器与两只等离子体电极相连；低温等离子体发生装置还包括低温等离子体电极间隙调整装置、等离子体电极固定端板、整体金属方形支架，和散热排风的接口
大气常压输出激励低温等离子体玻璃清洗装置

[发明专利]智能化等离子体刷系统及其实现方法、装置、存储介质-CN202210998359.7有效
发明人：常华梅;方志;金珊珊;刘诗筠;赵亚军;时贞平 -专利权人：江苏容正医药科技有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本说明书实施例提供一种智能化等离子体刷系统及其实现方法、装置、存储介质，该系统包括输入装置、电源装置、等离子体生成装置、等离子体刷、移动装置、摄像装置，以及控制器；电源装置用于对智能化等离子体刷系统进行供电；等离子体生成装置用于生成等离子体；等离子体刷用于发射等离子体；移动装置连接等离子体刷，移动装置用于接收等离子体刷的移动指令，并带动等离子体刷移动至目标区域；控制器用于从输入装置获取目标区域，并控制等离子体刷在移动装置的带动下移动至目标区域；从摄像装置获取第一图像，基于第一图像确定等离子体刷的等离子体参数以及治疗时间。
智能化等离子体系统及其实现方法装置存储介质

[发明专利]等离子体分布监测装置及方法-CN202010831196.4在审
发明人：杨宏旭 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本申请涉及半导体技术领域，具体涉及一种等离子体分布监测装置及方法。等离子体分布监测装置包括：电压可调电源和多个等离子体探针，多个等离子体探针对称地分布在等离子刻蚀机反应室的外周；等离子体探针包括工作端和检测端；电压可调电源连接等离子体探针的检测端，用于给等离子体探针施加可变电压；等离子体探针的工作端伸入等离子刻蚀机的反应室中，用于探测反应室中的等离子体。本申请提供的等离子体分布监测装置及方法，通过多个等离子体探针在各个位置，对称地探测反应室中的等离子体，能够多方位判断等离子体在反应室中的分布情况，为判断等离子体分布均匀性的判断提供依据。
等离子体分布监测装置方法

[发明专利]等离子体水处理方法及其装置-CN200810020181.9有效
发明人：汪峰 -专利权人：汪峰
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： C02F1/30 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体水处理方法及其装置。等离子体水处理方法，包括以下步骤：将待处理水通入等离子体反应器内；接通等离子体反应器的气源；接通等离子体反应器的电源，等离子体反应器产生等离子体，利用等离子体对水进行处理；将处理后的水排出。等离子体水处理装置，包括等离子体反应器，等离子体反应器上设置进水口及出水口，等离子体反应器上装置至少一对等离子放弧枪，等离子放弧枪相对设置并与气源及电源连接。本发明提供了一种可连续生产、效率高的等离子体水处理方法，并且提供了一种结构简单的等离子体水处理装置。
等离子体水处理方法及其装置

[发明专利]等离子体刻蚀装置-CN201911000922.1在审
发明人：赵博超;施洋;郑江楠 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：本申请涉及半导体加工设备技术领域，具体涉及一种等离子体刻蚀装置。本申请实施例提供了一种等离子体刻蚀装置，包括反应腔，反应腔内设置有:静电吸盘，静电吸盘用于吸附待处理晶片；等离子体束释放口，等离子体束缚口用于形成轰击待处理晶片的等离子体束；电场发生器，电场发生器用于产生电场；当等离子体刻蚀装置工作时，反应腔内形成有磁场，磁场沿着等离子体束的径向延伸；电场沿等离子体束的轴向延伸。本申请通过电场轴向穿过等离子体束，磁场径向穿过等离子体束，从而使得等离子体束中会形成环向等离子体流，使得等离子体束中的等离子体分布均匀，提高等离子体束的稳定性。
等离子体束等离子体刻蚀装置电场反应腔待处理晶片电场发生器静电吸盘磁场申请半导体加工设备等离子体分布等离子体等离子体流磁场径向径向延伸轴向穿过轴向延伸释放口轰击环向吸附穿过束缚

[发明专利]用于设置具有自适应等离子体源的等离子体室的方法、使用该等离子体室的等离子体蚀刻方法和用于自适应等离子体源的制造方法-CN200480038583.1无效
发明人：宋荣洙;吴相龙;金升基;金南宪;吴荣根;李堵汉 -专利权人：自适应等离子体技术公司
申请日： 2004-12-22 - 公布日： 2007-01-17 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：这里所公开的是一种用于在等离子体室中生成等离子体的等离子体室设置方法。制备多个等离子体线圈，包括第一等离子体源线圈、第二等离子体源线圈和第三等离子体源线圈，该第二等离子体源线圈在其中心部分具有高于第一等离子体源线圈蚀刻速率的蚀刻速率，该第三等离子体源线圈在其边缘部分具有高于第一等离子体源线圈蚀刻速率的蚀刻速率将第一等离子体源线圈设置在等离子体室上，并蚀刻测试芯片。对测试芯片的每个位置的蚀刻速率进行分析，并基于分析结果利用第二等离子体源线圈或第三等离子体源线圈代替第一等离子体源线圈。
用于设置具有自适应等离子体方法使用蚀刻制造

[实用新型]等离子体设备-CN202223424556.2有效
发明人：王思宇;郭东;张赛谦 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体设备，涉及等离子体处理技术领域。该等离子体设备包括电源装置、匹配装置、主等离子体装置和远程等离子体装置；电源装置和匹配装置均位于远程等离子体装置外；匹配装置内设有切换开关，电源装置和切换开关连接；主等离子体装置设有第一通电端，远程等离子体装置设有第二通电端该等离子体设备通过将电源装置和匹配装置均外置于远程等离子体装置外可以有效节约远程等离子体设备的内部空间、减小远程等离子体设备的体积和重量，且该等离子体设备通过切换开关可以择一向主等离子体装置和远程等离子体装置供电，保证主等离子体装置和远程等离子体装置分别可以正常工作。
等离子体设备

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