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[发明专利]等离子体足部理疗机-CN201710591146.1在审
发明人：王雨蓬;李毅;李双豆;杨锡信;赵龙;周磊;赵国柱 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体足部理疗机，包括等离子体发生器升降装置(1)、等离子体发生器(2)、等离子体足部理疗箱(3)、抽气系统(4)、触摸控制系统(5)、气源(6)和电源(7)，所述等离子体发生器升降装置(1)设置在等离子体发生器(2)下部并连接控制等离子体发生器(2)上升下降，等离子体发生器(2)设置在等离子体足部理疗箱(3)下方并与等离子体足部理疗箱(3)相连。本发明的等离子体足部理疗机产生的等离子体，具有杀菌消毒作用，对于大多数的皮肤疾病具有显著治疗效果，同时等离子体能大幅提高人体免疫能力，具有防病保健的效果，并且能够加速脚部血液循环，促进新陈代谢，缓解疲劳
等离子体足部理疗

[发明专利]测量等离子体频率监控等离子体处理系统中处理的方法和装置-CN200580039838.0无效
发明人：程家成;蒂莫西·J·吉尼;拉奥·安纳普拉加达;苏布哈什·德希穆克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2005-09-23 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：公开了一种用于在具有处理室的等离子体系统中原位监控处理的方法。该方法包括在等离子体处理室中定位衬底。该方法还包括在将衬底设置在等离子体处理室内时在等离子体处理室中撞击等离子体。该方法进一步包括获得撞击等离子体之后存在的测量等离子体频率，该等离子体频率值具有当等离子体不存在时的第一值以及当等离子体存在时的不同于第一值的至少一个第二值。该方法还包括如果等离子体频率值在预定等离子体频率值包络之外，则使测量等离子体频率值与处理的属性相关。
测量等离子体频率监控等离子体处理系统方法装置

[发明专利]涂覆的基板的等离子灰化-CN201980069982.0在审
发明人： R·阿斯金;S·克兰西;J·珍妮克;B·劳伦斯 -专利权人： HZO股份有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：一种用于对基板上的涂层进行等离子体蚀刻或灰化的系统包括等离子体室、第二电极、耦合至等离子体室的等离子体源、包括涂层的基板以及包括至少一个孔的等离子体掩模。等离子体室包括第一电极。等离子体掩模被配置成用于覆盖基板，同时通过至少一个孔暴露基板和所述涂层的选定表面。第一电极和第二电极被配置成用于在等离子体室内引发并维持等离子体。等离子体源包括气体。
等离子灰化

[发明专利]一种等离子体处理装置-CN202011491408.5在审
发明人：邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板，所述等离子体通道板包括：等离子体通道板主体；环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件；位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环；位于所述等离子体通道板主体上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤以及等离子体通道板接地不良的问题。
一种等离子体处理装置

[发明专利]等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法-CN201310523249.6有效
发明人： R.库马;S.N.帕尔瓦迪;S.S.帕楚努里 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2013-10-30 - 公布日： 2017-06-23 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法。更具体而言，一种等离子体生成装置组件(302)包括基体(308)，该基体包括顶表面(310)。等离子体生成装置组件还包括等离子体生成装置(206)和多个联接部件(326)。等离子体生成装置包括多个等离子体生成装置端子(324)。等离子体生成装置定位于顶表面上，并且配置成在等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体。多个联接部件配置成将等离子体生成装置联接到顶表面。
等离子体生成装置组件电弧缓解组装方法

[实用新型]一种等离子体处理装置-CN202023050801.9有效
发明人：邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板，所述等离子体通道板包括：等离子体通道板主体；环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件；位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环；位于所述等离子体通道板主体上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤以及等离子体通道板接地不良的问题。
一种等离子体处理装置

[发明专利]处理基板边缘缺陷的等离子体系统及方法-CN201810685888.5有效
发明人：徐瑞美;翁志强;蔡陈德;李祐升 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种处理基板边缘缺陷的等离子体系统及方法，等离子体系统包括一等离子体源与一承载装置；等离子体源包含至少一等离子体产生单元；承载装置用以输送至少一基板相对于等离子体源移动，以进出一等离子体作用区；基板具有待处理区域，等离子体源是于等离子体作用区内对于待处理区域提供一等离子体束，且等离子体束的行进方向实质上平行于基板的表面；移动基板进入等离子体作用区，通过等离子体源提供待处理区域一具温度梯度(Thermal gradient
处理边缘缺陷等离子体系统方法

[发明专利]等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置-CN202211324391.3在审
发明人：李炫周;南象基;曹永贤 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻装置包括等离子体电极、在等离子体电极上的等离子体边缘环、以及在等离子体电极上在蚀刻对象外侧的引导电极。等离子体边缘环提供垂直穿透等离子体边缘环的中心的放置孔、以及在限定放置孔的内侧表面的一部分上的凹陷。凹陷从内侧表面向外凹入。
等离子体边缘包括蚀刻装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN200610058370.6无效
发明人：里吉务;山本浩司;田中勇一郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-03-03 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，在等离子体处理装置的处理室内的等离子体密度局部偏高的部位插入屏风部件，使等离子体失去活性，使等离子体密度均匀化。其特征在于，在等离子体处理装置(1)中，在处理室(3)内的等离子体密度局部偏高的部位上，设置使等离子体失去活性的屏风部件，使对被处理基板(G)的等离子体蚀刻率均匀化。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体诊断设备及方法-CN200680041101.7无效
发明人：郑进旭;李敏馨;张圣虎 -专利权人：韩国标准科学研究院;郑进旭
申请日： 2006-10-02 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了一种包括插入到等离子体中或置于等离子体的边界处的探针单元的等离子体诊断设备，所述设备包括：信号提供单元，具有信号提供源；电流检测/电压转换单元，用于将从信号提供单元施加的周期性电压信号施加到探针单元
等离子体诊断设备方法

[发明专利]基于大气压冷等离子体的茶叶农残降解与消毒装置及方法-CN202110423841.3有效
发明人：赵彤;王梓宸;邹亮;王晓龙;张远涛;孙滢;吕悦 -专利权人：山东大学
申请日： 2021-04-20 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本公开公开的基于大气压冷等离子体的茶叶农残降解与消毒装置及方法，包括：等离子体处理仓和大气压冷等离子体制备装置，大气压冷等离子体制备装置与等离子体射流阵列连接，等离子体射流阵列经旋转驱动装置安装于等离子体处理仓内壁上，旋转驱动装置驱动等离子体射流阵列沿等离子体处理仓径向摆动，大气压冷等离子体制备装置制备的大气压冷等离子体经等离子体射流阵列进入等离子体处理仓内，对茶叶进行农残降解与消毒杀菌。利用大气压冷等离子体对茶叶进行农残降解及杀菌消毒，实现了茶叶表面农药残留的降解以及细菌真菌等微生物的杀灭，同时不会对茶叶本身状态与口感产生破坏。
基于大气压等离子体茶叶降解消毒装置方法

[发明专利]一种等离子体源以及镀膜机-CN201710054054.X有效
发明人：张诚;陈亮 -专利权人：北京丹华科技发展有限公司
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体源，该等离子体源包括：壳体；等离子体生成室，设置在壳体内，用于提供等离子体的生成区域；气体供给装置，与等离子体生成室连接，用于向等离子体生成室中供给工艺气体；电极，设置在等离子体生成室外靠近等离子体生成室的位置，用于电离工艺气体以生成等离子体；第一磁体和第二磁体，用于在等离子体生成室内生成磁场，第一磁体和第二磁体分别设置在等离子体生成室外靠近其侧壁和底面；栅网结构，设置在等离子体生成室的开口处，用于拉出离子以及对离子加速实施本发明可以有效提高等离子体的离化效率以及对离子能量进行控制。
一种等离子体以及镀膜

[发明专利]选择性控制等离子体的离子组成物的系统和方法-CN201080029436.3有效
发明人：卡莫尔·哈迪德;拉杰许·都蕾;伯纳德·G·琳赛;维克拉姆·辛;乔治·D·帕帕守尔艾迪斯 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2010-06-25 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：一种调整等离子体的组成物的方法，用于等离子体掺杂、等离子体沉积和等离子体蚀刻技术中。所揭示的方法可藉由修饰等离子体中所存在的电子的能量分布来控制等离子体的组成物。使用很快的电压脉冲使等离子体中的电子加速，以便在等离子体中产生有能量的电子。该脉冲需足够长以影响电子，但太短将不能对离子造成显著影响。有能量的电子和等离子体组成物之间的碰撞，造成等离子体组成物中的变化。等离子体组成物然后可最佳化，以符合所使用的特定工艺的需求。这意味着能使等离子体中离子物种的比例改变、使离子化相对于分解的比例改变、或使等离子体的激发状态群改变。
选择性控制等离子体离子组成系统方法

[发明专利]一种高时间分辨的质谱检测设备及应用-CN201811627273.3有效
发明人：吴忠振;肖舒;刘亮亮;马正永;林海;潘锋 -专利权人：北京大学深圳研究生院
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种高时间分辨的质谱检测设备，包括依次电连接的电容模块、信号转换器以及质谱仪；所述质谱仪用于分析等离子体的粒子种类、能量；所述电容模块，用于接受待测试系统中的脉冲模拟信号，进行脉冲反相交换，并输出控制信号；所述信号转换器，用于确定数据采集的起始位置，进而获得一个脉冲内的等离子体质谱信号。本发明的高时间分辨的质谱检测设备可用于跟踪脉冲放电等离子体质谱信号，测试脉冲放电的瞬态等离子特性，进行等离子体诊断，研究普通质谱仪无法检测的瞬态过程。
一种时间分辨检测设备应用

[发明专利]一种等离子体产生装置及清洗设备-CN202211389445.4在审
发明人：张鹏;卢礼华;高强;关宇珩;赵航;曹永智;陈家轩 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及等离子清洗技术领域，提供一种等离子体产生装置及清洗设备，所述等离子体产生装置为内部中空结构，等离子体产生装置适于嵌套在待清洗工件外且与待清洗工件可拆卸式连接，以及，等离子体产生装置适于与待清洗工件合围形成真空室，真空室适于工作气体与等离子体共用，防止等离子体产生装置在产生等离子体过程中与待清洗工件分离，无需等离子体产生装置与待清洗工件发生相对移动，即可促使等离子体对等离子体产生装置和待清洗工件进行大面积清洗，兼顾了待清洗工件在等离子体产生装置中的可拆装性和稳定性，有助于为等离子体扩展清洗面积和降低等离子体大面积清洗待清洗工件的难度。
一种等离子体产生装置清洗设备