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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]静电吸盘-CN201810270110.8在审
发明人：上藤淳平;佐佐木均;山口康介;前畑健吾;吉井雄一;糸山哲朗 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。
加热器元件陶瓷电介体基板处理对象物加热器板静电吸盘基座板主面发热温度分布电极层均匀性折曲流动垂直观察支撑

[发明专利]静电吸盘-CN201810503741.X在审
发明人：姜祎祎;吴人杰 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种静电吸盘，主要包括底座、陶瓷体及层叠体，层叠体位于底座及陶瓷体之间，层叠体包括密封结构及加热结构等，密封结构环绕加热结构，并且，密封结构靠近底座一侧的面积较靠近陶瓷体一侧的面积大。本发明的密封结构可增加其有效刻蚀面积，延长静电吸盘内部抵抗等离子体轰击的时间，从而延长静电吸盘的使用寿命。
静电吸盘密封结构层叠体陶瓷体底座加热结构等离子体轰击使用寿命刻蚀环绕抵抗

[发明专利]静电吸盘-CN201810035305.4在审
发明人：糸井骏;高桥直也 -专利权人：日新离子机器株式会社
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，能够遍及晶片支承面的大范围地形成槽，并且能够稳定地支承晶片。静电吸盘(E)具有晶片支承面，在支承面(S)上形成有多个槽(G、G1、G2)，槽之间相互连通。
静电吸盘晶片支承稳定地支支承面晶片连通

[发明专利]静电吸盘-CN201310379178.7在审
发明人：穴田和辉;和田琢真 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2013-08-27 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够将吸附保持的处理对象物维持在所希望的温度。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201310378847.9在审
发明人：穴田和辉;和田琢真 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2013-08-27 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够提高内部电极层与陶瓷电介体基板的贴紧性，能够提高内部电极层的导通性。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201310400048.7在审
发明人：穴田和辉;和田琢真 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2013-09-05 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够将吸附保持的处理对象物维持在所希望的温度。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201910149338.6在审
发明人：山口康介;白石纯;板仓郁夫;籾山大;西愿修一郎 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间
疏松静电吸盘多孔质部壁部陶瓷电介体电弧放电气体流量基座板正交的抗性基板延伸流动

[发明专利]静电吸盘-CN202010142868.0在审
发明人：糸山哲朗;上藤淳平 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，即使在将多孔质部设置于气体导入路内的构造中，对吸附对象物也能够进行晶片温度均等性较高的温度控制。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN202010227806.X在审
发明人：籾山大;佐佐木均 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，在极低温的环境下，能够抑制发生陶瓷电介体基板从基座板的剥离及陶瓷电介体基板的裂开。一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板；金属制的基座板，支撑所述陶瓷电介体基板；及接合层，设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间且含有树脂材料，其特征为，满足相关于接合层的伸长率、接合强度、弹性模量的第1
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN202010200242.0在审
发明人：佐佐木均;籾山大 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有第1、第2主面；基座板；第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接；及第2电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接，其特征在于，第1电极层在Z轴方向上被设置在第，第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大，第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面，在从第2面侧供电的静电吸盘上
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN202010200600.8在审
发明人：佐佐木均;籾山大 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有第1、第2主面；基座板；第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接；及第2电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接，其特征在于，第1电极层在Z轴方向上被设置在第
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201911324485.9在审
发明人：池口雅文;糸山哲朗;西愿修一郎;白石纯 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201911345382.0在审
发明人：池口雅文;糸山哲朗;西愿修一郎;白石纯 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，具体而言，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、与所述第1区域邻接的第2区域，在所述第1区域中设置有多个第1槽、与所述多个第1槽的至少
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN202011221432.7在审
发明人：黄正训;刘翰均 -专利权人：美科陶瓷科技有限公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有利用冷却气体的冷却结构的静电吸盘，包括：静电吸盘板，所述静电吸盘板包括在第一区域形成的多个第一冷却气体孔、在第二区域形成的多个第二冷却气体孔；及基材，所述基材具备与所述多个第一冷却气体孔连接的第一流路图案
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201910675335.6在审
发明人：籾山大;佐佐木均 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高等离子体密度的面内均匀性的同时也提高RF敏感性。
电极层主面陶瓷电介体基板等离子体面内均匀性高频电源静电吸盘中央部面侧吸附电源供电

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