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[发明专利]等离子体处理装置的清理方法和等离子体处理方法-CN201210181932.1无效
发明人：田原慈;西村荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止构成等离子体生成室的包含硅的部件引起的微粒附着到被处理基板上的等离子体处理装置的清理方法和等离子体处理方法。该等离子体处理装置具备：具有包含硅的结构部件、激发处理气体而生成等离子体的等离子体生成室；经由间隔部件与上述等离子体生成室连通的等离子体处理室；和配置于在等离子体生成室的电介质窗外侧的平面状高频天线，该清理方法在等离子体生成室内对包含氢气的处理气体进行等离子体激发，将生成的氢自由基经由上述间隔部件导入到上述等离子体处理室中，并使其作用于被处理基板来实施等离子体处理，将被处理基板搬出后，向等离子体生成室内导入四氟化碳气体，来除去堆积在等离子体生成室内的硅类堆积物。
等离子体处理装置清理方法

[发明专利]一种耦合微波引弧的滑动电弧等离子体发生器装置-CN202210453120.1在审
发明人：刘成周;刘亮;林启富;马文东;江怡满;朱梁 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种耦合微波引弧的滑动电弧等离子体发生器装置，主要包括三级等离子体发生器装置：高压单电极等离子体发生器、微波等离子体发生器和滑动电弧等离子体发生器，高压单电极等离子体发生器和微波等离子体发生器配合使用，为滑动电弧等离子体发生器提供引弧，减少滑动电弧等离子体的阻抗变化范围，进而降低滑动电弧等离子体驱动电源空载与带载电压之间的差值，使得滑动电弧等离子体发生器电极之间的距离得以增加，从而产生大功率的滑动电弧等离子体，因此本发明的耦合微波引弧的大功率滑动电弧等离子体发生器装置可以产生尺寸大、温度高的等离子体。
一种耦合微波滑动电弧等离子体发生器装置

[发明专利]基于改进等效传输线法的非均匀等离子体分层反射系数获取方法、系统、设备及介质-CN202310712091.0在审
发明人：沈方芳;张中道;丁懿;陈旭阳;白博文;刘彦明;李小平 -专利权人：西安电子科技大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H04B17/309 文献下载
摘要：基于改进等效传输线法的非均匀等离子体分层反射系数获取方法、系统、设备及介质，方法包括：建立非均匀等离子体分层模型，求得非均匀等离子体分层模型第n层等离子体的复介电系数，求解非均匀等离子体分层模型第n层等离子体传播常数和本征波阻抗，进而求得非均匀等离子体分层模型第n层等离子体的传输矩阵，计算非均匀等离子体分层模型第n层等离子体透射系数及复反射系数，得到非均匀等离子体分层模型各层反射系数矩阵；系统、设备及介质用于实现基于改进等效传输线法的非均匀等离子体分层反射系数获取方法；本发明实现了对非均匀等离子体分层模型各层等离子体反射系数的获取，提高了准确度和效率。
基于改进等效传输线均匀等离子体分层反射系数获取方法系统设备介质

[实用新型]大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置-CN201620929248.0有效
发明人：陈选章;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子体清洗设备，具体为一种大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置，包括低温等离子体激励部分和低温等离子体发生装置；所述低温等离子体激励部分包括低温等离子体电源发生器，低温等离子体变压器；低温等离子体发生装置包括两只电极，所述低温等离子体电源发生器通过等离子体变压器与两只等离子体电极相连；低温等离子体发生装置还包括低温等离子体电极间隙调整装置、等离子体电极固定端板、整体金属方形支架，和散热排风的接口
大气常压输出激励低温等离子体玻璃清洗装置

[实用新型]微波等离子体辅助原子层沉积设备-CN202221851674.9有效
发明人：王东君;陈宇林;郭敏 -专利权人：英作纳米科技（北京）有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微波等离子体辅助原子层沉积设备，包括：微波等离子体发生器、等离子体扩散腔、真空反应室和反应源接口。微波等离子体发生器含有等离子体快速发生装置。微波等离子体发生器通过等离子体扩散腔与真空反应室相连通。等离子体扩散腔与真空反应室通过开合装置连接，通过该开合装置，可以方便样品取放样。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备，能够提供微波辐照，提高等离子体的能量和密度，为原子层沉积的提供合适的能量，降低反应温度。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备含有等离子体快速发生装置以及等离子体反应气体特殊脉冲进入模式，可以实现毫秒级的等离子体脉冲，大大缩短反应时间。
微波等离子体辅助原子沉积设备

[发明专利]表面处理方法和半导体装置的制造装置-CN02810062.X无效
发明人：高瀬道彦;吉田哲久;水野文二 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2002-03-25 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：本发明提供一种表面处理方法，其特征为，包括：通过等离子体使物质等离子体化，生成第一等离子体化物质及第二等离子体化物质的等离子体化工序；开始向基体导入通过该等离子体而等离子体化的该第一等离子体化物质的开始工序；终止向该基体导入该第一等离子体化物质的终止工序；在该终止工序前观测通过该等离子体而等离子体化的该第二等离子体化物质状态的观测工序；和根据该观测工序的观测结果，控制表示从该开始工序直到该终止工序为止的时间的等离子体处理时间的控制工序，使表示向该基体导入的第一等离子体化物质的总量的总剂量成为所希望的总剂量。
表面处理方法半导体装置制造

[发明专利]用于电子密度扰动定域测量的双波段多波束微波诊断系统-CN202011386065.6有效
发明人：王正汹;施培万;朱霄龙 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明属于磁约束受控核聚变领域等离子体诊断，涉及一种用于电子密度扰动定域测量的双波段多波束微波诊断系统，是测量磁约束等离子体中湍流和高能粒子模的重要技术方法。本发明通过梳妆谱源和倍频技术将两个波段两部分子系统集成到一起从而实现跨波段输出；通过极化器将两波段微波分开并分别单独处理从而简化系统结构；优点在于，该集成系统能够同时发射两个波段频率范围内多个高功率平坦度的微波波束，可在径向方向上实现对等离子体电子密度扰动的多点定域测量
用于电子密度扰动测量波段波束微波诊断系统

[发明专利]伸缩式冷热探针组件、等离子体诊断系统及诊断方法-CN202110512622.2有效
发明人：李建泉;张清和;邢赞扬;李延辉;郭新;杜清府 -专利权人：山东大学
申请日： 2021-05-11 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种伸缩式冷热探针组件、等离子体诊断系统及诊断方法，包括：共轴安装的冷探针组件和热探针组件；所述冷探针组件包括绝缘套管和设置在绝缘套管末端的球形探针；所述球形探针上设有设定大小的狭缝；热探针组件设置于所述绝缘套管内部本发明等离子体空间电位由发射探针的零发射极限拐点电势法获得，在等离子体空间电位测量方面，发射探针技术比单探针技术更可靠。
伸缩冷热探针组件等离子体诊断系统方法

[发明专利]多电感耦合等离子体反应器及其方法-CN201010164265.7有效
发明人：许鲁铉;金奎东;南昌祐;朴成民;崔大圭 -专利权人：株式会社新动力等离子体
申请日： 2010-04-09 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：公开了一种多电感耦合等离子体反应器及其方法。在多电感耦合等离子体反应方法中，用于增进待处理衬底中特定部分的蚀刻方法包括：蚀刻待处理衬底中特定部分；和在被蚀刻的特定部分的表面上沉积钝化层，其中重复进行蚀刻和沉积步骤，当存在由中心等离子体源和外围等离子体源形成的等离子体时执行这两个步骤之一根据本发明的多电感耦合等离子体反应器及其方法，由于中心等离子体源和外围等离子体源被分开设置，因此在衬底的整个区域上可以均匀地处理等离子体。另外，可以使用在中心等离子体源和外围等离子体源之间接地的防干扰电极来在等离子体反应器中形成没有电干扰的独立的复等离子体区。另外，由中心等离子体源和外围等离子体源形成的等离子体用于深蚀刻待处理衬底中的特定部分。
电感耦合等离子体反应器及其方法

[发明专利]等离子体观测系统和等离子体观测方法-CN202110054765.3在审
发明人：山崎良二;宫下大幸;佐藤幹夫 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体观测系统和等离子体观测方法，用于进行处理容器内的等离子体的观测地点的确定和观测地点的等离子体的状态的判定。所述等离子体观测系统具有：等离子体处理装置，在该等离子体处理装置的处理容器内通过等离子体对基板进行处理；以及测定装置，其测定所述等离子体，其中，所述等离子体处理装置具有多个观测窗，所述多个观测窗能够观测所述处理容器中等离子体的发光状态，所述测定装置具有：受光器，其从多个观测窗接受在所述处理容器内交叉的多个光；以及控制部，其基于接受到的多个光来进行等离子体的观测地点的确定和所述观测地点的等离子体的状态判定。
等离子体观测系统方法

[发明专利]等离子体扩散设备和系统及在处理炉中扩散等离子体的方法-CN201980025769.X在审
发明人：威廉·A·莫法特;克雷格·瓦尔特·麦科伊 -专利权人：良率工程系统公司
申请日： 2019-02-14 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种扩散等离子体的装置和方法，其允许在较大的处理腔室压力范围内进行等离子体蚀刻。等离子体源，例如线性感应等离子体源，可以被阻塞以改变等离子体源内的背压。然后可以在偏转盘周围扩散等离子体源，所述偏转盘在圆顶下扩散等离子体，这样就可以在基板的表面上实现非常均匀的等离子体蚀刻速率。该设备可以包括位于等离子体扩散部分上面的线性感应等离子体源，所述等离子体扩散部分在水平配置的晶片或其他衬底上扩散等离子体。衬底支撑件可以包括适于增强蚀刻的加热元件。
等离子体扩散设备系统处理方法

[发明专利]等离子体射流阵列发生装置及系统-CN202111325271.0在审
发明人：陈支通;白帆;唐天宇;杨广权 -专利权人：深圳高性能医疗器械国家研究院有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流阵列发生装置及系统，其中，等离子体射流阵列发生装置包括多个等离子体发生结构，等离子体发生结构用于产生等离子体，多个等离子体包括用于输出等离子体的第一出口，多个等离子体发生结构的第一出口朝向同一方向本发明是一种基于大气压冷等离子体发生器的等离子体射流阵列发生装置，根据情况可以设计不同的外壳，以实现局部的筒型和长方体型冷等离子体射流，以及可弯折的大面积均匀稳定的冷等离子体射流阵列发生系统。
等离子体射流阵列发生装置系统

[发明专利]具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置-CN201210560158.5有效
发明人：石洪;许林;拉金德·丁德萨;约翰·多尔蒂;方言;李斯文 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：在一种实施方式中，等离子体处理装置可以包含等离子体处理室、等离子体区、能量源和耐腐蚀部件。该等离子体处理室可以保持在真空压强下，并可以约束等离子体处理气体。该能量源可以向该等离子体处理室中传送能量，并在该等离子体区内将该等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体。该耐腐蚀部件可以位于该等离子体处理室内。该耐腐蚀部件可以暴露于该等离子体处理气体，并与该等离子体区不重合。该耐腐蚀部件可以包括涂覆有钽（Ta）外层的不锈钢内层。
具有腐蚀部件等离子体处理装置

[实用新型]等离子发动机-CN201621377085.6有效
发明人： D·E·A·兰岑德费尔;刘智宇 -专利权人：深圳市矛村电子科技有限公司
申请日： 2016-12-15 - 公布日： 2017-09-12 - 主分类号： F03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子发动机，它包括等离子体发生器、加热器和排放端，该等离子体发生器包括输入端和等离子体生成室，该加热器沿等离子体的流动方向布置在等离子体发生器的下游并用于加热等离子体，该排放端沿等离子体的流动方向布置在加热器的下游并用于将加热后的等离子体排出等离子发动机根据本实用新型，所述等离子体发生器为螺旋波型的等离子体发生器，它的等离子体生成室与加热器物理隔离，并且它的输入端设置有离子推进模块，该离子推进模块能在环境压力下点燃所述等离子体生成室中生成的等离子体。本实用新型的等离子发动机具有工作效率高并且经济性好的优点。
等离子发动机

[发明专利]等离子体清洗设备-CN201510505460.4在审
发明人：魏钰;袁广才;王东方 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体清洗设备。所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
等离子体清洗设备