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[发明专利]一种激光直写方法和激光直写系统-CN202111637233.9在审
发明人：贾富强;丘国雄;冯涣;陈银榕;李巍伟;叶泽群 -专利权人：南光高科（厦门）激光科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光直写方法和激光直写系统，所述激光直写方法包括步骤：建立模板：通过激光直写软件，将直写材料的加工面上需激光直写加工内容创建在图层上；设置参数：通过激光直写软件，将加工面上的激光直写加工内容进行填充或者像素化，并设置激光参数；上料：将直写材料固定，将加工面朝向激光光束的传输方向；激光直写加工：将激光光束照射在加工面上，将激光光束与直写材料之间产生相对运动，形成激光光束对加工面的激光扫描点，将激光扫描点对加工面进行激光直写加工；能实现在例如证照票签材料上激光直写加工，并实现高质量的加工效果，及实现灰度等级、表面形貌和粗糙度等的精确控制。
一种激光方法系统

[发明专利]一种半导体单晶直写装置及方法-CN202310605441.3在审
发明人：邓巍巍;赵新彦;刘炳杨;王佳琳 -专利权人：南方科技大学;台深创（深圳）科技投资有限公司
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H10K71/12 文献下载
摘要：本申请公开了一种半导体单晶直写装置及方法，包括：基板组件，具有直写面；直写组件，活动设置在直写面的一侧，直写组件包括柔性直写部和储液腔，柔性直写部的尖端抵靠直写面，柔性直写部上设置有连通于储液腔的狭缝，且狭缝延伸至尖端；供液组件，连通于储液腔，用于给储液腔输送液体，液体通过储液腔进入狭缝，经狭缝流出的液体具有弯月面，弯月面与直写面接触。
一种半导体单晶直写装置方法

[发明专利]一种多通道并行超分辨激光直写系统-CN202111241111.8在审
发明人：匡翠方;孙秋媛;徐良;丁晨良;朱大钊;刘旭;马程鹏;杨臻垚 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多通道并行超分辨激光直写系统，包括：用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写‑抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块，所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写‑抑制光束组合单元后形成一对直写‑抑制光束组合，之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块，形成直写‑抑制光斑组合。本发明将传统单路激光直写打印系统的速度成倍提升。
一种通道并行分辨激光系统

[发明专利]一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置-CN202110388124.1有效
发明人：匡翠方;朱大钊;徐良;丁晨良;刘旭;李海峰 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
一种基于调控并行分辨激光装置

[发明专利]激光直写对焦装置及激光直写对焦方法-CN201710713385.X有效
发明人：朱鹏飞;朱鸣;浦东林;李恒;赵改娜;吕帅;邵仁锦;张瑾;袁晓峰;陈林森 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种激光直写对焦装置，包括微调机构、承载平台和成像系统，微调机构与承载平台相对设置，微调机构包括微调驱动器、活动架和位移传感器，成像系统包括直写镜头，微调驱动器、位移传感器、直写镜头分别与活动架连接。本发明的激光直写对焦装置能保证直写镜头与光刻板的距离在直写镜头的焦深范围内，能解决光刻板厚度变化较大的情况下无法自动对焦的问题。本发明还涉及一种激光直写对焦方法。
激光对焦装置方法

[实用新型]一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机-CN201620920059.7有效
发明人：王昱山;刘涛;马强 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机领域，尤其涉及一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机。直写式光刻机控制面板的锁紧机构包括骨架和支撑装置；骨架固定连接在直写式光刻机的底座上；直写式光刻机上的控制面板与骨架可拆卸连接；直写式光刻机上的气动门保护板的一端与骨架固定连接，另一端与控制面板可拆卸连接直写式光刻机包括上述直写式光刻机控制面板的锁紧机构，气动门保护板和控制面板。本实用新型提供的直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机，具有结构简单新颖，稳定性强，便于拆装，且方便实用等诸多技术优势。
一种直写式光刻控制面板机构

[发明专利]激光直写及其仿真的方法、装置-CN202110274061.7在审
发明人：杨尚;叶甜春;韦亚一;张利斌;王云;薛静 -专利权人：广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光直写仿真的方法、激光直写的方法、激光直写仿真的装置及激光直写的装置，包括：获取待刻蚀材料的激光直写能量分布模型；利用二分法确定各个焦平面的位置；根据各个焦平面的位置和激光直写能量分布模型，得到多束激光束对待刻蚀材料进行激光直写时在待刻蚀材料内产生的能量分布仿真结果；多束激光束对所述待刻蚀材料进行激光直写后在待刻蚀材料上产生预设的立体图案，立体图案的高宽比大于预设值。上述激光直写仿真的方法可以得到利用二分法确定各个焦平面的位置后，可以提高图案化后形成图像的保真度的结果，从而提高了在待刻蚀材料上书写高宽比图像的可行性，使得激光直写可以被用用到更多的交叉学科和领域。
激光及其仿真方法装置

[发明专利]一种高通量光纤点阵成像直写系统-CN202310136507.9在审
发明人：匡翠方;魏震;周国尊;刘旭;孙琦;张凌民;罗昊 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种高通量光纤点阵成像直写系统，包括：光源、光纤调制器、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜、高精度位移台、控制单元；光源、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜依次同光轴布置，光纤阵中每一根单模光纤均配有光纤调制器；准直镜的后焦面和管镜一的前焦面重合，管镜一的准直端朝向准直镜，管镜二的准直端朝向直写物镜，管镜一和管镜二的成像面重合，管镜二的前焦面和直写物镜的入瞳重合，直写物镜的焦面与高精度位移台的上表面重合；控制单元用于控制光纤调制器和高精度位移台，实现设定图案的直写。本发明的结构简单、直写效率高、能直写任意图形。
一种通量光纤点阵成像系统

[发明专利]激光直写薄膜和激光直写微纳图形的方法-CN201010215237.3无效
发明人：顿爱欢;魏劲松;干福熹 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2010-06-30 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种激光直写薄膜和激光直写微纳图形的方法，该激光直写薄膜是利用磁控溅射仪在玻璃基片上依次溅射的第一介质层、金属氧化物层和第二介质层而构成，所述的激光直写微纳图形的方法是采用绿光激光器对在高精度二维移动平台上的激光直写薄膜进行激光直写本发明所制备的激光直写薄膜具有薄膜和基底之间附着力强、参数可控性好、薄膜致密度高、重复性高等优点。采用绿光激光器直写亚微米级图形结构有望用于太阳能电池，液晶显示等领域。
激光薄膜直写微纳图形方法

[发明专利]一种用于掩模制造和激光直写光刻的双重直写方法-CN202010582950.5有效
发明人：马乐;韦亚一;董立松;杨尚 -专利权人：南京诚芯集成电路技术研究院有限公司
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于掩模制造和激光直写光刻的双重直写方法，根据内拐点将原始版图拆分成多个矩形后，按照第一扩展路径，将相邻的相同走向的矩形进行相反方向的扩展，将相邻的不同走向的矩形进行不同方向的扩展，完成第一次直写，然后按照第一次直写扩展规则，反向所述第一路径进行第二次直写扩展，直至所有矩形扩展完成；同时对第一次直写和第一次直写过程进行冲突判断，并对冲突区域和不合理区域进行处理和调整，对两次直写进行结果验证和规则验证
一种用于制造激光光刻双重方法

[发明专利]一种纳光子直写头精密旋转定位调焦系统-CN201110038321.7无效
发明人：邢卉;罗先刚;王长涛;冯沁;刘尧;赖之安;杨欢 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2011-02-14 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F7/207 文献下载
摘要：一种纳光子直写头精密旋转定位调焦系统，属于直写光刻设备领域，(1)直写头调节装置可以进行纳米级Z向移动；(2)直写头调节装置可以进行0～90°转动；(3)基片台可以进行高速转动；(4)直写头悬臂具有一定弹性变形量；(5)直写头采用空气动力学原理设计结构，可以在基片台转动产生的气流作用下浮起基片表面。基片台高速转动时产生的气流可以实现直写头浮起基片表面几十纳米范围，保证光刻时两者距离处于近场倏逝波作用范围，突破衍射极限限制，实现高分辨力的光刻结果。
一种光子直写头精密旋转定位调焦系统

[发明专利]基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法-CN201811445709.7在审
发明人：王津;周常河;贾伟;谢永芳;赵冬;项长铖 -专利权人：暨南大学
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
透镜刻写激光直写直写激光直写装置衍射光学元件超分辨成像高密度光栅光斑达曼光栅光栅栅线并行度高分辨下表面基底近场聚焦图像

[发明专利]一种无掩膜激光纳米三维直写设备及其使用方法-CN202011267535.7在审
发明人：童亮 -专利权人：合肥酷显智能科技有限公司
申请日： 2020-11-13 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种无掩膜激光纳米三维直写设备及其使用方法，包括备料箱体，所述备料箱体的右端表面设置有纳米框架机构，所述纳米框架机构的上部设置有外框架壳体，所述外框架壳体的前端表面靠近中间位置设置有前门板，所述外框架壳体的右端表面靠近中间位置设置有透明玻璃，所述外框架壳体的内侧底端表面中间位置设置有打印台；本发明能够避免占用打印台有效空间的同时，为激光直写头在打印台上直写打印提供方便，对纳米直写头的最大延展范围进行限定，避免样品的整体偏差，提高激光直写头的直写打印精度，实现对纳米直写头的端部微调节，减少中间调节的过程，加快设备的直写速率，使得打印台的有效台面均被利用，提高三维打印样品的总数量。
一种无掩膜激光纳米三维设备及其使用方法

[发明专利]一种圆筒式静电纺丝近场直写装置-CN201911018541.6在审
发明人：王晗;张荣光 -专利权人：季华实验室
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及静电纺丝技术领域，尤其涉及一种圆筒式静电纺丝近场直写装置。本发明的圆筒式静电纺丝近场直写装置，包括近场直写纺丝针头、圆筒式接收器、以及高压电源，其中：圆筒式接收器设置在近场直写纺丝针头的下方；高压电源的正极连接近场直写纺丝针头，高压电源的负极连接圆筒式接收器。本发明的圆筒式静电纺丝近场直写装置，接收装置采用圆筒式接收器，增大了可纺面积，实现了更大面积的纳米纤维图案的打印；极大地缩减了可实现大面积纳米纤维图案打印的直写装置占用空间；此外，同时实现了极小间距的纤维精确沉积
圆筒式近场接收器直写装置高压电源静电纺丝纺丝针头直写纳米纤维静电纺丝技术负极连接图案打印占用空间正极连接沉积打印纤维图案

[发明专利]电流体动力学直写过程的全闭环实时自适应控制方法-CN201610947875.1有效
发明人：张礼兵;吴婷;黄风立;左春柽 -专利权人：嘉兴学院
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G05B13/04 文献下载
摘要：本发明为有效调控电流体动力学直写图案线宽的均匀性，提出一种电流体动力学直写过程的全闭环实时自适应控制方法，第一步，构建参数预测模型；第二步，对期望直写图案线宽r(k)进行柔性化处理；第三步，对柔化处理后的直写图案线宽w_r(k)进行实时滚动优化；第四步，对射流模型形态的进行控制，第五步、实时反馈校正，通过在线实时检测方法，对参数预测模型进行在线修正，然后进行实时滚动优化，从而实现电流体动力学直写过程的全闭环实时控制，实时检测电流体动力学直写图案的轮廓形状、基板的移动速度以及喷射高度的变化，自适应调控直写射流的多物理场耦合模型，有效控制电流体动力学直写射流形态，从而实现直写图案的线宽均匀性控制。
流体动力学过程闭环实时自适应控制方法

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