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[发明专利]光盘刻写方法及装置-CN200680023783.9无效
发明人：魏功明;钟建毅 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-06-27 - 公布日： 2008-07-02 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明提供一种光盘刻写方法和装置。本发明提供的方法包括步骤：获取所述光盘的刻写记录信息，所述记录信息中的历次刻写的起始地址和终止地址将所述光盘上的数据存储区域划分成多个刻写区域；从所述多个刻写区域中选择一个刻写区域，用于本次光盘刻写；确定本次刻写所采用的光盘刻写策略，以刻写所述光盘；和，更新所述光盘的刻写记录信息。根据本发明所提供的方法，可以选择合适区域进行光盘刻写，避免了有些区域的过度刻写造成的光盘寿命缩短，还可以确定合适刻写策略，以提高光盘刻写效果。
光盘刻写方法装置

[实用新型]光纤光栅刻写工装和光纤光栅刻写装置-CN202121278955.5有效
发明人：张烽;林庆典 -专利权人：深圳市莱特尔光电科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光纤光栅刻写工装和光纤光栅刻写装置，光纤光栅刻写工装应用于光纤光栅刻写装置，光纤光栅刻写装置用于对光纤进行刻写，定义光纤包括刻写段和非刻写段。其中，光纤光栅刻写工装包括机架、相位模板以及隔离件。相位模板设于机架，相位模板相用于对刻写段进行刻写；隔离件设于机架，隔离件设有溶液槽，溶液槽供非刻写段靠近刻写段的一端穿过。本实用新型的技术方案使得光纤光栅刻写工装能够对折射进入到非刻写段内的紫外光进行去除，避免形成羟基化合物而使其在较高的激光功率下发热严重。
光纤光栅刻写工装装置

[发明专利]激光刻写方法、装置和系统-CN202310572492.0在审
发明人：王洪庆;匡翠方;罗昊;贾天浩;杨臻垚;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括：获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数；根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据；将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据；获取位移台的位置信息；基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时，还实现了表面粗糙度的提升，有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
激光刻写方法装置系统

[实用新型]一种复合式的墓碑-CN202222233101.6有效
发明人：叶荣良 -专利权人：惠安妙艺石业有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： E04H13/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种复合式的墓碑，包括基体部、刻写部以及侧连接部，所述刻写部为玻璃材质构成，所述基体部为大理石材质构成，所述刻写部位于基体部前方并与基体部贴合，所述侧连接部位于基体部以及刻写部的两侧，所述侧连接部与基体部拆卸式连接，所述侧连接部与刻写部拆卸式连接，利用玻璃材质作为刻写部，利用侧连接部将刻写部与基体部拆卸式连接在一起，当需要刻写时仅需将刻写部单独刻写即可，由于刻写部为玻璃材质因此搬运和刻写较为方便，且刻写不满意可以熔炉重刻，降低了刻写损坏的成本，最终通过侧连接部将大理石构成的基体部与刻写部连接在一起从而将二者结合。
一种复合墓碑

[发明专利]优化光盘刻写策略的方法和装置-CN200510022870.X无效
发明人：钟建毅;陶靖;魏功明 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-12-12 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明提供一种优化光盘刻写策略的方法和装置。本发明所提供的优化光盘刻写策略的方法包括步骤：获取所述待刻写区域的曾否经历过刻写的信息；检索所述光盘上的刻写优化区域中具有对应信息的一个区域；和，在所述具有对应信息的区域进行刻写测试，以优化确定一个光盘刻写策略刻写所述光盘通过本发明提供的优化光盘刻写策略的方法和装置，既能够尽可能减小光盘刻写策略与实际的光盘刻写条件的差距，又能够降低对光盘刻写装置的要求，降低成本，易于实现。
优化光盘刻写策略方法装置

[发明专利]矢量三维灰度激光直写光刻方法、装置及系统-CN202310467568.3在审
发明人：匡翠方;王洪庆;贾天浩;杨臻垚;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：方法包括：基于待刻写结构的二维灰度图生成若干组三维灰度刻写数据；每一组三维灰度刻写数据表示一个拼接单元；将每组三维灰度刻写数据转化为矢量刻写数据和扫描位置数据；将矢量刻写数据输出至高速光调制器件控制刻写激光的强度，将扫描位置数据输出至扫描器件控制刻写激光的扫描位置，直到完成对所有拼接单元的刻写。采用本方法能够实现矢量刻写控制，回避非必要区域刻写，有效提高刻写效率，并将传统的层切数据替换为灰度层切数据，解决了逐层刻写过程中层与层之间的台阶问题。
矢量三维灰度激光光刻方法装置系统

[发明专利]一种基于转镜的并行三维灰度激光直写方法和装置-CN202310467150.2在审
发明人：王洪庆;匡翠方;彭伏平;贾天浩;杨臻垚;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种基于转镜的并行三维灰度激光直写光刻方法，其中，该方法包括：通过刻写激光器，生成刻写激光；根据光学衍射器件和刻写激光，生成多路刻写光束；根据待刻写结构的二维灰度图产生三维灰度刻写数据；基于转镜并行刻写算法和多路刻写光束的光束数，将三维灰度刻写数据拆分并写入到波形发生器的不同输出通道；在位移台移动到目标位置时，利用波形发生器的不同输出通道的三维灰度刻写数据，控制多通道声光调制器各个对应的通道的开关或振幅调制，完成对待刻写结构进行并行刻写通过本申请，解决了相关技术中存在三维激光刻写时容易出现明显的台阶现象问题，提高了三维激光刻写速度，消除了三维激光刻写时明显的台阶现象。
一种基于并行三维灰度激光方法装置

[发明专利]光纤光栅刻写方法、装置及光纤光栅F-P腔-CN202310804503.3有效
发明人：潘伟巍;董金岩;张磊 -专利权人：上海频准激光科技有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：一种光纤光栅刻写方法、装置及光纤光栅F‑P腔，涉及光波导领域，该方法包括：采用第一刻写光束与第二刻写光束叠加，对光纤待刻写区域进行照射；其中第一刻写光束垂直于光纤的延伸方向对光纤进行照射，第一刻写光束为一发散光束或汇聚光束，其具有非平面状态的等相位面；第二刻写光束倾斜照射光纤，与光纤形成一夹角，第二刻写光束为一平行光束；待刻写区域存在垂直于光纤并位于光纤待刻写区域的中点的中心垂直轴线，第一刻写光束在待刻写区域形成的光斑关于所述中心垂直轴线对称，第二刻写光束在待刻写区域形成的光斑关于所述中心垂直轴线对称；该方法简单、灵活、刻写效率高，能够形成起振波长连续可调的光纤光栅F‑P腔。
光纤光栅刻写方法装置

[发明专利]激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备-CN202310399542.X在审
发明人：匡翠方;杨臻垚;詹兰馨;张良;樊吴申;汤孟博;关键;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系；基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系，可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数，根据需要刻写的长度精确控制振镜电压，有效提高实际刻写长度的精确度，解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题，无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率，进而提高刻写成功率。
激光系统刻写方法装置计算机设备

[发明专利]具有抑制非线性效应功能的光纤光栅精密刻写系统及方法-CN202111287408.8在审
发明人：沈华;吴学诚;矫岢蓉;卞殷旭;朱日宏 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有抑制非线性效应功能的光纤光栅精密刻写系统及方法，针对现有光纤光栅刻写方法无法在线精密测量与控制刻写参数导致的光纤光栅刻写效率低、精度低、自动化水平低的问题，提出了一种兼具短周期与长周期光纤光栅刻写模式的高效精密智能刻写系统及方法在光栅刻写之前，能够结合自准直仪、光谱仪与电控多维组合台实现光纤水平度的高精度标定与调整，能够快速切换刻写模式；在光栅刻写过程中，计算机能够根据测得的刻写参数智能调节电控旋转台转动紫外反射镜、调节电控多维组合台高度优化刻写参数与现有方法相比，本发明提出的方法能够保障刻写的光纤光栅的光学性能，提升光纤光栅刻写的智能化水平与批量生产效率。
具有抑制非线性效应功能光纤光栅精密刻写系统方法

[发明专利]三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统-CN202310572478.0在审
发明人：王洪庆;匡翠方;杨顺华;苏晨怡;贾天浩;杨臻垚;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
三维激光刻写方法装置计算机设备系统

[发明专利]一种基于双光栅结构控制FBG波长的方法-CN201810301829.3在审
发明人：郑彬;林磊;蔡光明;余忠伟 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开一种基于双光栅结构控制FBG波长的方法，通过在预刻写的机台提前刻写一个光纤光栅，此光栅的指标与实际要求的波长要存在一定的差异，但要在宽带光源的检测范围内。然后把预刻写的光栅再放入实际的刻写平台上，主要刻写的位置要避开预刻写的光栅。施加拉力后检测预刻写光栅的变化情况，从而判断施加的拉力是否准确，然后再正常刻写。本发明通过预刻写一种刻写时间相同但波长不同的光纤光栅，然后通过控制预刻写光栅波长变化情况来精准控制拉力大小，从而达到精确控制波长的目的。
刻写波长光栅光纤光栅结构控制双光栅机台施加光栅波长精准控制宽带光源检测放入避开

[发明专利]一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置-CN202210324231.2有效
发明人：詹兰馨;匡翠方;张良;杨臻垚;孙秋媛;张晓依;汤孟博;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
一种基于激光系统刻写方法装置

[发明专利]一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置-CN200410057886.X无效
发明人：陶靖;唐福龙;钟建毅 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2004-08-13 - 公布日： 2006-02-15 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明提供了一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置。对于没有预存储刻写信息或虽然预存储了刻写信息但不能满足刻写质量要求的光盘，按照本发明提供的方法，首先设置初始的光盘刻录参数，然后对其中相互之间有比较紧密关联性的一组参数，按照实验设计的方法进行光盘刻写测试，最后根据光盘刻写测试结果，确定选定优化的各参数与光盘刻写质量之间的关系，从而根据这个关系获得各参数相应的优化参数值，用于光盘刻写。根据本发明，可以在有限的时间和有限的光盘刻写测试空间内确定优化的光盘刻写参数。
一种确定用于光盘刻写参数方法装置

[发明专利]一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置-CN200580027243.3无效
发明人：陶靖;唐富龙;钟建毅 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-08-04 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G11B7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置。对于没有预存储刻写信息或虽然预存储了刻写信息但不能满足刻写质量要求的光盘，按照本发明提供的方法，首先设置初始的光盘刻录参数，然后对其中相互之间有比较紧密关联性的一组参数，按照实验设计的方法进行光盘刻写测试，最后根据光盘刻写测试结果，确定选定优化的各参数与光盘刻写质量之间的关系，从而根据这个关系获得各参数相应的优化参数值，用于光盘刻写。根据本发明，可以在有限的时间和有限的光盘刻写测试空间内确定优化的光盘刻写参数。
一种确定用于光盘刻写参数方法装置

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