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[发明专利]一种直写式光刻机曝光方法-CN201910815604.4有效
发明人：赵美云 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻机曝光方法，属于半导体光刻机图形图像处理技术领域，包括在曝光前，设定曝光模式为N排M列DMD模式，划分每个DMD对应的曝光区域，任意一排DMD曝光图形的总宽度为直写光刻版图的宽度，任意一列DMD曝光图形的总高度为直写光刻版图的高度；利用各DMD进行曝光处理，并输出对应的光刻版图曝光图形；将每个DMD与直写式精密平台进行匹配，将光刻版图呈现在曝光的基底上。
一种直写式光刻曝光方法

[发明专利]陶瓷基三维结构的无模直写制备方法及陶瓷基光敏浆料-CN201210079723.6无效
发明人：李勃;孙竞博;蔡坤鹏;周济;李龙土;彭琴梅;张晓龙;苏水源 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2012-03-23 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C04B35/622 文献下载
摘要：本发明提供了一种陶瓷基三维结构的无模直写制备方法，包括用浆料及浆料直写成型设备成型所述三维结构，其中：所述浆料为陶瓷基光敏浆料，所述制备方法还包括在成型中用紫外光照射已成型部分以及成型后将制品于100℃本发明还提供了一种陶瓷基光敏浆料，用于无模直写制备陶瓷基三维结构，按体积计，该陶瓷基光敏浆料包括35%～75%粒径为20nm～2μm的陶瓷粉体和65%～25%的光敏胶。本制备方法能够加速已成型部分固化，避免直写成型得到的结构发生断裂或坍塌，而且其浆料配制简单。
陶瓷三维结构无模直写制备方法光敏浆料

[实用新型]一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机-CN201621246486.8有效
发明人：李阳 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构多轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。本实用新型的DMD结构多轴固定光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板；且吸盘下方连接多组运动组件，多组运动组件的运动轴同步运动，提高了曝光精度和运行的稳定性。
一种 dmd 结构固定光路直写曝光

[发明专利]一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统-CN201610046227.9在审
发明人：赵华;张伟;徐巍;王翰文;马汝治 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。本DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，显著提高了产能，增加了工作的效率。
一种 dmd 投影激光垂直双面曝光系统

[发明专利]一种氧化锆陶瓷的直写成型方法-CN201810376886.8在审
发明人：王小锋;于凯 -专利权人：苏州拜博机电科技有限公司
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： C04B35/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种氧化锆陶瓷的直写成型方法，首先制备氧化锆陶瓷粉体浆料，然后添加醇锆盐水解后获得改善成型性能的浆料，最后直写成型后进行干燥、烧结。本发明通过在氧化锆浆料中引入锆醇盐，使锆醇盐水解，从而调控直写成型用氧化锆陶瓷粉体浆料成型性能,并且锆醇盐在后续烧结中转化为氧化锆，促进烧结致密化。
直写成型浆料氧化锆陶瓷粉体氧化锆陶瓷成型性能烧结盐水解锆醇盐烧结致密化氧化锆浆料氧化锆醇锆制备引入调控

[发明专利]Y型波导激光直写装置-CN201210485868.6无效
发明人：张海波;袁志军;周军;楼祺洪;魏运荣 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2012-11-26 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种Y型波导激光直写装置，由刻写光源，第一柱透镜，第二柱透镜，导轨、载物台和光学玻璃组成。激光经柱透镜组调制和干涉可实现成丝分叉现象，由于成丝对光学材料折射率的非线性光学调制作用而产生的波导效应，可以实现Y型波导的激光直写。本发明利用激光和简单的柱透镜组可实现在光学玻璃体内直写Y型光学波导。
波导激光装置

[实用新型]Y型波导激光直写装置-CN201220629950.7有效
发明人：张海波;袁志军;周军;楼祺洪;魏运荣 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2012-11-26 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种Y型波导激光直写装置，由刻写光源，第一柱透镜，第二柱透镜，导轨、载物台和光学玻璃组成。激光经柱透镜组调制和干涉可实现成丝分叉现象，由于成丝对光学材料折射率的非线性光学调制作用而产生的波导效应，可以实现Y型波导的激光直写。本实用新型利用激光和简单的柱透镜组可实现在光学玻璃体内直写Y型光学波导。
波导激光装置

[实用新型]一种单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备-CN201621246473.0有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。
一种扫描驱动固定多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备-CN201621246320.6有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。
一种扫描驱动固定多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种直写式光刻机设备-CN201720256842.2有效
发明人：陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2017-12-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种直写式光刻机设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的直写式光刻机设备采用光路覆盖1/n个整板面积的方式来完成超大板和普通板的兼顾生产，使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果，生产普通板时能与普通板LDI拥有同等的生产产能和效果
一种直写式光刻设备

[外观设计]WiFi模块（3D打印机）-CN202230547653.7有效
发明人：何凯伦;涂勇强;吴志聪 -专利权人：福建星海通信科技有限公司
申请日： 2022-08-22 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： 14-03 文献下载
摘要：2.本外观设计产品的用途：用于通过无线传输的方式将控制直写式3D打印机工作的G‑code文件传输给直写式3D打印机，实现对直写式3D打印机的远程控制。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
wifi 模块打印机

[发明专利]一种高折射率激光直写光刻胶及高曲率光子引线的制备方法-CN202211589197.8在审
发明人：李佳伟;邱毅伟;匡翠方;曹春;刘旭;关玲玲;沈小明;赖慧颖;夏贤梦 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶、飞秒激光直写、光子集成和光波导技术领域，并公开了一种高折射率激光直写液态光刻胶及高曲率光子引线的制备方法，包括光刻胶组合物、激光直写系统和高曲率光子引线的设计和制作方法，本发明所述的高折射率光刻胶组合物由芴系丙烯酸酯、多官能度丙烯酸酯单体和光引发剂组成，所述的光刻胶组合物在可以进行高速飞秒激光直写，并且在显影后得到的结构具有很低的体积收缩率、高折射率和高力学性能，能轻松大批量地实现高曲率光子引线的制备。由本发明光刻胶通过飞秒激光直写技术得到的高曲率、高折射率光子引线在光通信波段具有高透光率和优秀的光传导效率，极大地利于光子集成和光波导，有望在工业生产中大批使用。
一种折射率激光光刻曲率光子引线制备方法

[发明专利]一种熔融态3D直写打印浆料及其制备方法和应用-CN202010545474.X有效
发明人：张斗;王小峰;赵连仲;熊慧文 -专利权人：中南大学
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C04B35/571 文献下载
摘要：本发明公开了一种熔融态3D直写浆料及其制备方法和应用，所述熔融态3D直写打印浆料为采用改性剂对陶瓷先驱体改性，所得改性陶瓷先驱体粉末再加热至250℃～300℃所得熔融态的物质，所述陶瓷先驱体为聚碳硅烷。本发明首创的提供了一种熔融态的3D直写打印浆料，即是一种完全无溶剂的3D直写打印浆料，通过控制温度即可以简单的控制浆料流变性能。相比于溶液、悬浮液浆料，采用本发明中的熔融态的3D直写打印浆料制备的陶瓷结构表面十分光滑，内部几乎没有缺陷，去除了打印后的坯体需要脱除溶剂的过程，克服了溶剂对坯体的不利影响。
一种熔融打印浆料及其制备方法应用

[发明专利]一种直写3D打印中沉积拐角外轮廓的预测方法-CN202210706897.4有效
发明人：陈张伟;涂勇强 -专利权人：深圳大学
申请日： 2022-06-21 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B29C64/118 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写3D打印中沉积拐角外轮廓的预测方法，步骤为：S1、构建直写3D打印过程的三维几何模型，S2、对步骤S1构建的直写3D打印过程的三维几何模型进行网格划分，S3、设置仿真中的墨水材料特性利用流体体积数值法求解获得沉积拐角的三维图像，S5、调整沉积拐角的三维图像至俯视沉积拐角，进而获得沉积拐角的外轮廓；该预测方法实现了利用仿真的方法预测包括锐角、直角和钝角在内的任意角度的沉积拐角的外轮廓的目的，且与直写3D打印实验对比，预测结果的最大偏差仅为0.4mm，证明了本申请的方法在直写3D打印中沉积拐角外轮廓预测上具有较好的有效性、准确性和实用性。
一种打印沉积拐角外轮预测方法

[发明专利]基于双抑制效应的飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用-CN202211599240.9有效
发明人：关玲玲;匡翠方;邱毅伟;曹春;沈小明;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;庞茂璋;马致远 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
基于抑制效应激光光刻组合及其应用