专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电容器、其制造方法及其使用方法-CN202310733657.8在审
  • 马俊;邹文松 - 南方科技大学
  • 2023-06-20 - 2023-07-25 - H01L29/92
  • 本发明提供了一种电容器、其制造方法及其使用方法,电容器包括承载结构、异质堆叠结构、第一电极和第二电极,异质堆叠结构连接于承载结构,异质堆叠结构包括多个相互层叠的异质,每一异质包括势垒层和沟道层,同一异质中:势垒层和沟道层相互层叠从而在沟道层中形成二维电子气,沟道层位于势垒层背对承载结构的一侧;第一电极和第二电极连接于异质堆叠结构背对承载结构的一侧表面;异质堆叠结构还可以具有鳍结构。
  • 电容器制造方法及其使用方法
  • [发明专利]氧空位修饰的花NiFe2-CN202310183101.6在审
  • 陈燕;杨振宇;杨建栋;张文慧;林丰;付乌有 - 吉林大学
  • 2023-03-01 - 2023-06-06 - B01J23/80
  • 本发明的氧空位修饰的花NiFe2O4/ZnO异质材料的制备方法及用途属于光催化材料制备的技术领域,首先用水热法制备结晶ZnO,然后将所得到的结晶ZnO与硝酸铁、硝酸镍采用共沉积法制备得到花NiFe2O4/ZnO异质材料;所制备的花NiFe2O4/ZnO异质材料可以作为催化剂用于光催化降解EE2或还原6价铬离子污染物原液。本发明首次合成出氧空位修饰的花NiFe2O4/ZnO异质材料,具有表面粗糙、比表面积较大、活性位点高等特点。本发明为进一步研究NiFe2O4/ZnO异质复合材料在降解污染物方面的应用奠定了基础。
  • 空位修饰nifebasesub
  • [发明专利]一种晶硅异质太阳电池的迎光面结构-CN202210577918.7在审
  • 赵雷;王文静 - 中国科学院电工研究所
  • 2022-05-25 - 2022-08-09 - H01L31/0216
  • 本发明涉及晶硅异质太阳电池技术领域,尤其涉及一种晶硅异质太阳电池的迎光面结构。本发明提供了一种晶硅异质太阳电池的迎光面结构,包括依次层叠设置的晶硅衬底和界面钝化层;在所述界面钝化层的表面进行线状选区设置载流子选择性接触表面场层,未设置载流子选择性接触表面场层的区域设置电学隔离层;所述载流子选择性接触表面场层能够取出所述晶硅衬底中的多子;所述载流子选择性接触表面场层的表面设置透明导电电极层;所述电学隔离层和透明导电电极层的表面设置栅金属电极;所述栅金属电极的栅线取向与所述透明导电电极层的线取向相垂直所述晶硅异质太阳电池的迎光面结构可以很好的提高晶硅异质太阳电池的短路电流密度。
  • 一种晶硅异质结太阳电池光面结构

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