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[发明专利]灰调掩模-CN200510112885.5无效
发明人：井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-25 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种灰调掩模。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部(3)相接的遮光图形(1)的轮廓形状，在灰调部(3)一侧形成轮廓图形(30)。
灰调掩模

[发明专利]灰调掩模及其制造方法-CN02124776.5无效
发明人：井村和久 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-06-25 - 公布日： 2003-12-31 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种灰调掩模及其制造方法。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部3相接的遮光图形1的轮廓形状，在灰调部3一侧形成轮廓图形30。
灰调掩模及其制造方法

[发明专利]灰调掩模制作方法、灰调掩模和图形转印方法-CN02143094.2无效
发明人：井村和久 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-09-28 - 公布日： 2003-04-16 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：一种制作灰调掩模的方法，在至少部分具有预定灰调图形的灰调掩模上能满足预定灰调图形的尺寸精度。在灰调掩模的制作过程中，将在衬底上涂覆的光刻胶膜厚的面内分布抑制到等于或小于±1％。
灰调掩模制作方法图形方法

[发明专利]灰调掩模缺陷检查方法及装置和光掩模缺陷检查方法及装置-CN02108247.2有效
发明人：中西胜彦 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-03-12 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种保证灰调掩模中灰调部的透射率的缺陷检查方法及缺陷检查装置。该缺陷检查方法，用来检查具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模的缺陷，其中灰调部是调整透射量的区域，目的是减少透射过该区域的光的透射量而可选地改变光敏抗蚀剂的膜厚。使用扫描掩模内的图形所得到的透射率信号，针对该透射率信号7，设定灰调部中透射率缺陷的阈值为8a、8b，在超过该阈值8a、8b时，判断为灰调部中发生透射率缺陷。
灰调掩模缺陷检查方法装置光掩模

[发明专利]灰调掩模的缺陷检查方法及缺陷检查装置-CN02108249.9有效
发明人：中山宪治 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-03-12 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种针对具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模，可以实现一次检查的缺陷检查方法及缺陷检查装置。采用通过互相比较掩模内形成的同一图形来检测缺陷的比较检查方法，作为根据图形的不同而出现的信息的阈值，除了设有普通的遮光部及透射部的缺陷抽出阈值之外，还新设灰调部专用的缺陷抽出阈值，并且识别正在检查遮光部及透射部、灰调部中哪个区域，正在检查遮光部或透射部时，使用遮光部、透射部用缺陷抽出阈值进行普通缺陷的检查，正在检查灰调部时，使用灰调部专用的缺陷抽出阈值进行灰调部的缺陷检查。
灰调掩模缺陷检查方法装置

[发明专利]灰调掩模的制造方法及灰调掩模-CN200610008320.7有效
发明人：佐野道明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2006-02-17 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：在形成了具有遮光部、透光部以及半透光部的装置图形；以及用于位置对齐的标记图形的灰调掩模的制造方法中，具有：准备在透明基板上至少形成了遮光膜的掩模版的步骤；遮光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第1抗蚀图形，将该第1抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜；在形成了遮光部图形的透明基板上形成半透光膜的步骤；以及半透光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第2抗蚀图形，将该第2抗蚀图形作为掩模，蚀刻半透光膜，在遮光部图形形成步骤中
灰调掩模制造方法

[发明专利]灰调掩模及其制造方法-CN02123331.4有效
发明人：野津手重德 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-06-18 - 公布日： 2003-12-31 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。
灰调掩模及其制造方法

[发明专利]灰调掩模及其制造方法-CN200610132210.1有效
发明人：野津手重德 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-18 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。
灰调掩模及其制造方法

[发明专利]灰调掩模及其制造方法-CN200610132209.9有效
发明人：野津手重德 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-18 - 公布日： 2007-03-28 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。
灰调掩模及其制造方法

[发明专利]灰调掩模的制造方法-CN200410062538.1无效
发明人：井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：提供一种可以制造高品质的TFT的中间色彩膜类型的灰调掩模的制造方法，具有下述工序：准备在透明基板(21)上顺序形成半透光膜(22)和遮光膜(23)的掩模坯料的工序；在该掩模坯料上形成抗蚀膜的工序；对抗蚀膜进行曝光的工序将用于对该抗蚀膜实施图形曝光的曝光装置的分辨率限度以下的图形进行曝光；进行显影处理，形成使形成遮光部的部分和形成半透光部的部分的抗蚀剂残留膜的值不同的抗蚀图形(24a)的工序；把该抗蚀图形(24a)作为掩模，蚀刻遮光膜(23)和半透光膜(22)并形成透光部的工序；仅去除残留在半透光部上的抗蚀图形的工序；把所残留的抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜(23a)并形成半透光部的工序。
灰调掩模制造方法

[发明专利]灰调掩模中灰调部的缺陷修正方法-CN02108248.0有效
发明人：中山宪治 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对于用现有的修正方法实际上很难修正的灰调部中的缺陷，可容易地修正的修正方法。例如，在包含白缺陷的区域中形成修正膜8之后，用与正常图形具有相同的灰调效果的形状及/或排列除去上述修正膜8的一部分，形成与正常图形3a、3b的宽度和位置不同的修正图形3a’、3b’。
灰调掩模中灰调部缺陷修正方法

[发明专利]水平电场型半透过式液晶显示装置的阵列基板制造方法-CN200810119139.2有效
发明人：宋泳锡;崔承镇;刘圣烈 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2008-08-27 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：其中该方法采用一个单调掩模板和两个双调掩模板制造了液晶显示装置的阵列基板，具体为：通过采用单调掩模板形成栅线、栅电极和显示区域；通过采用第一双调掩模板形成TFT和位于板状电极上的透射区域和反射区域；通过采用第二双调掩模板形成过孔和缝隙电极相比采用三个双调掩模板的现有技术，本发明采用了一个单调掩模板和两个双调掩模板，从而不仅通过降低掩模板的价格降低了制作成本，而且通过减少一次灰化工艺实现了工艺的简单化。
水平电场透过液晶显示装置阵列制造方法

[发明专利]一种可校正物料起伏的光刻装置及方法-CN201510175996.4有效
发明人：陈丹;王献英 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置，其特征在于，包括：照明系统，用于提供一光刻光束；掩模台，用于承载掩模；掩模台垂向传感器，用于探测并控制一掩模台的垂向位置；掩模调焦调平系统，用于测量掩模的面形；工件台，用于承载基板运动，补偿掩模和基板面形的低阶量；基板调焦调平系统，用于测量基板的面形；工件台垂向传感器，用于探测并控制一工件台的垂向位置；物镜阵列，由多个单物镜组成的两列物镜，单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片，所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能，上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量，下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量；掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间，掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方
一种校正物料起伏光刻装置方法

[发明专利]一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构-CN201711317532.8有效
发明人：罗先刚;高平;蒲明博;薛磊;马晓亮;赵泽宇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构，该装置用于光刻机中实现对掩模版与基片之间的被动调平。该装置以承片台为基准，承片台推动掩模版向上移动，一定位移距离后掩模版上的光栅尺清零，然后掩模版在重力的作用下回到初始位置，通过光栅尺计数控制三点步进电机步数，通过齿轮啮合带动掩模版Z向上升，掩模版调平后，步进电机自锁，执行电动缸执行下压控制，完成对掩模版调平后的固定，本发明通过减少调平基准的方式，有效改善曝光后图形扭曲变形、分辨率低等现象，本发明采用了以基片上升推动掩模版完成调平锁紧的机构，故该装置需受承片台推动力后完成启动，故称之为被动式调平锁紧机构。
一种应用于光刻装置被动式调平锁紧机构

[发明专利]一种光刻机的调平系统-CN201010518350.9无效
发明人：马平;胡松;杨春利 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2010-10-20 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明是一种光刻机的调平系统，该系统用于接近接触式光刻机中实现样片与掩模版的调平。该系统以掩模夹和掩模版为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、球碗气浮机构、承片台及样片上升，与基准掩模版贴紧后，通过气动及控制机构锁定球碗气浮机构及三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升运动，即可实现并保持样片与掩模版的平行。该系统能自动完成样片与掩模版实现调平的有效途径，并有效地解决了其他常用调平机构中存在的结构复杂、操作繁琐以及调平精度低等技术问题。
一种光刻系统

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