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[发明专利]基于VPX架构的数据交互系统和方法-CN201911204053.4有效
发明人：鲍世娟;叶浩;王献英 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G06F13/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于VPX架构的数据交互系统和方法，所述数据交互系统包括数据控制模块、I/O接口模块、数据采集模块和模型计算模块；数据控制模块用于接收上位机的命令，对整个系统进行初始化操作，并控制整个系统内部的数据交互；I/O接口模块用于实现整个系统内外的数据交互以及系统内部所有板卡间的数据互通；数据采集模块用于将接收的测量分系统测得的模拟采样数据转化为数字采样数据，并通过SRIO总线发送至I/O接口模块；模型计算模块用于对接收的数据控制模块发送过来的数字采样数据进行多核并行计算，并将处理后的数据通过SRIO总线发送至I/O接口模块输出。本发明提高了数据传输速度，降低了数据传输延时，提高了数据处理能力。
基于 vpx 架构数据交互系统方法

[发明专利]激光干涉仪反射镜形貌测量方法和光刻装置-CN201710210551.4有效
发明人：黄阳;韩春燕;王献英 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种激光干涉仪反射镜形貌测量方法和光刻装置，测量方法包括：使基底上产生至少两个光斑，记录此时所有光斑的垂向高度；将工件台在水平面上在同一个方向上移动若干次，每次移动时，使得其中一个光斑移动至另一个光斑在移动前所在的位置，将另一个光斑在移动前所在的垂向高度减去一个光斑在移动后所在的垂向高度得到的差值即为长条镜上相应的点的高度变化，若干个长条镜上的点的高度变化组成了长条镜的镜面在该方向上形貌变化。本发明去掉了用于校准的标准干涉仪，方便在装配好的光刻机上使用；设置了间距并不一定相等的至少两个光斑，既提高了测量精度又不会大幅度增加FLS的光斑个数；减少了基底测量区域，使校准花费的时间更短。
光斑垂向激光干涉仪移动高度变化光刻装置形貌测量校准反射镜测量光斑移动基底测量形貌变化镜面干涉仪工件台上移动光刻基底减去相等装配记录

[发明专利]一种用于光刻机的垂向控制方法-CN201710154051.3有效
发明人：陈丹;王献英;杨志勇 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-03-15 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于光刻机的垂向控制方法，包括以下步骤：步骤1、扫描曝光前，控制垂向测量传感器测量物料，获得所述物料的整体面形数据；步骤2、根据所述物料的整体面形数据执行全局调平；步骤3、扫描曝光每个曝光场时，采用垂向测量传感器实时测量所述物料的局部面形，根据所述物料的局部面形中Z向高度值、绕X向倾斜值及绕Y向倾斜值配置垂向控制模式，并根据所述垂向控制模式控制对应的垂向执行器垂向运动对所述物料的局部面形进行实时补偿，使每个曝光场的物料上表面与该曝光场的参考焦面重合；其中，所述垂向执行器包括掩模台、物料台及投影物镜，所述全局调平目标面为投影物镜的最佳焦面。
一种用于光刻控制方法

[发明专利]一种可校正物料起伏的光刻装置及方法-CN201510175996.4有效
发明人：陈丹;王献英 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置，其特征在于，包括：照明系统，用于提供一光刻光束；掩模台，用于承载掩模；掩模台垂向传感器，用于探测并控制一掩模台的垂向位置；掩模调焦调平系统，用于测量掩模的面形；工件台，用于承载基板运动，补偿掩模和基板面形的低阶量；基板调焦调平系统，用于测量基板的面形；工件台垂向传感器，用于探测并控制一工件台的垂向位置；物镜阵列，由多个单物镜组成的两列物镜，单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片，所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能，上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量，下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量；掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间，掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方。
一种校正物料起伏光刻装置方法

[发明专利]一种全局调平边沿扫描的装置和方法-CN201210285811.1有效
发明人：吴飞;王献英;束奇伟;孙刚;袁志扬 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-08-13 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种全局调平边沿扫描的装置，包括：一工件台，用于承载一硅片，并为该硅片提供多个自由度运动；工件台驱动装置，用于驱动所述工件台；调焦调平装置，用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系；测量系统，用于测量所述工件台的位置；第一传输系统，用于输入信息，所述输入信息为所述测量系统测得的信息；计算器，用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置；第二传输系统，用于将初始位置信号传输给所述工件台驱动装置；所述工件台驱动装置驱动所述工件台从初始位置开始进行全局调平边沿扫描，最终回到初始位置。本发明还提供一种全局调平边沿扫描的方法。
一种全局边沿扫描装置方法

[发明专利]一种硅片吸附装置及其吸附方法-CN201210103995.5有效
发明人：段立峰;马明英;蔡良斌;李术新;王献英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种硅片曝光装置及其曝光方法，该装置包括吸盘，固定于工件台上，所述吸盘上分布有多个吸孔；多个分管道，与所述吸孔分别对应且连接；总管道，与所述多个分管道连通，将所述分管道和吸孔的气体抽出，使硅片和所述吸盘之间形成真空并相互紧贴；与所述多个分管道分别对应的多个控制器，控制各个分管道对吸孔抽取真空的时刻和真空度。该方法包括根据硅片的翘曲程度规划各个所述吸孔抽取真空的时刻；根据硅片的翘曲大小规划各个所述吸孔抽取真空的真空度；根据规划的时刻和真空度，由所述控制器控制所述分管道对所述吸孔抽取真空。本装置及方法通过分时控制吸孔的真空度，保证硅片安全固定，降低拒片情况，保证硅片曝光质量，提高硅片的良率和产率。
一种硅片吸附装置及其方法

[发明专利]一种工艺基底边缘场的调平方法-CN201210104002.6有效
发明人： 王献英;李术新;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种工艺基底边缘场的调平方法，本发明首先将工艺图像的形状测量出来，在曝光时首先将特征图像的测量值补偿掉，然后再利用前馈调平法进行边缘场曝光本发明中使用的前馈调平不要求参考场或参考区域必须都在基底上，参考场也可以部分在基底上部分在基底外。通过本发明的技术方案，当对具有特殊工艺的基底的边缘场进行调平时，即使调焦调平光斑的测量值与工艺图形形状相关，也能获得很好的调平效果，从而使得边缘场获得很好的曝光效果。
一种工艺基底边缘平方

[发明专利]一种硅片曝光方法及装置-CN201210103994.0有效
发明人：段立峰;马明英;蔡良斌;李术新;王献英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种光刻装置硅片曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）按照一定规则选取位于工件台上的硅片上的测量点；（2）使用测量系统测量选取好的测量点的位置数据；（3）对位置数据进行拟合，得到硅片面形；（4）计算硅片上每个曝光场的调焦调平参数；（5）根据曝光场的调焦调平参数对硅片进行调焦调平；（6）对硅片进行曝光。本发明提出的一种硅片曝光的方法以曝光场为单位进行调焦调平，保证每个曝光场在焦深范围内进行曝光，从而保证每个曝光场的成像质量；因对硅片所有曝光场都进行调焦调平，大大提高了曝光场的曝光质量，从而提高了硅片的良率与产率。
一种硅片曝光方法装置

[发明专利]一种焦面变化测量装置与方法-CN201210024750.3有效
发明人： 王献英;李术新;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-02-03 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种焦面变化测量方法与装置，测量方法包括以下步骤：进入参考状态，标定参考曝光焦面的位置；更新基石相对所述参考曝光焦面的倾斜；进行参考掩模对准，获得参考对准焦面变化量，计算参考对准焦面位置；工件台基准板垂向运动到参考位置，调焦调平传感器测量所述工件台基准板上参考调平点的高度及倾斜值；启动曝光流程，在基底全局调平之前，计算所述调焦调平传感器零平面的漂移量；进行实际掩模对准，计算实际对准焦面变化量，获得实际曝光焦面的位置，从而保证曝光时基底始终位于最佳焦面。
一种变化测量装置方法

[发明专利]一种测量压电材料压电系数d₁₅的动态谐振方法-CN201310134706.2有效
发明人：郑学军;刘勋;张勇;孙静;程宏斌;王献英 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： G01R29/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量压电材料压电系数d₁₅的动态谐振方法，包括下述步骤：(1)将压电块体水平极化，制作一种共面电极结构压电层合悬臂梁，使悬臂梁处于d₁₅剪切工作模式；(2)将该压电层合悬臂梁与外接负载连接，形成串联测试电路；(3)搭建激励振动装置，调节振动器电压、频率和负载电阻，使悬臂梁产生共振现象，记录输出电压响应；(4)利用d₁₅工作模式压电层合悬臂梁的正压电效应，给出测量压电系数d₁₅的计算公式；(5)将悬臂梁结构尺寸、材料参数和谐振电压响应峰-峰值代入计算公式，计算压电系数d₁₅。本发明涉及的方法可测量压电材料的压电系数d₁₅，具有工艺简单，易操作的优点。可用于测量压电陶瓷、压电晶体、压电薄膜材料的压电系数d₁₅，应用范围广泛。
一种测量压电材料系数 sub 15 动态谐振方法

[发明专利]光刻机的垂向控制装置及方法-CN201010592409.9有效
发明人： 王献英;毛方林;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻机的垂向控制方法，包括如下步骤：a.由调焦调平传感器测量初始位置下基底上的测量点的位置信息，由垂向测量传感器测量初始位置下工件台的位置信息；b.根据上述位置信息计算得到将基底上的测量点调节至目标平面内的垂向设定值；c.以所述垂向设定值为闭环控制的输入值，以垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值，对工件台的位置进行闭环控制，从而将基底上的测量点调到目标平面。根据本发明的垂向控制方法，调焦调平传感器无需参与到闭环控制中，可大大节省时间并降低闭环机制的复杂度。
光刻控制装置方法

[发明专利]基底倾斜和基石倾斜的测量方法和系统-CN200910045745.9有效
发明人： 王献英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-02-03 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于投影光刻系统调焦调平的基底倾斜和基石倾斜的测量方法和系统。本发明所公开的方法和系统不需进行曝光，通过在基底上X、Y方向等距选取多点，利用基底倾斜和基石倾斜测量系统进行测量，然后利用测量数据进行拟合计算得到基底倾斜值和基石倾斜值。
基底倾斜基石测量方法系统

[实用新型]家用一人打乒乓球台-CN200720125722.5无效
发明人： 王献英 -专利权人： 王献英
申请日： 2007-07-27 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： A63B59/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种家用一人打乒乓球台。它包括水平台、竖立台、斜置台、球网、支架几个部分。水平台的宽度与普通乒乓球台相同，长度略大于普通球台的二分之一。竖立台竖立于水平台安网的一端，宽度与水平台相同。竖立台面板选用弹性适度的塑胶材料，板面布有许多不规则的凹坑(根据不同情况，也可制成有规律的凹陷或无凹陷的)。斜置台斜置于竖立台与水平台形成的夹角处，上与竖立台下缘吻接，下与水平台安网一侧边缘相接。水平台和竖立台、斜置台之间用螺栓铁板连结，彼此之间距离可拉长缩短。竖立台、斜置台可与水平台分离开来，独成一体，装以支架直接置于普通乒乓球台上，把双人台作一人台用。本实用新型家用一人打乒乓球台采用可升降活动支架。
家用一人打乒乓球台

[实用新型]带播种装置的铁锹-CN01204651.5无效
发明人： 王献英 -专利权人： 王献英
申请日： 2001-03-01 - 公布日： 2001-12-26 - 主分类号： A01B1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带播种装置的铁锹,它包括圆管状锹把和安装在圆管状锹把一端的锹头,在圆管状锹把的近锹头端的空腔内设置有带通孔的活动块,在活动块下部的空腔内设置有带通孔的隔板,一个杆状转轴一端固定在活动块的中心上,另一端伸出锹把的远锹头端,在杆状转轴伸出锹把的端头上固定有一个转把,当转动活动块时,活动块上的通孔与隔板上的通孔连通,本实用新型具有翻地和播种两种功能。
播种装置铁锹

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