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[发明专利]一种监测氢氟酸溶液浓度的方法-CN201811236521.1在审
发明人：沈凯锋 -专利权人：百力达太阳能股份有限公司
申请日： 2018-10-23 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种监测氢氟酸溶液浓度的方法，当氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度能满足去除磷硅玻璃层工艺时，用滴管将氢氟酸溶液槽体中的氢氟酸溶液取出，滴到水膜覆盖的有磷硅玻璃层的硅片表面，计时氢氟酸溶液和硅片表面磷硅玻璃层反应而形成硅片表面疏水圈的时间，并将该计时的时间段定义为判氢氟酸溶液浓度是否正常的标准临界时间t，此后，在太阳能电池片在制造过程中，如果反应而形成硅片表面疏水圈时间小于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度正常。该监测氢氟酸溶液浓度的方法可及时准确判断氟酸溶液浓度是否能达标，以确保去除磷硅玻璃工艺的完成效果。
氢氟酸溶液硅片表面磷硅玻璃层槽体水圈去除监测计时太阳能电池片时间段定义滴管氟酸溶液磷硅玻璃制造过程水膜取出达标覆盖

[发明专利]氢氟酸制造方法-CN201110129528.5无效
发明人：李典;刘承霖 -专利权人：特力生有限公司
申请日： 2011-05-12 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C01B7/19 文献下载
摘要：一种氢氟酸制造方法，将未处理的氟化氢及其包含的未处理杂质持续加入水溶液中，使未处理的部分杂质溶于水溶液及未处理的氟化氢生成的氢氟酸中，直到水溶液中的氢氟酸饱和后，使不溶于饱和水溶液中的氟化氢离开饱和水溶液形成处理后的氟化氢气体，同时不溶于水溶液及氢氟酸中的处理后的气态杂质也随处理后的氟化氢气体离开饱和水溶液，并将处理后的氟化氢气体及气态杂质取出后加入纯水中来生成纯度提高的氢氟酸水溶液，而处理后的气态杂质不溶于纯水及纯度提高的氢氟酸中，便可得到纯度提高的氢氟酸水溶液，因制造步骤简单且仅用到水及氢氟酸吸收杂质，因而可达到提升生产速度、降低生产成本及生产符合电子级纯度需求的氢氟酸水溶液的目的。
氢氟酸制造方法

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201780014745.5有效
发明人：柴山宣之;林昌之;阿野诚士;江户彻 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-03-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种基板处理方法，包含：含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤，从喷嘴对保持在基板保持单元的基板的一个主面，喷出在氢氟酸溶液中溶解有臭氧而成的含臭氧氢氟酸溶液；以及刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤后、或与上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤并行
处理方法装置

[发明专利]一种从氢氟酸溶液中去除铀的工艺-CN202011288705.X在审
发明人：邓锦勋;徐乐昌;周磊;胡鹏华;成弘;刘啸尘;谢廷婷 -专利权人：核工业北京化工冶金研究院
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C01B7/19 文献下载
摘要：本发明研究了一种从氢氟酸溶液中去除铀的工艺，该工艺以含铀氢氟酸溶液为研究对象，通过隧道式工业微波的方法对氟化钙进行改性，进而去除氢氟酸溶液中的铀。该方法既能降低氢氟酸中铀的浓度，又不引入其他离子，不会对氢氟酸溶液造成污染；整个工艺过程，成本低，三废少，绿色环保，操作简单，易于实现，较好的达到从氢氟酸溶液中去除铀，回收氢氟酸的目的，其铀去除率达到95
一种氢氟酸溶液去除工艺

[发明专利]一种氟离子化学分析的氢氟酸滴定试样的自动制取装置-CN202111192210.1在审
发明人：华冰;罗宇坤;薛心信 -专利权人：洛阳泰纳克高温仪器设备有限公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明属于氢氟酸滴定溶液制取技术领域，本发明公开了一种氟离子化学分析的氢氟酸滴定试样的自动制取装置，PLC控制程序与循环冷却装置、加水装置、蒸汽发生装置、二次加热装置、氢氟酸气体生成装置和氢氟酸试样生成装置固定连接；蒸汽发生装置与二次加热装置固定连接，二次加热装置与氢氟酸气体生成装置固定连接，氢氟酸气体生成装置与氢氟酸试样生成装置固定连接；收集瓶固定设置在氢氟酸试样生成装置的右侧位置，收集瓶放置在支撑框架上，氢氟酸试样生成装置与收集瓶之间通过试样排出管固定连接该发明有益效果为：1、实现了氢氟酸滴定试样溶液的自动化制取；2、减少了氢氟酸滴定试样溶液制取过程中人为干扰因素；3、实现了氢氟酸滴定试样溶液制取过程中加热温度、蒸汽压力和流量的定量控制。
一种离子化学分析氢氟酸滴定试样自动制取装置

[发明专利]一种电子级氢氟酸的生产方法-CN202110292207.0有效
发明人：陈建华;陈忠毅;周远慧;吴子亮;陈道钦;蓝江煌 -专利权人：福建省建阳金石氟业有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C01B7/19 文献下载
摘要：本发明公开了一种电子级氢氟酸的生产方法，涉及电子级氢氟酸技术领域，电子级氢氟酸的原料是无水氟化氢、高锰酸钾溶液和高纯水，高锰酸钾溶液质量百分比浓度为2‑5%，高锰酸钾溶液用量为无水氟化氢质量的0.028‑0.033％,高锰酸钾溶液和高纯水的投入重量比为1:1，本发明以无水氟化氢、高锰酸钾溶液和高纯水作为生产电子级氢氟酸的原料，生产的电子级氢氟酸纯度高，产品质量高等优点，同时，生产方法简单，利于企业生产
一种电子氢氟酸生产方法

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201780014056.4在审
发明人：柴山宣之;江户彻;蒲裕充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-03-21 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，使清洗刷接触上述基板的上述一个主面，由此对该一个主面进行清洗；臭氧水供给步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后且在上述刷清洗步骤开始之前，或与上述刷清洗步骤并行，对上述基板的上述一个主面供给臭氧水。
氢氟酸溶液臭氧供给步骤主面清洗基板基板保持单元基板保持基板处理臭氧水基板处理装置清洗刷并行溶解

[发明专利]一种无水氟化钾的合成方法-CN201711342423.1在审
发明人：张军航 -专利权人：江西渠成氟化学有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： C01D3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种无水氟化钾的合成方法，包括氢氟酸粗液与碳酸钡反应形成氟化钡沉淀、将所述氟化钡沉淀与反应液进行固液分离、所述氟化钡沉淀与碳酸钾溶液反应形成氟化钾溶液与碳酸钡沉淀、将所述氟化钾溶液与所述碳酸钡沉淀进行固液分离、加入氢氟酸溶液调节所述氟化钾溶液的pH、将调节好pH的所述氟化钾溶液进行喷雾干燥形成无水氟化钾，所述氢氟酸粗液的浓度范围为10％～45％，所述氟化钡沉淀与碳酸钾溶液反应形成的所述碳酸钡沉淀进一步与所述低溶度氢氟酸溶液反应本发明利用副产低溶度氢氟酸代替无水氟化氢，不仅降低了原料成本，同时能够解决副产物氢氟酸的综合利用；通过调节pH，使除去多余碳酸钾溶液，以达到减少杂质的效果。
一种无水氟化钾合成方法

[发明专利]氟化亚锡的制备方法-CN201911199344.9有效
发明人：王辉;李煜乾;唐燕华;张建锋 -专利权人：广东光华科技股份有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C01G19/04 文献下载
摘要：所述制备方法包括以下步骤：混合氢氟酸水溶液和硫酸亚锡，得硫酸亚锡的氢氟酸溶液；向所述硫酸亚锡的氢氟酸溶液中加入氟化钡，反应后得氟化亚锡的氢氟酸溶液，过滤，取滤液浓缩，干燥，得氟化亚锡。
氟化制备方法

[发明专利]一种硅片的清洗方法-CN201711349496.3在审
发明人：侯玥玥;黄纪德;金井升;张昕宇;金浩 -专利权人：浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种硅片的清洗方法，包括：将待清洗的硅片放置在臭氧水中进行第一次水洗，在硅片表面形成氧化膜；将硅片放置在预热后的氢氟酸溶液中进行第一次酸洗，以对氧化膜进行去除，氢氟酸溶液中水与氢氟酸的比例取值范围为20:1‑10:1，包括端点值；预热后的氢氟酸溶液的温度为40℃‑80℃，包括端点值；将硅片放入去离子水中，进行第二次水洗，以对位于硅片表面的氢氟酸溶液进行清洗；将硅片放入氢氟酸和盐酸的混合溶液中，进行第二次酸洗该方法可在去除硅片表面沾污的杂质的基础上达到节省氢氟酸的目的。
一种硅片清洗方法

[发明专利]一种三氟化氮制备过程中产生的含镍废渣废水的处理方法-CN202010507824.3有效
发明人：苏嘉轩;孟祥军;张明杰;李稣领;孙昊 -专利权人：中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C02F9/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种三氟化氮制备过程中产生的含镍废渣废水的处理方法，首先用氢氟酸溶液溶解含镍废渣废水中的固体，将得到的含氟化镍、氟化氢铵和氢氟酸的混合溶液加入到电解槽；通电后电解槽的阴极室阴极沉积镍离子，氟离子和氢离子交换进入缓冲室形成氢氟酸溶液母液；缓冲室中的氢氟酸溶液母液转入氢氟酸储罐内，对搅拌和电解过程中挥发进入尾气吸收系统内的氟化氢气体进一步吸收，得到能够循环利用的氢氟酸溶液；阴极室中含镍离子溶液采用浓缩降温结晶方式回收氟化氢铵。本发明能安全有效的将三氟化氮制备过程中产生的危险废物进行无害化处理，得到单质镍、氟化氢铵物料，同时实现了对氢氟酸的循环利用，降低了含镍废渣废水的处理成本。
一种氟化制备过程产生废渣废水处理方法

[发明专利]一种溶解钛铝合金样品的混合酸溶液及其制备方法与应用-CN202110220361.7在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;俞晗 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G01N1/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种溶解钛铝合金样品的混合酸溶液及其制备方法与应用，所述混合酸溶液包括硝酸溶液与氢氟酸溶液；所述硝酸溶液的浓度为60‑70wt％；所述氢氟酸溶液的浓度为32‑40wt％；所述硝酸溶液与氢氟酸溶液的体积比为所述制备方法包括：将硝酸溶液与氢氟酸溶液按照体积比为1:(1‑3)进行混合，振荡均匀后得到所述混合酸溶液。所述应用包括：将钛铝合金样品与混合酸溶液进行混合，加热并振荡，得到溶有钛和铝的溶液。本发明提高了钛铝合金的溶解效率，缩短了溶解时间，实现了钛铝合金在混合酸溶液中的彻底溶解，从而满足了后续ICP‑OES检测标准。
一种溶解铝合金样品混合溶液及其制备方法应用

[发明专利]一种溶解铜磷合金样品的混合酸溶液及其制备方法与应用-CN202110220362.1在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;俞晗 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G01N1/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种溶解铜磷合金样品的混合酸溶液及其制备方法与应用，所述混合酸溶液包括硝酸溶液与氢氟酸溶液；所述硝酸溶液的浓度为62‑68wt％；所述氢氟酸溶液的浓度为32‑40wt％；所述硝酸溶液与氢氟酸溶液的体积比为所述制备方法包括：将硝酸溶液与氢氟酸溶液按照体积比为1:(1‑3)进行混合，振荡均匀后得到所述混合酸溶液。所述应用包括：将铜磷合金样品与混合酸溶液进行混合，加热并振荡，得到溶有铜和磷的溶液。本发明提高了铜磷合金的溶解效率，缩短了溶解时间，实现了铜磷合金在混合酸溶液中的彻底溶解，从而满足了后续ICP‑OES检测标准。
一种溶解合金样品混合溶液及其制备方法应用

[发明专利]晶圆的清洗方法及去除氮化硅层和氮氧化硅层的方法-CN200910251364.6无效
发明人：曹玉武 -专利权人：无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2009-12-03 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：一种晶圆的清洗方法，所述方法包括：提供晶圆，所述晶圆中形成有隔离结构，所述晶圆上形成有氮化硅层、及位于所述氮化硅层上的氮氧化硅层；采用氢氟酸溶液去除氮氧化硅层；其中，所述氢氟酸溶液中，氢氟酸与水的体积比为本发明还提供一种去除氮化硅层和氮氧化硅层的方法，包括：提供结构，所述结构形成有待去除的氮化硅层，及位于所述氮化硅层表面上待去除的氮氧化硅层；采用氢氟酸溶液去除氮氧化硅层；其中，所述氢氟酸溶液中，氢氟酸与水的体积比为
清洗方法去除氮化氧化

[发明专利]一种多晶硅化学机械研磨后的清洗方法-CN201711191628.4在审
发明人：周小红;闵源;周小云;蒋阳波 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2017-11-24 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学机械研磨后的清洗方法，其特征在于包括以下步骤颗粒物清洗；第一道刷洗(Brush1)，采用氨水作为清洗剂配合刷子对晶圆表面进行刷洗；第二道刷洗(Brush2)，采用氢氟酸溶液作为清洗剂配合刷子对晶圆表面进行刷洗通过调整了常规清洗工艺中两道刷洗的工艺顺序，将对氧化硅具有明显破坏作用的氢氟酸溶液刷洗工序置后，如此通过工序的调整，使得多晶硅表面在进行氨水刷洗时，能够得到颗粒物清洗时产生的氧化硅层的保护，从而避免了氨水对于多晶硅表面的腐蚀而产生粗糙化的破坏；同时减少了氢氟酸溶液刷洗时的氢氟酸溶液流量，既减少了氢氟酸溶液从而节省了成本，又能够减少氢氟酸溶液对于多晶硅表面的损伤。
一种多晶化学机械研磨清洗方法

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