“曝光顺序”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果221955个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种灰阶掩膜版及利用其制造液晶显示器的方法-CN201510138112.8在审
发明人：刘文雄;王鸣昕 -专利权人：南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
申请日： 2015-03-26 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明提出一种灰阶掩膜版及利用该掩膜版制造液晶显示器的方法，该掩膜版包括遮光区和与所述的遮光区相邻的过渡区，所述的过渡区位于所述的掩膜版的边缘位置，定义遮光区与过渡区顺序展开的方向为长度方向，与长度方向垂直的方向为宽度方向，所述的过渡区包括若干交错分布的遮光条和透光狭缝，所述的遮光条的宽度向外呈线性递减排列，所述的透光狭缝的宽度小于曝光机能够分辨的最小尺寸。本发明通过设置一种具有过渡区的掩膜版，使光在过渡区产生衍射效应，实现过渡区透过光的强度渐变的光刻机制，消除了由于不同膜层具有高度差边缘曝光阴影区域残留问题，保证了膜层厚度连续变化，不发生断裂。
一种灰阶掩膜版利用制造液晶显示器方法

[发明专利]图像传感器的像素切换方法、拍照装置和终端-CN201510964963.8在审
发明人：李龙佳 -专利权人：广东欧珀移动通信有限公司
申请日： 2015-12-18 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：图像传感器的每个滤光单元覆盖多个像素单元并构成像素结构单元，且在每个像素结构单元内，同列的像素单元采用相同的选择信号驱动，同行的像素单元采用不同的选择信号驱动，该方法包括：在正常模式时，同步地控制每个像素结构单元内的像素单元隔行曝光，及每列的像素单元的选择信号驱动顺序地工作；在夜景模式时，则同步地控制每个像素结构单元内的每列的像素单元的选择信号驱动同时工作，及每行的像素单元同时曝光；以及，读取像素阵列的输出，并根据确定的拍照模式对输出进行合并以获得对应拍照模式的像素数据
图像传感器像素切换方法拍照装置终端

[发明专利]一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法-CN201910586923.2在审
发明人：张柯;张雷;李伟成 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法，其包括光刻控制系统、多个投影成像系统、数据控制系统、运动平台系统，所述光刻控制系统控制所述投影成像系统、数据控制系统和运动平台系统，所述运动平台系统沿扫描方向运动，所述投影成像系统垂直于扫描方向顺序排列，包括数字微镜阵列DMD、双远心成像系统和分光系统，所述数字微镜阵列DMD的生成的图像通过双远心成像系统和分光系统投影至所述运动平台系统的成像面，相邻所述投影成像系统在成像面形成的成像区域在垂直于所述扫描方向上彼此拼接或重叠光刻板沿着扫描方向扫描，扫描一次即可完成整幅图形，有效的提高了曝光效率。
投影成像系统运动平台系统扫描方向双远心成像系统数据控制系统数字微镜阵列分光系统控制系统垂直成像面光刻扫描扫描方向顺序扫描方向运动成像区域成像系统曝光效率全部区域投影光刻高效率光刻板拼接投影图像曝光覆盖

[发明专利]分段式金手指制作工艺-CN201010142094.8有效
发明人：李叶飞;张育猛 -专利权人：梅州市志浩电子科技有限公司
申请日： 2010-04-08 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： H05K3/40 文献下载
摘要：所述分段式金手指制作工艺按顺序包括以下步骤：提供板材：提供经过前处理后的印刷电路板基板，所述印刷电路板基板形成有钻孔；外层图转：对所述印刷电路板基板进行压膜、曝光和显影，形成外层线路；图形电镀：电镀所述印刷电路板基板，以加厚外层线路及孔内铜厚；二次干膜：对印刷电路板基板清洁烘干后，再次进行压膜、曝光和显影，将金手指位置开窗。
段式手指制作工艺

[发明专利]平版印刷版原版及其制版方法-CN201210055580.5有效
发明人：铃木昭太;石黑由利子 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： B41C1/10 文献下载
摘要：具体地，涉及一种平版印刷版原版，所述平版印刷版原版以下列顺序包括：载体；图像记录层，所述图像记录层能够通过曝光后在印刷机上用印刷墨和润版水中的至少一种移除所述图像记录层的未曝光区域而形成图像，并且含有红外吸收染料
平版印刷原版及其制版方法

[发明专利]有源矩阵基底、显示器件和图象传感器件-CN01121152.0有效
发明人：和泉良弘;近间义雅;村井淳人 -专利权人：夏普公司
申请日： 2001-06-02 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： G02F1/136 文献下载
摘要：提供了一种有源矩阵基底，能缩短象素电极的制造工艺、通过自对准改善曝光精度和防止象素电极之间的泄漏故障。该有源矩阵基底具有以矩阵形状放置的TFT。在透光基底上形成有栅极信号线和源极信号线。在上述线条上的栅极绝缘膜上按顺序形成半导体层、由沟道保护层左右分开的源极电极和漏极电极。由此制造TFT。然后整个基底上覆盖层间绝缘膜。通过在层间绝缘膜上施加包含ITO、ATO或ZnO作为透明导电颗粒的一层光敏透明树脂例如负性的聚丙烯树脂，从基底的背侧进行曝光和显影，形成象素电极。
有源矩阵基底显示器件图象传感

[发明专利]一种曲面共形多层印制板的制备装置及方法-CN201911039726.5有效
发明人：李超;尹恩怀;安占军 -专利权人：西安瑞特三维科技有限公司
申请日： 2019-10-29 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H05K3/46 文献下载
摘要：本发明提出一种曲面共形多层印制板的制备装置及方法，基于五轴运动系统结合压电喷墨技术，采用双喷头设计，一个喷头喷射沉积纳米导电材料，另一个喷头喷射沉积介电材料，将两材料按照一定顺序沉积于曲面基材上。该固化方式是一种随形曲面的曝光固化形式，避免了平面光源曝光曲面所造成的固化效果不一致及厚度不一致的现象。通过两种材料的层层打印堆积，控制过程中固化条件，最终实现曲面共形多层电路板的打印。
一种曲面多层印制板制备装置方法

[发明专利]图像处理方法、装置、存储介质及电子设备-CN201910579967.2有效
发明人：康健 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像处理方法、装置、存储介质及电子设备，其中图像处理方法包括：基于第一曝光值，持续获取目标场景的第一YUV图像；按照曝光的先后顺序将第一YUV图像存储至第一图像缓存队列；当需要进行预览或拍照或录像时
图像处理方法装置存储介质电子设备

[发明专利]一种基于图片曝光转化率预测模型的图片推荐方法-CN202211260773.4有效
发明人：宇文瑾;薛铸鑫;郝创博;徐锋;史小龙;李子博;邓大伟;王宇浩;隋悦 -专利权人：北京京航计算通讯研究所
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G06F16/535 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于图片曝光转化率预测模型的图片推荐方法，属于互联网图片电商搜索技术领域，解决了现有多目标优化方法效果不佳的问题。建立图片的曝光转化率预测模型CTCVR并训练，根据损失函数进行反向传播直至收敛。利用模型对所有图片进行处理，得到每张图片的点击率CTR、CVR、CTCVR以及图文相关值IMR,选取IMR值大于阈值的图片，并将选的图片按照CTCVR值由大至小的顺序推荐给用户。
一种基于图片曝光转化预测模型推荐方法

[发明专利]制造离散轨道磁记录介质的方法-CN201210192665.8无效
发明人：金海成;李明馥;孙镇昇 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2008-08-04 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：该制造离散轨道磁记录介质的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成下层、记录层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有形成同心圆的线图案以预定间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得表面等离子体激元传递的光能的分布使光致抗蚀剂层的位于金属层的图案之间的中部被曝光，以使光致抗蚀剂层被曝光成第二图案；(c)去除被图案化的金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d
制造离散轨道记录介质方法

[实用新型]一种自动检调光装置-CN201420424091.7有效
发明人：黄延平 -专利权人：无锡工艺职业技术学院
申请日： 2014-07-30 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： G03B7/00 文献下载
摘要：单片机、步进电机驱动电路、微型步进电机、光学镜头、可变光阑、硅光电池、信号调理电路和AD转换电路；其中，光学镜头、可变光阑、硅光电池、信号调理电路、AD转换电路、单片机、步进电机驱动电路和微型步进电机顺序相接本申请实现了控制可变光阑的孔径的无级调节，克服了传统光阑片调光分档进行，调节不连续，不灵活且响应速度慢，中途换挡丢失目标的缺陷；采用同步多级时间积分延长曝光时间，提高光能量利用率，结构设计上减小了相机系统的重量和体积，在低照度的环境下也能输出具有高信噪比的信号，解决了小相对孔径、长焦距高分辨力航空相机的曝光不足问题。
一种自动调光装置

[实用新型]激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置-CN201220171657.0有效
发明人：杨海峰;刘磊;郝敬斌;朱华 -专利权人：中国矿业大学
申请日： 2012-04-23 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置，包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置，激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接；脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成。采用脉冲激光光刻技术对预先旋涂了光刻胶的金属材料表面进行光刻，然后浸入显影液中除去曝光的光刻胶，继而采用电化学沉积技术对材料表面进行复合镀层的可控电沉积，最后再清除未被曝光的光刻胶，在金属材料表面得到带有规则微观织构的表面复合镀层
激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置

[发明专利]图案形成方法、电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、使用其的电子器件的制造方法和电子器件-CN201280044672.1有效
发明人：泷泽裕雄;椿英明;平野修史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-09-11 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案
图案形成方法电子束敏感紫外线辐射树脂组合抗蚀剂膜使用电子器件制造

[发明专利]编码光信号的通信的设备和方法-CN201580008565.7有效
发明人： C.P.M.J.巴格根;R.里伊特曼;P.H.J.M.范沃尔图伊森 -专利权人：飞利浦灯具控股公司
申请日： 2015-02-06 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： H04B10/116 文献下载
摘要：一种设备，包括：输入，用于从卷帘式快门照相机接收信号，其中该照相机通过按顺序曝光每一帧的行来捕获帧，该信号包括编码光信号；以及信号处理模块，其被安排成从一数量的所述行之中的每一行获得编码光信号的各自采样，所述数量是与利用照相机在每一帧中所曝光的相比实质上更少的行的数量。
编码

[发明专利]图像曝光方法、装置和电子设备-CN202011278728.2在审
发明人：黄春成 -专利权人：维沃移动通信（杭州）有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像曝光方法、装置及电子设备，该方法包括：在对待曝光图像进行曝光的过程中，获取N个闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度；根据N个闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，调整待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度在对待曝光图像进行曝光的过程中，获取闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，并根据闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，调整所述待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度。以此本实施例通过调整待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度，即可消除图像的曝光现象。同时，由于并不需要将曝光时间限制为1/100秒的整数倍或1/120秒的整数倍，因此能够避免曝光后的图像引入噪声，进而提高了图像的显示效果。
图像曝光方法装置电子设备