专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光扩散片的制备方法-CN201910703385.0有效
  • 国成立;戴付建;赵烈烽 - 浙江舜宇光学有限公司
  • 2019-07-31 - 2021-08-31 - G02B5/02
  • 该的制备方法包括以下步骤:在衬底表面形成光刻胶层,定义光刻胶层具有中心区域和外围区域,外围区域包括n个第一外围区域和n+1个第二外围区域,第一外围区域和第二外围区域均环绕中心区域且交替设置,n为≥1的自然数;对光刻胶层顺序进行曝光和显影,以将中心区域性形成微结构层,并将第一外围区域和第二外围区域形成具有凹槽的防溢胶结构,防溢胶结构环绕微结构层,其中,对中心区域的曝光强度小于对第一外围区域的曝光强度,且对第二外围区域的曝光强度小于对第一外围区域的曝光强度
  • 扩散制备方法
  • [发明专利]装置制造方法,掩模组,数据组,掩模图案化方法及程序-CN200410045113.X无效
  • M·F·A·尤林斯;J·M·芬德斯 - ASML荷兰有限公司
  • 2004-04-06 - 2005-01-26 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种装置制造方法,包括:利用图案形成装置进行第一次曝光,以给辐射束的横截面赋予第一图案,所述第一图案包括所需的在局部亮区的暗分离特征且在所述局部亮区周围是暗的;并且将带图案的辐射束投影到辐射敏感材料层的靶部上,及利用图案形成装置进行第二次曝光,以给辐射束的横截面赋予第二图案,所述第二图案在基本上与所述局部亮区对应的区域内是暗的,而且在所述局部区域的更宽的周围部分是亮的;并且将带图案的辐射束投影到辐射敏感材料层的靶部上,其中可以以任何顺序进行所述第一和第二次曝光;其特征在于:第一照明设置用于所述第一次曝光并且第二照明设置用于所述第二次曝光,所述第二照明设置与所述第一照明设置不同。
  • 装置制造方法模组数据图案程序
  • [发明专利]改进的CMOS图像传感器-CN202210132353.1在审
  • 倪扬 - 上海虹感微电子科技有限公司
  • 2022-02-14 - 2023-08-25 - H04N25/766
  • 一种CMOS图像传感器包括像素矩阵和像素控制电路(VS),每个像素具有包括光电检测器(PD)和存储单元(MEM)的像素结构,该像素控制电路能够顺序写入代表曝光之后的光电检测值到所述像素的存储单元(MEM根据本发明,图像传感器进一步包括比较电路(DMU、RB、CE),该比较电路用于:存储至少部分所述像素的顺序光电检测值;比较所述顺序光电检测值;根据所述像素的顺序光电检测值生成比较信号(NUL、POS、NEG
  • 改进cmos图像传感器
  • [发明专利]电子装置和用于其的驱动方法-CN201210211658.8有效
  • 马渕圭司 - 索尼公司
  • 2012-06-21 - 2018-03-27 - H04N5/235
  • 并且被所述对应的光电转换部分共享;以及像素晶体管,其读出通过所述对应的光电转换部分生成的信号电荷,并且被所述对应的光电转换部分共享;包括扫描器的固态图像捕获设备,所述扫描器能够驱动所述像素以便同时开始全部像素的曝光时段,能够驱动所述像素以便同时结束全部像素的曝光时段,并且在读出时段中顺序选择和扫描所述像素;以及机械快门,其确定用于静止图像拍摄的所述曝光时段的结束。
  • 电子装置用于驱动方法
  • [发明专利]胶囊内镜控制方法及胶囊内镜-CN202010520545.0有效
  • 邬墨家;袁建 - 重庆金山科技(集团)有限公司
  • 2020-06-09 - 2023-09-01 - A61B1/045
  • 本申请提供一种胶囊内镜控制方法,在探测到行同步信号之后,先控制图像传感器中的多行像素在同一时刻开始积分,然后控制照明模块在曝光时段内提供照明,再控制所述多行像素逐行完成积分,最后基于所述多行像素逐行完成积分的顺序依次读出每行像素的积分数据本申请控制方法因为在同一时刻将所述图像传感器中的多行像素一起打开并开始积分,相较于卷帘式曝光的控制方式缩短了图像传感器的整体曝光周期,可以有效避免运动模糊。本申请还涉及一种采用上述方法控制的胶囊内镜。
  • 胶囊控制方法
  • [发明专利]顺序式彩色摄像机系统-CN200780005228.8无效
  • 长谷川孝美 - 株式会社JAI
  • 2007-02-09 - 2009-03-11 - H04N9/04
  • 本发明提供一种帧顺序式彩色摄像机系统,该帧顺序式彩色摄像机系统与按照帧顺序使加入了红、绿、蓝的可见光与红外光或者紫外光等不可见光的发光闪光灯或者发光二极管发光的照明装置相组合,通过2个帧完成并得到高清晰度的图像CCD)(3a、3b),其将向两个方向分光后的各光学图像转换成电信号;电子快门控制单元(6),其在每一帧期间,在相当于1/2帧的时间内,并且以相互不重复的间隔对该两个固体摄像元件(3a、3b)进行顺次曝光控制;以及发光用同步信号输出单元,其与该电子快门控制单元(6)的顺次曝光控制同步地输出发光用同步信号,所述照明装置(20)接收该彩色摄像机(1)的所述发光用同步信号,与所述固体摄像元件(3a、3b)的曝光控制同步地顺次切换波长带不同的多个颜色的光来进行发光
  • 顺序彩色摄像机系统
  • [发明专利]引线框架制造方法-CN97121522.7无效
  • 柳旭烈;李相均 - 三星航空产业株式会社
  • 1997-10-23 - 2003-10-01 - H01L21/60
  • 一种连续制造引线框架的方法包括:a)预热底片且在底片的每个表面上层压感光胶片;(b)曝光和显影被层压的底片以形成感光胶片图形;(c)腐蚀工序(b)中形成的结构以形成引线框架图形;(d)去掉感光胶片图形;(e)对工序(d)中所形成的结构有选择地电镀以形成电镀层;及(f)在工序(e)中所形成结构上顺序进行下装和带缚工序。腐蚀剂可采用高压喷射,还减少了在曝光工序时不规则反射的问题。
  • 引线框架制造方法
  • [发明专利]电路板显影电镀蚀刻设备-CN201210192879.5有效
  • 藤川治;孙奇;杨中贤;杨伟雄 - 健鼎(无锡)电子有限公司
  • 2012-06-13 - 2014-01-01 - H05K3/06
  • 本发明公开一种电路板显影电镀蚀刻设备,其适于对曝光后的电路板进行显影、电镀及蚀刻制作工艺。电路板显影电镀蚀刻设备包括多个槽单元及移动单元。槽单元包括显影槽、第一水洗槽、酸洗槽、第二水洗槽、电镀槽、第三水洗槽、剥离槽、第四水洗槽、蚀刻槽、第五水洗槽及干燥槽,且此些槽单元依上述顺序彼此接连。移动单元夹持曝光后的电路板,以使曝光后的电路板依序经由显影槽、第一水洗槽、酸洗槽、第二水洗槽、电镀槽、第三水洗槽、剥离槽、第四水洗槽、蚀刻槽、第五水洗槽以及干燥槽,而完成显影、电镀及蚀刻制作工艺。
  • 电路板显影电镀蚀刻设备

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