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- [发明专利]图像处理装置和机器人控制装置-CN202180056650.6在审
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并木勇太
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发那科株式会社
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2021-08-04
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2023-04-28
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B25J19/04
- 提供一种能够决定用于拍摄被摄体的适当的曝光时间的范围和拍摄次数的图像处理装置和机器人控制装置。对拍摄被摄体而得到的拍摄图像进行处理的图像处理装置具备:第一曝光时间决定部,其决定用于拍摄所述被摄体的曝光时间的最小值;第二曝光时间决定部,其决定用于拍摄所述被摄体的所述曝光时间的最大值;拍摄条件决定部,其基于包括所决定的所述曝光时间的最小值和所述曝光时间的最大值的曝光时间范围,来决定用于拍摄所述被摄体的所述曝光时间和拍摄所述被摄体的拍摄次数;以及合成图像生成部,其将使用所决定的所述曝光时间和所述拍摄次数来拍摄所述被摄体而得到的多个拍摄图像合成
- 图像处理装置机器人控制
- [发明专利]曝光处理方法、装置和终端设备-CN201710459556.0有效
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曾元清
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OPPO广东移动通信有限公司
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2017-06-16
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2019-07-19
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H04N5/243
- 本发明公开了一种曝光处理方法、装置和终端设备,其中,方法包括:识别图像中的至少两个目标区域,确定至少两个目标区域的第一曝光参数,根据至少两个目标区域中各目标区域在图像中所占面积,调整各目标区域对应的权重值,根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值,计算得到图像的第二曝光参数,根据图像的第二曝光参数,对图像进行曝光处理。通过将图像识别为不同的目标区域,根据确定的不同目标区域对应的第一曝光参数和权重值计算得到图像的第二曝光参数,该图像的第二曝光参数充分考虑了不同目标区域对曝光参数的影响,解决了逆光条件下因过曝导致无法清晰成像的技术问题
- 曝光处理方法装置终端设备
- [发明专利]曝光调节方法、装置及电子设备-CN201811075131.0有效
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陈玉麟
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浙江宇视科技有限公司
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2018-09-14
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2021-06-22
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H04N5/235
- 本申请实施例提供一种曝光调节方法、装置及电子设备,该方法包括:在获得的当前图像中包含目标特征时,获得所述目标特征对应的目标亮度队列,其中,所述目标亮度队列中包含至少一个目标亮度样本;根据所述当前图像和所述目标亮度队列从预设的多个测光方案中选择出目标测光方案;根据所述目标亮度队列的平均亮度值与所述目标测光方案所对应的曝光调节阈值之间的关系判断是否满足预设曝光调节条件;若满足,则对所述当前图像进行曝光调节。该曝光调节方案可自适应地选择出测光方案,并根据其判定是否需要进行曝光处理,有效提升复杂场景下曝光算法的自适应性,并提高了曝光效果。
- 曝光调节方法装置电子设备
- [发明专利]一种栅极阵列图形的双重曝光制作方法-CN201510591374.X有效
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毛晓明;毛智彪
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上海华力微电子有限公司
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2015-09-17
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2018-05-01
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H01L21/027
- 本发明公开了一种栅极阵列图形的双重曝光制作方法,首先提供一半导体衬底,并在半导体衬底上形成多晶硅薄膜以及光刻胶;接着采用第一掩膜版在预设照明条件下对所述光刻胶执行第一次曝光,并降低第一掩膜版上重叠区域的透射率;然后采用第二掩膜版在预设照明条件下对光刻胶执行第二次曝光,且重叠区域经过两次曝光叠加后透射率为100%;再接着通过曝光后烘焙以及显影工艺使光刻胶中形成栅极线条图案以及线端切割图案;最后采用刻蚀工艺在多晶硅薄膜上形成目标图形本发明通过控制两次曝光叠加后透射率为100%,保证了重叠区域不会产生过度的光酸反应,进而保证了良好的成像质量;同时,本发明大大减化了制程,提高了产能效率,降低了制作成本。
- 一种栅极阵列图形双重曝光制作方法
- [发明专利]成像方法、成像装置、区分成像对象的方法-CN202080006332.4有效
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川岛安武
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OPTO电子有限公司
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2020-11-06
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2023-05-23
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H04N23/56
- 一种成像装置,包括作为成像器的成像传感器(111)以及作为用于照明成像传感器(111)的成像对象的照明器的脉冲LED(113),其根据各个成像条件来执行各个成像,每个成像条件包括成像传感器(111)的曝光时间te和脉冲LED(113)的照明时间tr,存储通过各个成像获得的各个图像的亮度指标值D1和各个图像的成像条件的各个组合,基于存储的亮度指标值D1和成像条件的组合,获得指示曝光时间te的变化对亮度指标值D1的影响程度的曝光贡献度k_off的估计以及指示照明时间tr的变化对亮度指标值D1的影响程度的照明贡献度k_on的估计(S36),以及基于k_on和k_off的估计,确定将在下一次成像中使用的成像条件(S37
- 成像方法装置区分对象
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