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[发明专利]石英零件细小内孔剪切增稠抛光液及抛光装置和抛光方法-CN202211486159.X在审
发明人：张振宇;张天宇;冯俊元;周淳琛;孟凡宁 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B24B31/14 文献下载
摘要：本发明提供一种石英零件细小内孔剪切增稠抛光液及抛光装置和抛光方法。石英零件细小内孔剪切增稠抛光液为具有剪切增稠效应的非牛顿流体抛光液，该抛光液为含有直径在0.1‑3μm的氧化铝和/或氧化铈磨粒的剪切增稠抛光液。抛光装置包括抛光搅拌盘、抛光池、零件工作台和升降工作台。本发明剪切增稠抛光液具有绿色环保、无毒无害、成本低、容易制备的优点。
石英零件细小剪切抛光装置方法

[实用新型]一种具有辅助抛光功能的单面抛光机-CN201720161194.2有效
发明人：郑庆福 -专利权人：佛山市卓鸿机电设备有限公司
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种具有辅助抛光功能的单面抛光机，包括上机体、下机体及安装在下机体内的抛光驱动装置、行走驱动装置，抛光驱动装置通过皮带传动机构与抛光滚筒连接，抛光滚筒一侧安装有抛光液喷涂装置，抛光液喷涂装置通过抛光液管路抛光液箱连接，抛光液箱与下机体焊接固定，抛光滚筒通过轴承安装在滚筒固定架上，滚筒固定架上安装有抛光液喷涂装置，下机体上端安装有板材固定装置，板材固定装置下端具有行走装置，行走装置与行走驱动装置配合连接；下机体上安装有辅助抛光装置，本实用新型采用机床自动抛光，加大抛光自动化程度，通过辅助抛光装置提高抛光度，保证抛光效率。
一种具有辅助抛光功能单面抛光机

[发明专利]一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法-CN201910059464.2在审
发明人：陈爽;彭丽梅 -专利权人：佛山市波义科技有限公司
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，属于抛光液技术领域，一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10‑30份、铝溶胶10‑30份、分散剂0.1‑0.5份和去离子水40‑80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
抛光液磨痕亚光瓷砖去离子水分散剂硅溶胶铝溶胶光度制备修补砖坯双重效果水磨抛光无机材料质量配比催化剂

[实用新型]一种抛光机-CN201821556146.4有效
发明人：鞠小兵;杨霁 -专利权人：成都鑫晨光学电子仪器有限责任公司
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种抛光机，属于研磨抛光领域，包括抛光机本体，抛光机本体上开设有工作槽，工作槽上设置有镜片磨杆，镜片磨杆上设置有抛光液喷头，抛光液喷头的出水口正对镜片磨杆用于放置待抛光镜片的端面，工作槽的下方设置有抛光液储液箱，工作槽与抛光液储液箱的内部连通，抛光液储液箱的外部设置有水泵，水泵的进水管穿设于抛光液储液箱壁面，水泵的出水管连接有抛光液导流管，抛光液导流管的出水端与抛光液喷头连接；本实用新型将使用后的抛光液进行过滤，将过滤后的抛光液收集到存储抛光液的储液箱中，完成抛光液的回收利用，具有节约资源及减少工作间环境污染的优点。
抛光液储液箱工作槽抛光机喷头镜片磨杆水泵本实用新型导流管过滤回收利用节约资源内部连通抛光镜片外部设置研磨抛光出水端出水管出水口工作间进水管壁面穿设正对存储

[实用新型]过滤装置-CN201922393167.X有效
发明人：敬向锋 -专利权人：富泰华精密电子（济源）有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： B01D29/01 文献下载
摘要：一种过滤装置，包括过滤机构、储液槽和抽液机构；所述过滤机构开设有出液口；所述储液槽用于储存抛光液；所述抽液机构从所述储液槽抽取抛光液并将抛光液通入所述过滤机构；所述过滤机构用于过滤抛光液，并通过所述出液口排出经过滤的抛光液本过滤装置解决了传统的过滤机在进行抛光液过滤流程中过滤速率跟不上生产速率和过滤效果差所导致的生产不良等问题。
过滤装置

[发明专利]SiC抛光液台面回收装置-CN202310450859.1有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国;余明轩 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种SiC抛光液台面回收装置，涉及抛光技术领域，该SiC抛光液台面回收装置包括抛光台、抛光盘和流体搅拌机构，抛光台上设置有回收沟槽，抛光盘可转动地设置在抛光台上，流体搅拌机构设置在抛光台上；其中，回收沟槽的底壁上设置有多个第一流体喷孔，流体搅拌机构连通至多个第一流体喷孔，并通过多个第一流体喷孔朝向回收沟槽喷射流体，以搅拌回收沟槽中的抛光液。相较于现有技术，本发明提供的SiC抛光液台面回收装置，通过喷射流体的方式实现搅拌，使得抛光液始终处于流动状态，并且流体喷射口位于底壁上，避免了抛光液中的固体颗粒沉积，提升了抛光液中固体颗粒的均匀性，保证了抛光液的回收质量
sic 抛光台面回收装置

[实用新型]纳米抛光机及其喷液装置-CN201120124381.6有效
发明人：叶华林;李秀荣 -专利权人：佛山市科达石材机械有限公司
申请日： 2011-04-25 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种纳米抛光机及其喷液装置。其中，喷液装置，包括液桶，所述液桶的底部设置有出液口，所述出液口上连接有第一单向阀，所述第一单向阀的抛光液出口上连接有阀体，所述阀体上具有活塞腔和与活塞腔相连通的抛光液进孔及抛光液出孔，所述抛光液进孔与所述第一单向阀的抛光液出口相连接，所述抛光液出孔上连接有第二单向阀，所述活塞腔内对应设置有活塞。该喷液装置不会造成管路堵塞的问题。同时，通过控制活塞的行程及启停时间，可以方便的实现对抛光液定量、定时、自动喷洒。
纳米抛光机及其装置

[发明专利]一种光有源器件半导体衬底的抛光工艺-CN201811457051.1有效
发明人：沈伟明;李再裕;周祥胜 -专利权人：宁波市永硕精密机械有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明属于半导体材料领域，涉及一种光有源器件半导体衬底的抛光工艺。所述抛光工艺包括以下步骤：将旋转的半导体衬底压在同方向旋转的抛光垫上，向抛光垫输送抛光液，半导体衬底被抛光垫抛光。述抛光液包括以下重量百分比组分：磨料：2‑10％；磷脂：1‑5％；pH调节剂：1‑5％；表面活性剂：2‑8％；氧化剂：0.5‑1％余量为水；所述抛光液的pH值为9‑11。
一种有源器件半导体衬底抛光工艺

[实用新型]抛光装置-CN202120578064.5有效
发明人：张冬平;杨秀高;索生江;张群文;高伟;肖欢;张长虹 -专利权人：富泰华工业（深圳）有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种抛光装置，用于通过抛光液对产品进行抛光，包括：槽体，设有抛光槽，所述抛光槽的槽底凹设有溢流槽，所述抛光槽及所述溢流槽用于容置所述抛光液；支撑架，架设于所述抛光槽中，用于固定所述产品；抛光组件，用于伸入所述抛光槽中与抛光液配合对所述产品进行抛光；气垫，容置于所述溢流槽中，通过控制所述气垫体积缩小或膨胀控制所述抛光液的液面高度。上述抛光装置中，通过控制气垫体积缩小或膨胀控制抛光液的液面高度，用于在抛光组件对产品进行抛光时，使抛光槽中的抛光液完全浸过产品以充分并均匀地覆盖产品的平面，进而有效改善抛光效果。
抛光装置

[发明专利]CMP抛光液供应系统-CN200910075364.5无效
发明人：廖垂鑫;柳滨;陈威 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-09-14 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明涉及半导体晶圆的化学机械抛光设备上的抛光液供应系统，本发明包括抛光液存储罐、设置在抛光液存储罐内的由搅拌电机和搅拌叶片构成的搅拌装置、设置在抛光液存储罐内的冷却液管以及设置在抛光液存储罐内的温度传感器，去离子水管和抛光液管通过三位三通电磁阀、液体流量计和抛光液存储罐相连通。采用本发明CMP抛光液供应系统的化学机械抛光设备在对晶圆进行抛光时，可获得所需一定浓度和一定温度的抛光液，这样可有效提高抛光质量，并且节约人力、物力、财力，有效提高生产效率，同时降低洁净厂房的维护成本。
cmp 抛光供应系统

[实用新型]一种抛光液混合装置-CN201821363613.1有效
发明人：陈杏辉 -专利权人：深圳市佳欣纳米科技有限公司
申请日： 2018-08-23 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： B01F9/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光液混合装置，包括底座，所述底座内设置有电机，所述电机的输出轴上固定连接有第一斜齿轮，所述第一斜齿轮的上方啮合有第二斜齿轮，所述第二斜齿轮上端侧壁固定连接有转动轴，所述转动轴贯穿底座的上侧壁，所述底座的上方设置有抛光液桶，所述抛光液桶底端开设有与转动轴的顶端对应的卡槽。本实用新型中设置了螺旋型搅拌桨，可将抛光液桶底部的抛光液向上方翻动，抛光液桶底部的沉淀物，使其更加完全的与抛光液混合，抛光液桶上方设置有与其转动连接的盖子，盖子可防止在搅拌过程中落入灰尘等污染物，用搅拌装置直接在抛光液桶内进行搅拌，避免了更换容器的过程，防止容器污染抛光液，提升了搅拌效率。
抛光液桶斜齿轮底座抛光液转动轴抛光液混合装置本实用新型盖子电机啮合螺旋型搅拌桨更换容器搅拌效率搅拌装置容器污染上端侧壁转动连接上侧壁输出轴翻动底端污染物贯穿

[实用新型]一种抛光液供给位置核准装置和化学机械抛光系统-CN202023038234.5有效
发明人：许振杰;梁清波 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光液供给位置核准装置和化学机械抛光系统，所述抛光液供给位置核准装置包括固定座和水平板，所述固定座可拆卸地设置于抛光盘的外周壁，所述水平板连接于所述固定座的顶部并朝向抛光盘的中心设置；所述水平板设置于抛光垫与抛光液供给臂之间，抛光液经由所述抛光液供给臂的端部滴落至所述水平板的顶面，水平板的顶面设置有刻度线以量测抛光液的滴落位置。
一种抛光供给位置核准装置化学机械抛光系统

[发明专利]一种蓝宝石介电泳抛光机用抛光液添加装置-CN202110765327.8有效
发明人：张学良;袁巨龙;邓乾发;王金虎;彭宽栋;郑彬楠 -专利权人：杭州科技职业技术学院;浙江工业大学
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种蓝宝石介电泳抛光机用抛光液添加装置，其在上抛光盘上设置主进液盘和循环进液盘，通过液体流道的设置可以同时输入新的以及循环回收的抛光液，主进液盘中新的抛光液靠内侧，循环进液盘中循环回收的抛光液靠外侧，合理的保证新旧抛光液参与抛光的时间差异，令新的抛光液更多的进行抛光，主进液盘和循环进液盘通过液体流道的设置，进行单进液管输入从而简化结构，圆周多位置出液孔的输出，对应上抛光盘上同步进行圆周多位置入液孔的出液，保证抛光液的均匀分布，提高对蓝宝石的均匀抛光效果，整体上在保证抛光质量的同时，更好的实现对抛光液的循环输入进行使用，降低抛光成本以及减少资源浪费。
一种蓝宝石电泳抛光机抛光添加装置

[实用新型]一种抛光装置的抛光液添加结构-CN201922087666.6有效
发明人：张水流;杨帆 -专利权人：广东顺德锐界科技有限公司
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种抛光装置的抛光液添加结构，其特征在于：包括设置于抛光机上用于储存抛光液的软体容器，软体容器上引出有连通其内腔的输液管，软体容器内的抛光液经输液管输出。本自动上料结构中，储存有抛光液的软体容器设置于抛光机上，工人在使用抛光机处理产品表面时可在不停机的状态下直接添加抛光液，使抛光液的添加更加方便快捷，并有效提升抛光工作效率。
一种抛光装置添加结构

[发明专利]一种不锈钢衬底的精密抛光方法-CN200910194558.7有效
发明人：胡晓凯;宋志棠;刘卫丽 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2009-08-25 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：按比例配制抛光液；将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；将不锈钢衬底5表面进行化学机械抛光至表面完全成镜面，立即清洗即可。经本发明抛光后的不锈钢衬底，其表面平整光滑，均方根粗糙度仅0.7纳米，克服了其他抛光方法所无法满足的平坦度及粗糙度的要求。
一种不锈钢衬底精密抛光方法

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