专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]芯片研磨抛光盘螺旋构造-CN201520139372.2有效
  • 沈金章 - 创技工业股份有限公司
  • 2015-03-12 - 2015-08-26 - B24B37/16
  • 一种芯片研磨抛光盘螺旋构造,该研磨抛光盘依轴向可区分为盘体与研磨抛光层,该研磨抛光层为进行研磨抛光加工的接触层,其依径向能区分出第一研磨抛光材及第二研磨抛光材,第一研磨抛光材是由该盘体所延伸且为金属基材,该第二研磨抛光材呈至少一螺旋分布于该研磨抛光层径向断面,借此提供一种符合高移除率、低平坦度、低刮伤的研磨抛光盘。
  • 芯片研磨抛光螺旋构造
  • [实用新型]晶片研磨抛光盘同心构造-CN201520139371.8有效
  • 沈金章 - 创技工业股份有限公司
  • 2015-03-12 - 2015-08-26 - B24B37/14
  • 一种晶片研磨抛光盘同心构造,该研磨抛光盘依轴向可区分为盘体与研磨抛光层,该研磨抛光层为进行研磨抛光加工的接触层,其依径向能区分出第一研磨抛光材及第二研磨抛光材,第一研磨抛光材是由该盘体所延伸且为金属基材,该第二研磨抛光材呈数环状且同中心分布于该研磨抛光层的径向断面,藉此提供一种符合高移除率、低平坦度、低刮伤的研磨抛光盘。
  • 晶片研磨抛光同心构造
  • [实用新型]一种钢球抛光设备-CN202122255474.9有效
  • 许金辉 - 如皋市神龙机械配件有限公司
  • 2021-09-17 - 2022-03-08 - B24B31/06
  • 本实用新型公开了一种钢球抛光设备,包括钢球抛光机构本体、抛光机构研磨箱体、抛光机构分料模块、钢球抛光驱动机构、精细研磨振动机构,钢球抛光机构本体顶端设置有抛光机构研磨箱体,抛光机构研磨箱体底端设置有钢球抛光驱动机构,抛光机构研磨箱体侧面底端设置有抛光机构分料模块,抛光机构研磨箱体内测设置有精细研磨振动机构,本装置结构简单、操作使用便捷,能够针对钢球实现高效率精细化研磨,相较于传统研磨设备能够大大缩短研磨抛光周期,提高研磨抛光质量降低研磨成本,实现了钢球研磨抛光从半成本到成品仅适用一台设备,能够间接降低钢球研磨抛光的生产成本。
  • 一种抛光设备
  • [实用新型]一种抛光盘在线研磨-CN202222192183.4有效
  • 方文哲;李云福;金光龙;柴玉明 - 苏州拓浦自动化设备有限公司
  • 2022-08-19 - 2023-01-13 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种抛光盘在线研磨机,包括主体,所述主体顶端右侧设置有抛光仓,所述主体顶部左侧设置有研磨仓,所述主体内部前端右侧固定连接有抛光电机,所述抛光电机输出端固定连接有抛光轴,所述抛光轴顶部固定连接有抛光托盘,所述抛光托盘顶部螺纹连接有抛光盘,所述主体内部前端左侧固定连接有研磨电机,所述研磨电机输出端固定连接有研磨轴,所述研磨轴顶部固定连接有研磨托盘,所述研磨托盘顶部螺纹连接有研磨盘。本实用新型中,通过抛光进料开关与研磨进料开关控制相应的隔膜泵运转,将抛光液存储仓与研磨液存储仓内的抛光液与研磨液通过抛光液进料管与研磨进料管输送至抛光盘和研磨盘上,提高了工作效率。
  • 一种抛光在线研磨机
  • [发明专利]一种管形光学零件内外壁研磨抛光的装置及方法-CN202010986019.3有效
  • 白庆光;回长顺 - 天津津航技术物理研究所
  • 2020-09-18 - 2022-04-01 - B24B13/00
  • 本发明提供了一种管形光学零件内外壁研磨抛光装置和方法,用以解决现有技术中管形光学零件的研磨抛光无法实现批量化生产、研磨抛光精度不高、不均匀的问题。所述研磨抛光装置,由内壁研磨抛光部和外壁研磨抛光部组成。对内壁研磨抛光时,将零件固定在外基座,将内壁研磨抛光组件插入管形光学零件内部,释放弹簧后使凸研磨抛光垫凸面与零件内壁紧密接触,放入研磨液或抛光液,驱动内连接轴绕轴线转动和沿轴线平动,驱动外粘接基座转动且与内连接轴转动方向相反,完成内壁的研磨抛光;对外壁抛光时,将外壁研磨抛光组件包围管形光学零件的外部。本发明对管形光学零件的内外壁进行机械研磨抛光,工作面接触面积大,加工效率高,可以实现批量生产。
  • 一种光学零件外壁研磨抛光装置方法
  • [发明专利]一种异形面自动抛光装置-CN201510029102.0有效
  • 张武;钟辉贤;党辉;董俊峰;高云峰 - 大族激光科技产业集团股份有限公司
  • 2015-01-19 - 2018-03-02 - B24B37/00
  • 本发明涉及抛光技术领域,公开了一种异形面自动抛光装置。该抛光装置包括研磨主机柜、研磨盘自动清洗机构、研磨液供液机构、异形面抛光机构和控制器;所述研磨主机柜的主架上安装有研磨盘自动清洗机构,研磨盘自动清洗机构用于对研磨盘上的抛光垫进行清洗;研磨主机柜的电控柜上安装有研磨液供液机构,用于给研磨盘上的抛光垫供给研磨液;研磨主机柜的下架上至少安装有一组与抛光垫位置相对应的异形面抛光机构,用于装夹异形产品,并调整异形产品与抛光垫的接触位置;所述控制器分别控制研磨主机柜的旋转电机、研磨盘自动清洗机构、研磨液供液机和异形面抛光机构。本发明能够同时实现多工位上的异形产品的自动抛光,并能提高抛光效率。
  • 一种异形自动抛光装置
  • [实用新型]一种碳化硅晶圆的研磨抛光装置-CN202020179385.3有效
  • 苏晋苗;苏冠暐 - 北京芯之路企业管理中心(有限合伙)
  • 2020-02-18 - 2020-12-01 - B24B37/10
  • 本实用新型涉及电子技术领域,尤其是一种碳化硅晶圆的研磨抛光装置,包括晶圆握持器、晶圆握持环、研磨台、研磨抛光垫和研磨浆液与去离子水供应控制装置,晶圆握持环安装在晶圆握持器上,研磨抛光垫安装在研磨台上,晶圆握持环与研磨抛光垫对应配合设置,研磨抛光垫包括有研磨区和抛光区,研磨抛光垫呈圆形设置,抛光区位于研磨抛光垫的中心处,研磨区环绕在抛光区的外部,研磨区与抛光区之间环绕设置有沟槽,研磨浆液与去离子水供应控制装置分别对应于研磨区和抛光区单独供应管路设置
  • 一种碳化硅研磨抛光装置
  • [实用新型]一种玻璃片双面抛光研磨装置-CN202121062008.2有效
  • 李长坤;谢永奕;王永 - 广东硅峰半导体材料有限公司
  • 2021-05-18 - 2021-11-23 - B24B7/24
  • 本实用新型涉及抛光研磨设备技术领域,且公开了一种玻璃片双面抛光研磨装置,包括箱体,所述箱体的内底壁固定安装有固定块。该玻璃片双面抛光研磨装置,通过设置驱动柱、齿盘、下抛光研磨盘、上抛光研磨盘、承载环、双面锥齿轮、转轴和主动齿轮,转轴转动,主动齿轮和从动齿轮同速同方向转动,两个双面锥齿轮同速同方向转动,使得下抛光研磨盘和上抛光研磨盘的转动方向相反且同速旋转,从而对玻璃片的双面进行抛光研磨,同时通过设置电动推杆和安装箱,调节电动推杆的伸展,顶部安装箱下移,上抛光研磨盘下移,给予玻璃片压力,有效对玻璃片进行抛光研磨,解决了单面抛光研磨抛光研磨效果差的问题。
  • 一种玻璃片双面抛光研磨装置
  • [发明专利]一种清水研磨抛光工艺-CN201910776979.4有效
  • 和晓宇;和洪喜;和俊卿;赵宝春 - 海南亿鑫和科技有限公司
  • 2019-08-22 - 2021-07-09 - B24B1/00
  • 本发明涉及研磨抛光技术领域,更具体地涉及到一种清水研磨抛光工艺。所述清水研磨抛光工艺包括以下步骤:第一阶段为使用粗磨抛光研磨盘进行20~30min粗磨,所述粗磨抛光研磨盘包括粗磨研磨剂;第二阶段为使用精磨抛光研磨盘进行15~25min精磨,所述精磨抛光研磨盘包括精磨研磨剂;第三阶段为使用精抛抛光研磨盘进行5~15min抛光,所述精抛抛光研磨盘包括精抛研磨剂。本发明提供一种清水研磨抛光工艺,可在只使用清水的情况下进行研磨抛光,避免使用含有研磨剂的粉剂或浆料进行研磨造成的环境污染和对人体健康的危害;可应用于玻璃、硅晶体和金属陶瓷等材料中,且可实现粗磨、精磨和精抛一系列的操作
  • 一种清水研磨抛光工艺
  • [实用新型]一种异形工件研磨抛光-CN202223024477.2有效
  • 卢艳珍 - 深圳市精研旺研磨科技有限公司
  • 2022-11-14 - 2023-02-24 - B24B29/00
  • 本实用新型涉及研磨抛光器械领域,具体是一种异形工件研磨抛光机,包括研磨抛光机本体、操作板、透明窗,研磨抛光机本体右上侧安设有传动辊,传动辊上侧壁转动衔接传送带下侧壁,传送带右上侧设有抛光轮,抛光轮动力输入端联接从动齿轮动力输出端,从动齿轮动力输入端联接驱动齿轮动力输出端,驱动齿轮联接伺服电机A,伺服电机A下方为支撑板,支撑板左侧为研磨抛光装置A,研磨抛光装置A左侧安设有研磨抛光装置B,可通过多组不同方位研磨抛光装置可实现逐步抛光达到很精细的抛光效果,通过加设往返抛光功能可使得研磨抛光更加均匀,自动化程度高可实现批量生产,生产效率高,效益高,抛光精度通过更换抛光装置调节,应用范围广。
  • 一种异形工件研磨抛光机
  • [发明专利]一种精孔抛光工艺装置及方法-CN202310246519.7在审
  • 陈寅丘;熊朝林;庹先定;郭学卫;朱婷婷;姜三琦;张虎 - 阿为特精密机械(常熟)有限公司
  • 2023-03-15 - 2023-05-26 - B24B29/04
  • 本发明公开了一种精孔抛光工艺装置及方法,包括壳体、转盘机构、抛光机构、偏心机构;转盘机构设置在壳体底部,包括转盘控制器、转盘手柄和转盘,转盘控制器通过转盘轴与转盘相连接,转盘用于固定待研磨产品,待研磨产品包括待研磨精孔,待研磨精孔与转盘轴同心;抛光装置包括连接块、抛光电机和抛光头,抛光电机固定设置在连接块上,通过抛光轴与抛光头相连接,抛光头与待研磨精孔相对,转盘手柄带动转盘控制器左右移动以调整转盘的位置,使得抛光轴与待研磨精孔非同心;偏心机构与抛光机构正交,用于驱动抛光机构上下往复运动,以带动抛光头在待研磨精孔内上下移动,将待研磨精孔进行抛光研磨。本发明保证研磨的均匀,减少孔抛光的不可控性。
  • 一种抛光工艺装置方法

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