专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抛光输送装置-CN201110306986.1无效
  • 路新春;潘燕;许振杰;何永勇 - 清华大学
  • 2011-10-11 - 2012-02-01 - B24B57/02
  • 本发明公开了一种抛光输送装置,所述抛光输送装置包括:抛光储存容器;抛光输送管,抛光输送管的进端与抛光储存容器相连;开关阀,开关阀设在抛光输送管上用于接通和断开抛光输送管;输送泵,输送泵设在抛光输送管上以将抛光储存容器内的抛光抛光输送管的出端排出,其中输送泵位于抛光储存容器和开关阀之间;和减压阀,减压阀设在抛光输送管上且位于输送泵和开关阀之间用于稳定抛光的压力。通过利用抛光输送装置输送抛光,可以使输出的抛光的压力和流量非常稳定,即可以使输出的抛光均匀地分布在抛光垫上,从而大大地提高抛光效果。
  • 抛光输送装置
  • [发明专利]抛光输送装置-CN202110760628.1在审
  • 潘峰;赵永进;王文丽;陈威;薛书亮;张博 - 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
  • 2021-07-06 - 2021-08-24 - B24B57/02
  • 本发明涉及精密抛光技术领域,尤其是涉及一种抛光输送装置。所述抛光输送装置,包括:供组件、输送管道、匀器、抛光台以及设置在所述抛光台上的抛光垫;所述匀器包括自转驱动件、与所述自转驱动件传动连接的基体以及与所述基体连接的多个分流管道组;所述输送管道的一端与所述供组件连通;所述自转驱动件驱动所述基体自转,沿远离所述基体的自转中心轴的径向,多个所述分流管道组间隔设置,所述分流管道组包括多个沿同一圆周方向间隔设置的分流管道;所述基体上设有与所述输送管道的另一端连通的接腔,所述分流管道的一端与所述接腔连通,所述分流管道的另一端用于向所述抛光输送抛光
  • 抛光输送装置
  • [发明专利]抛光输送装置-CN201810215679.4有效
  • 许振杰;赵德文;沈攀;王同庆;路新春 - 清华大学;华海清科股份有限公司
  • 2018-03-15 - 2020-09-15 - B24B57/02
  • 本发明公开了一种抛光输送装置抛光输送装置包括:基座、转轴、悬臂和定位件,基座上设有基座孔;转轴设在基座孔内,转轴上设有定位槽;悬臂相对于转轴可转动地设在转轴上,其中悬臂上设有定位孔;定位件至少具有锁止和解锁两个位置由此,通过基座、转轴、悬臂和定位件配合,能够方便地使悬臂恢复至原点位置,可以很容易地调整抛光落点,并且,也能够准确检测出悬臂是否在原点,可以防止误操作造成事故,从而可以提升用户满意度。
  • 抛光输送装置
  • [实用新型]抛光加热装置-CN201620059675.8有效
  • 夏秋良 - 苏州新美光纳米科技有限公司
  • 2016-01-21 - 2016-06-29 - B24B37/015
  • 本实用新型涉及一种加热装置,尤其是一种抛光加热装置,属于晶片抛光的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述抛光加热装置,包括抛光输送管;在所述抛光输送管的末端设置用于对抛光输送管内的抛光进行加热的抛光加热器,在抛光输送管的管道出口处设置用于检测抛光温度的抛光温度检测器,所述抛光温度检测器以及抛光加热器均与加热控制器连接,所述加热控制器还与用于检测抛光环境温度的抛光环境温度检测器;本实用新型结构紧凑,能有效实现对晶片抛光过程的温度控制,提高晶片抛光的质量及速度,适应范围广
  • 抛光加热装置
  • [发明专利]抛光加热装置抛光温度控制方法-CN201610040624.5在审
  • 夏秋良 - 苏州新美光纳米科技有限公司
  • 2016-01-21 - 2016-05-04 - B24B37/015
  • 本发明涉及一种加热装置及方法,尤其是一种抛光加热装置抛光温度控制方法,属于晶片抛光的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述抛光加热装置,包括抛光输送管;在所述抛光输送管的末端设置用于对抛光输送管内的抛光进行加热的抛光加热器,在抛光输送管的管道出口处设置用于检测抛光温度的抛光温度检测器,所述抛光温度检测器以及抛光加热器均与加热控制器连接,所述加热控制器还与用于检测抛光环境温度的抛光环境温度检测器;本发明结构紧凑,能有效实现对晶片抛光过程的温度控制,提高晶片抛光的质量及速度,适应范围广
  • 抛光加热装置温度控制方法
  • [发明专利]抛光加热装置抛光温度控制设备和抛光输送系统-CN201010594263.1无效
  • 路新春;潘燕;沈攀;何永勇 - 清华大学
  • 2010-12-17 - 2011-09-07 - F24H7/02
  • 本发明公开了一种抛光加热装置,所述抛光加热装置包括加热容器,所述加热容器内限定有容纳腔,所述容纳腔内盛装有热交换液体;发热元件,所述发热元件设置在所述容纳腔内用于对所述热交换液体加热;和抛光换热管,所述抛光换热管具有入口端和出口端,所述抛光换热管盘绕在所述容纳腔内且所述抛光换热管的入口端和出口端分别从所述加热容器内伸出。本发明还公开了包括所述抛光加热装置抛光温度控制设备和抛光输送系统。通过利用包括本发明的抛光加热装置抛光温度控制设备和抛光输送系统,可以向化学机械抛光工序提供所需温度的抛光,从而提高抛光效果。
  • 抛光加热装置温度控制设备输送系统
  • [实用新型]抛光输送装置及研磨设备-CN202320964805.2有效
  • 余奇;魏志杰 - 粤芯半导体技术股份有限公司
  • 2023-04-25 - 2023-09-29 - B24B57/02
  • 本申请提出了一种抛光输送装置及研磨设备。该抛光输送装置包括摆臂组件、驱动源和传动组件;摆臂组件包括臂体以及设置于臂体下侧的抛光输送管,抛光输送管用于输送抛光并设有允许抛光输出的第一喷嘴;传动组件建立摆臂组件与驱动源之间的连接通道,驱动源用于驱动传动组件以带动摆臂组件沿顺时针或逆时针方向摆动本申请使得摆臂的位置并非固定的,从而可以灵活调节抛光的落点。
  • 抛光输送装置研磨设备
  • [实用新型]超声作用下双曲盘研磨凸度滚子加工装置-CN201520508493.X有效
  • 钟美鹏;袁巨龙;左春柽;姚蔚峰 - 嘉兴学院
  • 2015-07-01 - 2015-11-25 - B24B1/04
  • 本实用新型公开了一种超声作用下双曲盘研磨凸度滚子加工装置,包括箱体、驱动装置、研磨装置、超声发生装置、气压调节装置抛光输送装置,所述的驱动装置包括电机、联轴器和皮带;所述的研磨装置包括上基盘和下基盘;所述的超声发生装置包括换能器、变幅杆和超声发生器;所述的气压调节装置包括气泵、气压调节阀、气缸、活塞、连杆和连接板;所述的抛光输送装置包括第一抛光容器、第二抛光容器、第一抛光输送管、第二抛光输送管、第三抛光输送管和第四抛光输送管。
  • 超声作用下双曲盘研磨滚子加工装置
  • [实用新型]抛光输送系统-CN202121862435.9有效
  • 程艳蒙;张洁;林武庆;汪良 - 福建北电新材料科技有限公司
  • 2021-08-10 - 2022-01-21 - B24B57/02
  • 本实用新型提供了一种抛光输送系统,涉及半导体加工技术领域,该抛光输送系统包括用于容置抛光的第一容器、第一温度调节装置及pH调节装置。其中第一温度调节装置用于调节第一容器内抛光的温度,pH调节装置用于调节第一容器内抛光的pH值。可以根据容器内抛光的实时的pH值及实时温度对抛光的pH及温度进行调控,避免了人为调节pH值及水浴加热的方法控制抛光的温度,使其抛光的pH值及温度控制更加精确。
  • 抛光输送系统
  • [发明专利]抛光输送装置和化学机械抛光设备-CN202110498959.2在审
  • 刘远航;赵德文;李长坤;路新春 - 华海清科股份有限公司
  • 2021-05-08 - 2021-09-28 - B24B37/34
  • 本发明公开了一种抛光输送装置和化学机械抛光设备,抛光输送装置包括:基座,所述基座上设有基座孔;转轴,所述转轴设在所述基座孔内,且所述转轴设置为在所述基座孔内可选择性地转动;悬臂,所述悬臂相对于所述转轴可转动地连接在所述转轴上,其内部中空;抛光管,所述抛光管穿过所述基座孔后伸入所述悬臂内,用于输送抛光;喷嘴组件,与所述抛光管连通,所述喷嘴组件包括喷嘴座和设于喷嘴座下方的多个喷嘴;加载模块,用于改变抛光的物理性质,所述加载模块环绕抛光管设置以对其中流过的抛光进行处理,和/或,不同喷嘴处分别设有不同加载模块以实现不同喷淋位置抛光的不同处理。
  • 抛光输送装置化学机械抛光设备
  • [发明专利]一种抛光输送装置和化学机械抛光设备-CN202110499303.2在审
  • 赵德文;魏聪;刘远航;李长坤 - 华海清科(北京)科技有限公司
  • 2021-05-08 - 2021-09-28 - B24B57/02
  • 本发明公开了一种抛光输送装置和化学机械抛光设备,抛光输送装置包括:基座,基座上设有基座孔;转轴,转轴设在基座孔内,且转轴设置为在基座孔内可选择性地转动;悬臂,悬臂相对于转轴可转动地连接在转轴上,其内部中空;抛光管,抛光管穿过基座孔后伸入悬臂内,用于输送抛光;喷嘴组件,与抛光管连通,喷嘴组件包括喷嘴座和设于喷嘴座下方的多个喷嘴;光照单元,光照单元环绕抛光管设置以对其中的抛光进行照射加热并通过控制光照单元照射抛光的时长来调节抛光的温度,和/或,不同喷嘴处分别设有光照单元以实现不同喷淋位置抛光的不同温度控制;光照单元设置在悬臂内部并被悬臂全封闭包围以防止漏光对晶圆造成损伤。
  • 一种抛光输送装置化学机械抛光设备

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