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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]半导体装置的制造方法及衬底处理装置-CN200580001225.8有效
发明人：佐野敦;堀井贞义;板谷秀治;浅井优幸 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2005-01-21 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明提供一种能够制造可以容易地控制包含金属原子和硅原子的膜中的氮浓度分布的高品质半导体装置的半导体装置制造方法及衬底处理装置。该制造方法包括以下步骤：在反应室4中，在衬底30上成膜包含金属原子和硅原子的膜的步骤；和对上述膜实施氮化处理的步骤，在上述成膜步骤中，至少分2个阶段改变硅浓度进行成膜。
半导体装置制造方法衬底处理

[发明专利]一种金属成膜掩膜板的清洗方法-CN201410812632.8在审
发明人：周扬川;柯贤军;吴俊雄;冉应刚;苏君海;黄亚清;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2014-12-24 - 公布日： 2015-05-13 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明公开一种金属成膜掩膜板的清洗方法，包括以下3个步骤：S1：在掩膜板的表面蒸镀一层有机层；S2：将步骤S1得到的蒸镀有有机层的掩膜板放入金属成膜腔体进行金属蒸镀；S3：将步骤S2得到的掩膜板放入有机溶液中清洗本发明可以将金属成膜掩膜板的清洗运用在有机溶剂的清洗机中清洗，有效防止运输过程中引起的不便，同时可以节约外送清洗掩膜板的成本。
一种金属成膜掩膜板清洗方法

[发明专利]氮化硅膜的成膜方法、成膜装置以及存储介质-CN201810507177.9有效
发明人：户根川大和 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-05-24 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明涉及氮化硅膜的成膜方法、成膜装置以及存储介质。提供一种能够在通过ALD法针对多个被处理基板形成氮化硅膜时降低所形成的氮化硅膜的应力的技术。在通过ALD法针对多个被处理体统一形成氮化硅膜时，在各循环中，在使成膜原料吸附的步骤与氮化的步骤之间实施在处理容器内生成氢自由基来进行氢自由基吹扫的步骤，来促进在所形成的氮化硅膜的Si‑N键合，从而降低所形成的氮化硅膜的拉伸应力
氮化方法装置以及存储介质

[发明专利]液体喷出装置的制造方法以及液体喷出装置-CN201510459949.2有效
发明人：平井启太 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2015-07-30 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：该装置具备压电致动器及流路形成部件，压电致动器具有振动膜，以覆盖压力室的方式设在流路形成部件；压电膜，与压力室对应地设在振动膜；第一电极，设在压电膜的振动膜侧的面；第二电极，设在压电膜的与振动膜相反一侧的面；第一保护膜，覆盖压电膜；布线，与第二电极连接；及第二保护膜，覆盖布线，该制造方法具有第一保护膜成膜步骤，第一保护膜以覆盖压电膜以及第二电极的方式形成在振动膜；布线形成步骤；第二保护膜成膜步骤，在由第一保护膜覆盖压电膜及第二电极的状态下，形成覆盖布线的第二保护膜；及第一除去步骤，在第二保护膜成膜步骤后，除去第一保护膜的与第二电极重叠的部分。
液体喷出装置制造方法以及

[发明专利]一种锂金属电池的固态电解质及其制备方法、应用和锂金属电池-CN201910958441.5有效
发明人：赵玉振;朱广彬 -专利权人：武汉瑞科美新能源有限责任公司
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： H01M10/0565 文献下载
摘要：该固态电解质包括：亲锂剂；成疏水膜的成膜剂；以及溶剂。其制备方法包括步骤：1)制备亲锂剂、成疏水膜的成膜剂和溶剂的复合液；2)将步骤1)制备得到的复合液除水；3)将步骤2)除水后的复合液成膜，即得锂金属电池的固态电解质。
一种金属电池固态电解质及其制备方法应用

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201410019338.1有效
发明人：加藤寿;中坪敏行;三浦繁博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-01-16 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供成膜方法和成膜装置。成膜方法包括以下步骤输入步骤，使具有多个基板载置部的旋转台间歇性地旋转而将多个基板载置部依次配置于输入输出区域，将基板依次载置到基板载置部；成膜步骤，反复多次进行通过使旋转台旋转而使多个基板公转、并且将彼此反应的反应气体交替地向基板表面供给的循环，而在基板表面上形成薄膜；改性步骤，对通过使旋转台间歇性地旋转而被依次配置在与输入输出区域相邻的加热区域中的基板的薄膜进行改性；以及输出步骤，接着改性步骤，将在改性步骤中改性了薄膜的基板依次配置在输入输出区域
方法装置

[发明专利]一种镁合金无铬无氟化学转化膜成膜溶液及膜层制备方法-CN201610994548.1在审
发明人：杨茗佳;周野;于宝兴;杨延格;张涛 -专利权人：北京星航机电装备有限公司
申请日： 2016-11-11 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C23C22/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁合金无铬无氟化学转化膜成膜溶液及膜层制备方法，属于一种镁合金表面防腐蚀处理技术领域，该化学转化成膜工艺过程中不含对环境和人体有害的铬离子、氟离子等；成膜溶液为含有锰盐、络合剂、缓冲剂及成膜促进剂的混合液，成膜溶液的pH为2～6，由磷酸进行调节；膜层制备方法由脱脂、表调和成膜三个步骤组成，整个工艺处理过程中不含铬、氟等对环境有害的离子，各个步骤溶液成分简单、成本低廉，所获得的化学转化膜均匀致密，耐腐蚀性能优异
一种镁合金无铬无氟化转化膜成膜溶液制备方法

[发明专利]成膜方法-CN202011489484.2在审
发明人：及川大海;高村侑矢 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法，是能够控制膜厚的面内分布的技术。本公开的一个方式的成膜方法包括以下步骤：向处理容器内供给原料气体的步骤；向所述处理容器内供给与所述原料气体发生反应的反应气体的步骤；以及在供给所述原料气体的步骤之前执行的、在不供给所述原料气体的情况下调整所述处理容器内的压力的步骤，在所述成膜方法中，将包括供给所述原料气体的步骤和供给所述反应气体的步骤的循环执行多次，所述多次循环的至少一部分循环包括调整所述压力的步骤。
方法

[发明专利]成膜装置、成膜用托盘、成膜方法、成膜用托盘的制造方法-CN201710764134.4有效
发明人：西山隆司;中山孝 -专利权人：胜高股份有限公司
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置、成膜用托盘、成膜方法、成膜用托盘的制造方法。目的是实现制造成本的削减和成品率的提高。一种成膜装置，在多个成膜用托盘（1）上搭载硅晶片（5）而在成膜输送路（11A）上输送，具有成膜用加热器（13b）、喷吹原料气体的多个喷气头（13A、13B、13C）、和使成膜后的成膜用托盘循环的循环机构（15）；成膜用托盘由托盘主体（2）和架设在托盘主体上的支承圈（3）构成；支承圈的载置部（3c）的载置部下表面（3d）从托盘主体的面（2a）分离，并且托盘主体由粉体烧结陶瓷构成，支承圈被从气相成长的大块的陶瓷切出
装置成膜用托盘方法制造

[发明专利]涂敷处理方法、涂敷处理装置和存储介质-CN202010348224.7在审
发明人：川北直史;桥本祐作;吉原孝介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种涂敷处理方法，其包括：在基片的表面与喷嘴的间隔被保持为规定的涂敷用间隔的状态下，从喷嘴向基片的表面的中心供给成膜液的步骤；在从喷嘴向基片的表面供给成膜液的期间中，使基片以第1转速绕通过基片的表面中心的轴线旋转，以使得成膜液因离心力而从喷嘴的外周向基片的周缘侧扩展的步骤；和在从喷嘴向基片的表面的成膜液的供给停止之后，使基片以第2转速绕轴线旋转，以使得成膜液因离心力而进一步扩展的步骤，涂敷用间隔被设定成在停止从喷嘴释放成膜液时能够将成膜液保持在喷嘴与基片的表面之间由此，能够有效提高膜厚均匀性。
处理方法装置存储介质

[发明专利]一种电磁波纳米矿物粉的成膜工艺-CN202310540706.6在审
发明人：童信淞;童飞阳 -专利权人：厦门道益人生物医药科技有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： B05D1/06 文献下载
摘要：本申请涉及电磁波纳米矿物粉成膜领域，具体公开了一种电磁波纳米矿物粉的成膜工艺，包括如下步骤：步骤一，将导电材料混合于AB胶的A胶中，并将混合均匀的A胶涂覆于基体表面，在基体表面形成A胶膜；步骤二，将AB胶的B胶涂覆于A胶膜表面，固化后得到金属膜；步骤三，研磨得到纳米矿物粉，将纳米矿物粉分散于静电粉末中，得到混合粉；步骤四，通过静电喷枪将矿物粉喷涂于步骤二的金属膜上，本申请的工艺解决了电磁波纳米矿物粉无法在基体上成膜的问题，并且进一步解决了纳米矿物粉在非金属表面成膜的技术难点。
一种电磁波纳米矿物工艺

[发明专利]成膜装置、成膜基板制造方法及成膜基板-CN201110358373.2无效
发明人：岩田宽 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2011-11-11 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种可成膜当利用激光划线法来进行图案形成时能够适当地被去除的钼层的成膜装置、成膜基板制造方法及成膜基板。本发明的成膜装置在成膜室(11B)内，从基板输送方向(D)的上游侧遍及下游侧产生惰性气体的压力梯度。该压力梯度以上游侧的惰性气体的压力增大且下游侧的惰性气体的压力减小的方式形成。通过在产生这种压力梯度的成膜室(11B)内实施钼层的成膜，从而能够成膜从基板侧遍及表面侧形成有金属密度梯度的钼层。就该金属密度梯度而言，在钼层的膜厚方向上，以密度随着从表面侧接近基板侧而减小的方式形成密度梯度。若对具有这种密度梯度的钼层应用激光划线法，则能够适当地去除钼层。
装置成膜基板制造方法

[发明专利]成膜装置及利用成膜装置的成膜系统-CN200510072223.X无效
发明人：北原大 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2005-05-20 - 公布日： 2006-04-12 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明是有关于一种成膜装置及利用成膜装置的成膜系统，能够缩短因对成膜装置的电极及其周边部进行清洁而造成的成膜装置停止时间，并可提高成膜工程的生产效率。
装置利用系统

[发明专利]带透明导电膜的基板的制造方法、带透明导电膜的基板的制造装置及带透明导电膜的基板-CN201780053763.4有效
发明人：大野幸亮;高桥明久;白井雅纪;小林大士 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-09-12 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明的带透明导电膜的基板的制造方法为以与绝缘性的透明基板相接的方式配置透明导电膜的带透明导电膜的基板的制造方法，至少依次具备：步骤α，在设为希望的减压气氛的热处理空间中，将所述透明基板控制到规定的成膜前温度；步骤β，在设为希望的工艺气体气氛的成膜空间中，对成为所述透明导电膜的母材的靶施加溅射电压并进行溅射，在设为规定的温度的所述透明基板上形成所述透明导电膜；以及步骤γ，在大气气氛中，对形成在所述透明基板上的所述透明导电膜进行后加热处理，所述步骤α中的所述成膜前温度为零度以下。
透明导电制造方法装置

[发明专利]一种镁合金无铬无裂纹转化膜的成膜溶液及膜层制备方法-CN201710708239.8在审
发明人：杨延格;李丽华;张涛;于宝兴;张书第;张春艳;王福会 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2017-08-17 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C23C22/36 文献下载
摘要：本发明涉及镁合金表面处理技术，具体的说是一种镁合金无铬无裂纹转化膜的成膜溶液及膜层制备方法。所述的成膜溶液为主盐、缓冲剂、成膜促进剂和水的混合溶液，成膜溶液的pH为1.5～5，由磷酸进行调节。所述的无铬无裂纹转化膜制备方法包括脱脂除油、化学转化、水洗三个步骤，每个步骤均在常温下进行。本发明可以节约能源，操作简单，成本低廉，所获得的转化膜由纳米或微米级的球状颗粒堆垛而成，膜层均匀致密，耐腐蚀性能优异。
成膜溶液转化膜膜层制备镁合金缓冲剂成膜促进剂镁合金表面耐腐蚀性能化学转化混合溶液均匀致密球状颗粒三个步骤脱脂除油常温下微米级磷酸堆垛节约能源

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