专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]增加沟槽底部氧化厚度的方法-CN202310821468.6在审
  • 王友伟;徐雷军;王成森;刘启星 - 捷捷微电(南通)科技有限公司
  • 2023-07-06 - 2023-08-08 - H01L21/28
  • 本发明的实施例提供了一种增加沟槽底部氧化厚度的方法,涉及半导体技术领域。增加沟槽底部氧化厚度的方法包括:S1:在硅片上刻蚀出硅沟槽;S2:在硅片上以及硅沟槽内生长缓冲氧化;S3:在缓冲氧化上生长第一多晶硅淀积、并掺杂;S4:刻蚀缓冲氧化上的第一多晶硅淀积;S5:在第一多晶硅淀积上生长低温氧化。增加沟槽底部氧化厚度的方法利用掺杂多晶硅氧化速度比单晶硅氧化速度快的特性,在硅沟槽的底部保留适量的掺杂多晶硅,再经过氧化后硅沟槽底部形成的低温氧化会明显比硅沟槽侧壁的低温氧化厚,可以有效提高硅沟槽底部的低温氧化厚度,提高沟槽产品底部氧化厚度和质量。
  • 增加沟槽底部氧化厚度方法
  • [发明专利]一种膜厚度控制装置-CN202310404029.5在审
  • 张坤;卿万梅;陈林 - 重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-06-30 - C23C14/24
  • 本发明提供一种膜厚度控制装置,包括:蒸镀基板;至少一个蒸镀点源,用于对蒸镀材料进行加热蒸发,以使气化的蒸镀材料粒子在蒸镀基板面向蒸镀点源的一面形成蒸镀膜;遮挡板,设置在蒸镀基板与蒸镀点源之间;其中,遮挡板在蒸镀基板上的正投影位于蒸镀基板内,且覆盖蒸镀点源在蒸镀基板上的正投影;旋转机构,连接蒸镀基板,用于带动蒸镀基板旋转,蒸镀基板在旋转过程中,遮挡板遮挡靠近蒸镀点源的蒸镀材料粒子形成到遮挡板,以在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜。旨在提供一种控制蒸镀基板上蒸镀材料粒子量的沉积量,以使在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜的控制装置。
  • 一种厚度控制装置
  • [发明专利]薄储厚度预测方法及装置-CN201811080757.0有效
  • 张明;尉晓玮;戴晓峰;孙夕平 - 中国石油天然气股份有限公司
  • 2018-09-17 - 2020-05-08 - G01V1/30
  • 本申请公开了一种薄储厚度预测方法及装置,该方法包括:将获取的地震数据与测井资料进行合成记录标定,确定目的的位置;进行三维地震层位解释,确定地震波到达目的顶部的第一时间以及底部的第二时间;根据测井资料确定薄储厚度变化的正演模型,确定地震波振幅随薄储厚度变化的变化情况;根据测井资料确定目的上覆地层厚度变化的正演模型,确定地震波振幅随上覆地层厚度变化的规律;根据地震反演与测井资料,确定上覆地层的地层厚度;设定时窗提取目的的振幅属性;根据振幅随上覆地层厚度变化的规律和地层厚度,对目的振幅属性进行校正;根据校正后的振幅属性,预测薄储厚度。本申请可以提高薄储厚度预测的准确度。
  • 薄储层厚度预测方法装置
  • [发明专利]梳棉机棉厚度精确采集装置-CN200610041053.3有效
  • 朱中华;王刚;张月平;李从心 - 苏拉(金坛)纺织机械有限公司
  • 2006-07-16 - 2008-01-16 - D01G15/12
  • 一种梳棉机棉厚度精确采集装置,包括给棉罗拉、给棉板和测量杆,给棉罗拉固定,测量杆设置在给棉板与给棉罗拉之间,在整个给棉罗拉长度方向均匀地设置了2n个检测区,其中n为大于1的整数,每个检测区都设有一根测量杆,每根测量杆能实时地采集到此区内棉厚度波动数据,每根测量杆将所采集的数据通过天平传递结构输送给位移传感器,天平传递结构所输出的棉波动参数是将所有检测区所检测到的棉参数进行几何平均后参数,所检测数据越贴近棉实际波动状况,以此参数作自调匀整仪控制棉基准参数更科学更精确。
  • 梳棉机厚度精确采集装置
  • [发明专利]在机砂轮磨削厚度检测方法-CN201710878358.8有效
  • 徐挺;付鲁华;季昱辰 - 内江金鸿曲轴有限公司
  • 2017-09-26 - 2020-11-10 - G06T7/00
  • 本发明公开了一种在机砂轮磨削厚度检测方法,其获取若干砂轮圆周方向上的图像,若干图像包含完整的砂轮磨削圆周面;对所述图像进行二值化处理后得到二值化图像;选取二值化图像中与磨削存在两个交点的一行或一列像素,并提取该行/列像素中的两个交点作为砂轮与磨削的分界点;连接两个分界点构成一线段,构建一条过所述线段中心、且垂直线段的直线;对预处理后的图像进行亚像素细分后,对该直线的像素进行边缘检测,得到磨削的内分界点和外分界点;根据内分界点和外分界点之间的的像素数得到每张图像中磨削厚度
  • 砂轮磨削厚度检测方法
  • [发明专利]外延厚度测试装置和方法-CN201911107836.0有效
  • 张凌云;金柱炫 - 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
  • 2019-11-13 - 2021-11-02 - G01B11/06
  • 本发明公开了一种外延厚度测试装置和方法,所述装置包括红外光源、检测器、载物基座和控制模块,红外光源和检测器设置在载物基座的上方,待测外延片固定在载物基座上;控制模块用于控制载物基座进行预设轨迹运动,以使红外光源的入射光线照射到待测外延片的指定位置处,并使得入射光线通过待测外延片反射至检测器;检测器用于根据入射光线计算待测外延片的厚度。该外延厚度测试装置和方法中的载物基座既能够做水平二维运动,也能够进行旋转运动,从而克服了红外光在试样边缘倒角处的能量逸散问题,确保可全面准确地测量外延片边缘区域的外延厚度
  • 外延厚度测试装置方法
  • [发明专利]栅介质厚度的监控方法-CN202210024342.1有效
  • 王胜林;张志敏 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-01-11 - 2022-03-29 - H01L21/66
  • 本发明提供了一种栅介质厚度的监控方法,提供至少五片晶圆;顺次在所述晶圆上形成氮氧化硅栅介质,并将所述晶圆顺次移入一晶圆传送装置;移出所述晶圆传送装置,以最先移入所述晶圆传送装置的二至四片晶圆作为测试晶圆,获取所述测试晶圆的氮氧化硅栅介质厚度,其中,所述测试晶圆的测试等待时间大于或等于100分钟。本发明中,通过以最先移入晶圆传送装置的二至四片晶圆作为测试晶圆,并且该测试晶圆的测试等待时间大于或等于100分钟,使得测试晶圆上的氮氧化硅栅介质厚度均处于缓慢增长的阶段,减少测试晶圆上的氮氧化硅栅介质厚度受外界的影响,从而提高测量栅介质厚度的稳定性及准确性。
  • 介质厚度监控方法

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