专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体结构及金属氧化物半导体元件-CN200710136601.5有效
  • 蔡邦彥 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2007-07-13 - 2008-07-02 - H01L29/38
  • 本发明提供了一种半导体结构及金属氧化物半导体元件,该半导体结构包括一第一复合层、一第二复合层和一第三复合层。第一复合层包括一元素和一第一掺杂物,其中第一掺杂物具有第一掺杂物浓度;第二复合层包括该元素和一第二掺杂物,其中第二掺杂物的导电型态和第一掺杂物的导电型态相同,第二掺杂物具有第二掺杂物浓度且位于第一复合层上;第三复合层包括该元素和第三掺杂物,其中第三掺杂物的导电型态和第一掺杂物的导电型态相同,第三掺杂物具有第三掺杂物浓度;第三复合层位于第二复合层上,且第二掺杂物浓度大体上低于第一掺杂物浓度和第三掺杂物浓度
  • 半导体结构金属氧化物元件
  • [发明专利]一种绝缘栅场效应管及其制造方法-CN202211302566.0在审
  • 盛况;王宝柱;王珩宇;任娜 - 浙江大学杭州国际科创中心
  • 2022-10-24 - 2023-02-24 - H01L29/78
  • 本公开提供一种绝缘栅场效应管及其制造方法,该绝缘栅场效应管包括:复合衬底,具有第一掺杂特性;第一外延层,具有第二掺杂特性,位于复合衬底的一侧;掺杂层,位于第一外延层背离复合衬底的一侧,掺杂层包括第一掺杂区和第二掺杂区,第一掺杂区具有第一掺杂特性,第二掺杂区具有第二掺杂特性;栅极,贯穿第一外延层并延伸入复合衬底,栅极位于第一掺杂区背离第二掺杂区的一侧;绝缘层,位于栅极与第一外延层之间并位于栅极与复合衬底之间;以及介电层,位于栅极与复合衬底之间且位于栅极与绝缘层之间,以具有较高的可靠性。
  • 一种绝缘场效应及其制造方法
  • [发明专利]CVD石墨烯复合掺杂结构及其制备方法-CN201711469778.7有效
  • 徐鑫;姜浩;马金鑫 - 重庆墨希科技有限公司
  • 2017-12-29 - 2020-06-19 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种能够实现石墨烯高效掺杂,并且保证长效掺杂效果的CVD石墨烯复合掺杂结构及其制备方法。所述CVD石墨烯复合掺杂结构,包括从上至下依次设置的CVD石墨烯层、复合掺杂层、封装层、目标衬底层;制备方法包括以下步骤:S1.在催化衬底上生成具有二维连续结构的石墨烯层;S2.对步骤S1所述石墨烯层进行活化处理得到CVD石墨烯层;S3.在步骤S2所述的CVD石墨烯层上形成复合掺杂层;S4.在步骤S3所述复合掺杂层上形成封装层;S5.分离催化衬底,得到活化石墨烯层/掺杂层/封装层的复合结构;S6.将步骤S5得到的复合结构放置到目标基底上,得到CVD石墨烯复合掺杂结构。采用该CVD石墨烯复合掺杂结构及其制备方法,能够获得稳定长效的掺杂效果。
  • cvd石墨复合型掺杂结构及其制备方法
  • [发明专利]掺杂复合结构硅量子点及其制备方法和应用-CN202011189084.X有效
  • 郑灵浪;高志飞;谢浩 - 宁波革鑫新能源科技有限公司
  • 2020-10-30 - 2023-01-17 - C09K11/02
  • 本发明提供了一种掺杂复合结构硅量子点及其制备方法与应用。所述掺杂复合结构硅量子点制备方法包括如下步骤:将硅的无机氧化物粉体和硼粉体在含有还原性气体的环境中进行等离子处理,将部分所述硅的无机氧化物还原反应,然后冷却处理,生成掺杂复合结构硅量子点。所述掺杂复合结构硅量子点包括核体和包覆于所述核体的壳层,且所述核体的材料为掺硼硅晶体,所述壳层的材料为二氧化硅。所述掺杂复合结构硅量子点的制备方法能够一步生成掺杂复合结构硅量子点,提高了生产效率,降低了生成成本。由于本发明制备方法条件易控,能够保证生成的掺杂复合结构硅量子点发光性能稳定,而且生成的掺杂复合结构硅量子点粒径小,颗粒均匀,且为核壳的复合结构。
  • 掺杂复合结构量子及其制备方法应用
  • [发明专利]纳米无机物掺杂的全氟磺酸复合膜的制备方法-CN200810136928.7无效
  • 赵辉;霍丽华;赵红;孙丽萍;李强;高山 - 黑龙江大学
  • 2008-08-15 - 2009-03-04 - C08J5/22
  • 纳米无机物掺杂的全氟磺酸复合膜的制备方法,它涉及无机物掺杂的全氟磺酸复合膜的制备方法。它解决了现有无机物掺杂的全氟磺酸复合膜的制备方法中制备出的复合膜存在稳定性差的问题。本发明第一种方法按照如下步骤进行:一、全氟磺酸膜的预处理;二、掺杂纳米无机物;即得到纳米无机物掺杂的全氟磺酸复合膜。本发明第二种方法按照如下步骤进行:一、全氟磺酸膜的预处理;二、掺杂纳米无机物;即得到纳米无机物掺杂的全氟磺酸复合膜。本发明第三种方法按照如下步骤进行:一、全氟磺酸膜的预处理;二、掺杂纳米无机物;即得到纳米无机物掺杂的全氟磺酸复合膜。本发明制备出的复合膜热稳定性、酸稳定性和综合指标好,电导率高。
  • 纳米无机物掺杂全氟磺酸复合制备方法
  • [发明专利]一种掺杂复合氧化物包覆云母珠光复合颜料及制备方法-CN201410023140.0有效
  • 叶明泉;刘春兰;韩爱军;陈昕;李志涛 - 南京理工大学
  • 2014-01-18 - 2014-05-14 - C09C1/40
  • 本发明公开了一种掺杂复合氧化物包覆云母珠光复合颜料及制备方法。采用沉淀法,以云母为基底,调节云母浆pH为2,水浴加热,同时搅拌滴加钛、钴及掺杂金属M的酸性溶液和碱性溶液,然后调节pH至9-10,过滤洗涤干燥,在1000℃煅烧得到具有柔和珍珠光泽复合颜料。该颜料表面是纳米级Co2-xMxTiO4复合氧化物粒子,复合颜料的亮度及色相值随掺杂金属M种类、用量及包覆率而变化,掺杂Ni2+,Zn2+,Mg2+复合颜料为黄绿色,亮度提高,亮度随掺杂量增加而增加;掺杂复合颜料,掺杂量相同,随包覆率增加,亮度及黄相值降低,颜色变深。掺杂Cu2+、Mn2+复合颜料,绿相值a和黄相值b明显降低,颜料色相转深,掺杂铜呈现深绿色,掺杂锰呈现褐绿色。
  • 一种掺杂复合氧化物云母珠光颜料制备方法

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