专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202180087813.7在审
  • 墨周武;折坂昌幸 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-12-22 - 2023-09-19 - H01L21/304
  • 一种基板处理装置以及基板处理方法,在腔室内的处理空间通过超临界状态的处理流体对基板进行处理,在腔室内比基板更靠下方的位置,配置对腔室内进行加热的加热器,将基板搬入至处理空间,并通过加热器进行加热,在将处理流体供给至处理空间并通过超临界状态的处理流体充满处理空间后,将处理流体从处理空间排出。针对从超临界状态的处理流体被导入至处理空间时起的规定的期间,使加热停止。能够一边将腔室内维持为适合超临界处理的温度,一边抑制成为乱流的原因的处理流体的温度变化,从而能够良好地进行对于基板的超临界处理
  • 处理装置以及方法
  • [发明专利]一种空间光电探测图像链路层传输系统-CN202211658755.1在审
  • 马有为;韩畅;陆建;练达;刘冰;陈天培;温兆伦 - 上海航天控制技术研究所
  • 2022-12-22 - 2023-04-18 - H04N5/765
  • 本发明公开了一种空间光电探测图像链路层传输系统,包含若干空间光电探测头部、若干空间传输电缆以及空间光电探测处理线路盒。所述系统在所述空间光电探测处理线路盒中为每个空间光电探测头部设置有独立的第三传输组件,并且每个空间光电探测头部与空间光电探测处理线路盒之间设置有独立的空间传输电缆,通过独立的第三传输组件和独立的空间传输电缆,每个空间光电探测头部与空间光电探测处理线路盒进行全双工信息传输,从而实现对多个空间光电探测器图像信息进行并行高可靠传输处理;所述空间传输电缆采用LVDS标准电平进行通信传输,在保障传输可靠性的同时还具有高速传输速率本发明提供的空间光电探测图像链路层传输系统具有良好的应用前景。
  • 一种空间光电探测图像链路层传输系统
  • [发明专利]衬底处理装置及半导体装置的制造方法-CN201410356571.9有效
  • 板谷秀治 - 株式会社日立国际电气
  • 2014-07-24 - 2018-01-09 - H01L21/67
  • 本发明提供一种衬底处理装置及半导体装置的制造方法,其恰当地进行向衬底外周侧的排气传导性调节,由此能够可靠地实现膜形成时的处理空间内压力的均匀化。衬底处理装置具有处理衬底的处理空间;排气缓冲室,具有以包围处理空间的侧方周围的方式设置的空间,供已供给至处理空间内的气体流入;传导性调节板,面对着处理空间和排气缓冲室之间的气体流路而配置。传导性调节板在与从处理空间向排气缓冲室的气体流路面对的内周侧端缘具有R状部分或斜坡倾斜状部分。
  • 衬底处理装置半导体制造方法
  • [发明专利]基板处理设备-CN202110333560.9在审
  • 沈光辅;尹芝勋;申东辉;吴贤优;姜佳岚 - PSK有限公司
  • 2021-03-29 - 2021-10-01 - H01J37/32
  • 本文公开了一种用于处理基板的设备。该设备包括:工艺处理单元,用于提供在其中执行基板处理处理空间;以及产生等离子体的等离子体产生单元,其中,所述等离子体产生单元包括:等离子体室,具有等离子体产生空间;气体供应单元,用于将处理气体供应到等离子体产生空间;功率施加单元,用于通过使处理气体离开等离子体产生空间而产生等离子体;扩散室,布置在等离子体室的下方,并且具有扩散空间,该扩散空间用于扩散在等离子体产生空间中产生的等离子体和/或供应至等离子体产生空间处理气体,以将其均匀地输送至处理空间,其中具有至少一个穿孔的扩散板可以布置在扩散空间中。
  • 处理设备
  • [发明专利]真空处理装置-CN200480002736.7有效
  • 河西繁;河东进;小松智仁;齐藤哲也;田中澄 - 东京毅力科创株式会社
  • 2004-02-12 - 2006-03-01 - C23C16/458
  • 本发明的真空处理装置具有以下部件:具有底部且可真空排气的处理容器;设置在所述处理容器内的载置台;对载置台上的基板进行加热的加热部;向处理容器内供给处理气体的处理气体供给部;包围载置台和处理容器底部之间的空间,使该空间处理容器内的处理空间隔离的隔离部;向由隔离部包围的空间内供给清洗气体的清洗气体供给部;从由隔离部包围的空间内对清洗气体进行排气的清洗气体排气部;应调整由隔离部包围的空间内的压力,控制清洗气体供给部及/或清洗气体排气部的控制部;和贯通处理容器底部,插入由所述隔离部包围的空间内,并具有与载置台接触的前端部的温度检测部,隔离部具有与处理容器底部面接触的下端部,控制部将被隔离部包围的空间内的压力调整到比处理容器内的处理空间内的压力高
  • 真空处理装置
  • [发明专利]一种交织处理方法及装置-CN201710295108.1有效
  • 吴晨璐 - 华为技术有限公司
  • 2017-04-28 - 2020-02-21 - H04L1/00
  • 一种交织处理方法及装置,该方法中获取待处理交织任务,并确定交织器对所述待处理交织任务进行交织处理所需的存储空间。依据待处理交织任务所需存储空间以及交织器的最大分块存储空间,将所述交织器的存储空间划分为N个分块存储空间,所述N为正整数,其中,N个分块存储空间中每一分块存储空间的大小均小于等于最大分块存储空间的大小。将所述待处理交织任务划分为至少一个交织块,并以交织块为单位,在所述N个分块存储空间内写入交织块,以解决存储开销大、处理时延长以及大小规格任务切换频繁的问题。
  • 一种交织处理方法装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN202110365256.2在审
  • 墨周武;折坂昌幸 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-04-01 - 2021-10-12 - H01L21/67
  • 本发明提供一种在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中,能够有效防止杂质对基板的污染,并良好地进行处理的技术。在腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)。导入流路经由截面形状与由处理空间(SP)的壁面与支撑托盘(15)之间的间隙形成的间隔空间的截面形状大致一致的流路(173)、(177)供给处理流体。通过了处理空间处理流体排出至宽度大于或等于处理空间的缓冲空间(182)、(186),进一步经由在宽度方向上的缓冲空间的两端部连接的排出流路(183)、(187)向腔室外排出。
  • 处理装置
  • [发明专利]一种SOC芯片之间的高速信息共享方法-CN201710696675.8在审
  • 叶品勇;陈新之;岳峰 - 南京国电南自电网自动化有限公司
  • 2017-08-15 - 2017-12-12 - G06F15/167
  • 本发明公开了一种SOC芯片之间的高速信息共享方法,在SOC芯片内存空间划分出两块连续地址空间,分别标识为“写数据空间”和“读数据空间”。本侧“写数据空间”数据实时同步到对侧“读数据空间”,然后微处理器直接访问“读数据空间”内存数据。本侧“写数据空间”数据到对侧“读数据空间”实时同步操作由用户可编程逻辑实现,通过AXI_HP端口直接将“写数据空间”数据搬移至高速收发器的发送FIFO,将高速收发器接收FIFO中的数据直接写入“读数据空间”,全程都不需要微处理器的参与,减轻了微处理器的处理负担,并且用户可编程逻辑是并行处理系统实时处理能力强,可大大降低数据搬移过程的处理延时和不确定性。
  • 一种soc芯片之间高速信息共享方法

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