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[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的压力控制方法-CN200510102528.0无效
发明人：冈城武敏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-09-08 - 公布日： 2006-05-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及不用控制处理室的排气量就能够控制处理室内的压力，并且不给基板处理造成影响的基板处理装置和基板处理方法。该装置设置：使用处理气体对被处理基板实施处理的处理室102；将处理室内分隔为进行被处理基板处理的处理空间102A和排放出处理室内气体的排气空间102B，并且具有多个连通处理空间和排气空间的通气孔132的挡板130；向处理室内的处理空间供给处理气体的处理气体供给机构140；向处理室内的排气空间供给用来调节处理室内压力的压力调节气体的压力调节气体供给机构150；从处理气体供给机构供给处理气体时，通过压力调节气体供给机构供给压力调节气体，使处理空间压力达到预先设定压力的压力控制器180。
处理装置压力控制方法

[发明专利]炉-CN201980024763.0在审
发明人： M·穆克 -专利权人：万俊有限责任公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： D01F9/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对材料、特别是纤维(12)、特别是由氧化的聚丙烯腈PAN制成的纤维(14)进行热处理、特别是碳化和/或石墨化的炉，其包括炉壳体(16)和位于所述炉壳体(16)的内部空间(18)中的处理空间(22)，所述处理空间由处理空间壳体(24)界定，并且可以将待处理的材料引入到所述处理空间中。可以通过加热系统(32)加热在处理空间(22)中普遍存在的处理空间气氛(30)。绝缘层(38)使所述处理空间(22)热绝缘。所述绝缘层(38)是由固体微粒材料(60)制成的绝缘床(58)。
炉

[发明专利]衬底处理装置及半导体器件的制造方法-CN201510350349.2有效
发明人：佐佐木隆史;山本哲夫 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2015-06-23 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：即使在经由簇射头进行气体供给的情况下，也能充分且良好地对簇射头内及处理空间内的各空间进行清洁处理。一种衬底处理装置，其具有：处理空间，其对衬底进行处理；簇射头缓冲室，其隔着设置有贯通孔的分散板而与处理空间相邻；非活性气体供给系统，其向簇射头缓冲室内供给非活性气体；处理空间清洁气体供给系统，其向处理空间内供给清洁气体；控制部，其控制非活性气体供给系统及处理空间清洁气体供给系统，使得清洁气体向处理空间的供给和非活性气体向簇射头缓冲室的供给同时进行。
衬底处理装置半导体器件制造方法

[发明专利]用于处理工件的处理设备和方法-CN201910593974.8有效
发明人： J·冯巴根 -专利权人：艾森曼有限公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： B05B16/60 文献下载
摘要：一种用于处理工件的处理设备，包括：处理装置，其具有壳体，在壳体中安置有处理空间。输送系统包括多个运输车，借助于其能将工件输送经过处理空间，每个运输车包括行驶机构和固定装置，行驶机构和固定装置借助连接装置耦连。在处理空间外部设有引导区域，其具有用于行驶机构的行驶空间。行驶空间通过连接通道与处理空间这样连接，即，运输车的行驶机构能在行驶空间中运动，固定装置在处理空间中被携带且连接装置穿过连接通道延伸。行驶空间通过行驶空间壳体限定，设有气体装置，使得通流气体能被输送到行驶空间且至少大部分的通流气体作为排气能被重新从行驶空间中排出，通流气体不会经过连接通道到达处理空间中。还提出了一种相应的方法。
用于处理工件设备方法

[发明专利]一种图像处理方法及装置-CN201910697061.0在审
发明人：徐从娟;李骊 -专利权人：北京华捷艾米科技有限公司
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： G06T1/60 文献下载
摘要：本发明提供一种图像处理方法及装置，确定待处理图像中当前待搬移到第一存储空间的预留空间的第一图像，将第一图像从第二存储空间搬移到第一存储空间的预留空间，基于预设图像处理算法对第一图像进行处理，得到第一图像对应的第二图像，并将第二图像从第一存储空间的预留空间搬移到第二存储空间的预留空间，其中第二存储空间的存储速度小于第一存储空间的存储速度、但第二存储空间的容量大于第一存储空间的容量，由此在第一存储空间中对待处理图像的第一图像进行暂时存储，在得到第一图像对应的第二图像后将第二图像搬移到第二存储空间中，这样可以同时利用第一存储空间和第二存储空间辅助处理器，提高处理器的处理效率。
存储空间图像预留空间搬移存储图像处理图像处理算法待处理图像辅助处理器处理图像处理效率图像搬移处理器预设

[发明专利]一种针对地址空间的数据处理方法及装置-CN202011443598.3有效
发明人：韩丹涛;许开洲;赵艳领;公彦杰;王振;李方建;王洲 -专利权人：机械工业仪器仪表综合技术经济研究所;上海新力动力设备研究所
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G06F3/06 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种针对地址空间的数据处理方法及装置，应用于数据处理领域，上述方法包括：接收针对地址空间的数据处理指令；判断数据处理指令是否表示对地址空间中存储的所有节点数据进行处理；若为是，则根据数据处理指令中包含的节点数据的属性信息，重新生成地址空间中的节点数据，并根据所生成的节点数据重载地址空间；否则，根据数据处理指令，在地址空间中进行数据处理，使得地址空间中的部分节点数据发生改变。应用本发明实施例提供的方案针对地址空间的数据进行处理，能够对地址空间中存储的节点数据进行数据处理。
一种针对地址空间数据处理方法装置

[实用新型]一种酸性气体处理装置-CN201720065922.X有效
发明人：沈少华 -专利权人：湖州梦源环保科技有限公司
申请日： 2017-01-18 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： B01D53/77 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种酸性气体处理装置，包括喷淋塔，该喷淋塔包括盛液空间和喷淋空间，所述盛液空间内盛放有处理液，所述喷淋空间的上方开设有排放口；进气部分，该进气部分和盛液空间连通，将待处理的酸性气体通入到盛液空间的处理液内；喷淋部分，该喷淋部分设置在喷淋空间的上方位置，用于对流经处理液后向上流动的酸性气体进行喷淋处理；还包括循环处理部分，该循环处理部分一端连通盛液空间，另一端连通喷淋部分，用于将盛液空间内的处理液进行碱化处理后通入到喷淋部分；克服了酸雾处理过程中喷淋中和效果不佳，处理液得不到循环利用不能实现连续式工作的问题。
一种酸性气体处理装置

[发明专利]图像处理方法、装置和终端设备-CN201611220670.X在审
发明人：邢红凯 -专利权人：奇酷互联网络科技（深圳）有限公司
申请日： 2016-12-26 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明揭示了一种图像处理方法、装置和终端设备，所述方法包括以下步骤将图像从RGB空间转换到YCbCr空间得到第一处理图像；在YCbCr空间对第一处理图像的色度分量进行平滑滤波处理得到第二处理图像；将第二处理图像从YCbCr空间空间转换到RGB空间。本发明实施例所提供的一种图像处理方法，通过将图像从RGB空间转换到YCbCr空间，并在YCbCr空间对色度分量进行平滑滤波处理，消除色度分量Cb和Cr的不平滑现象，当将处理后的图像再从YCbCr空间转换回RGB空间时，图像上的摩尔纹也随之消失，从而有效去除了图像上的摩尔纹，并且不会使图像模糊化，提高了图像质量，解决了插值后图像高频边缘出现摩尔纹的技术问题。
图像处理方法装置终端设备

[发明专利]基板处理方法及其装置-CN201711471688.1有效
发明人：田中裕二;中山知佐世;春本将彦;浅井正也;福本靖博;松尾友宏;石井丈晴 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，在热处理空间内对基板进行热处理，所述方法包括：搬入步骤，使基板载置于支撑销上；排气步骤，排出所述热处理空间内的气体；非活性气体供给步骤，对所述热处理空间供给非活性气体；基板下空间气体排出步骤，排出所述基板与所述热处理板的上表面之间的基板下空间内的气体；以及热处理步骤，使所述支撑销退到所述热处理板内，对在所述热处理空间内载置于所述热处理板的上表面上的基板进行热处理。
处理方法及其装置

[发明专利]一种用于橡胶毛边液氮处理自动装置-CN202010760809.X有效
发明人：黄种灵 -专利权人：扬州鑫润橡塑有限公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： B29C37/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于橡胶毛边液氮处理自动装置，包括机体，所述机体中设有开口向上的原料空间，所述原料空间右侧设有开口向上的细沙空间，所述原料空间下侧连通有定量空间，所述定量空间下侧设有毛边处理空间，所述毛边处理空间右侧壁连通有风扇空间，所述风扇空间上侧设有带轮空间，所述带轮空间左侧设有主动带轮空间，本发明可以有效的对一些加工处理的橡胶毛边进行有效的清除并且保护橡胶产品不被破坏，相比于传统的橡胶毛边的处理，不仅大大提高了处理的效率，同时保证了橡胶产品的外观
一种用于橡胶毛边液氮处理自动装置

[发明专利]用于处理基板的设备及用于处理基板的方法-CN202211731997.9在审
发明人：姜基文;吴承彦 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明构思提供一种用于处理基板的设备和用于处理基板的处理方法。所述基板处理方法包括：根据参考程序在处理空间中对基板进行第一处理；在所述第一处理之后根据所述参考程序在所述处理空间中对基板进行第二处理；及根据所述参考程序使所述处理空间的内部氛围优化，且其中所述优化包括供应处理流体至所述处理空间/自所述处理空间排出所述处理流体的冲洗操作。
用于处理设备方法

[发明专利]基板处理装置-CN202211716291.5在审
发明人：朴宣柱;闵庚石;沈铉宗;丁宣旭;文商珉;宣皓中 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，其具有处理空间，基板在处理空间中被处理；支撑单元，其支撑处理空间中的基板；喷淋板，其具有通孔，加工气体通过该通孔流向处理空间；等离子体源，其通过激发供应至处理空间的加工气体来激发等离子体；以及密度调整构件，其通过改变电介质介电常数来调整在处理空间中生成的等离子体的密度，并且密度调整构件位于喷淋板上。
处理装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202210374758.6在审
发明人：李城吉;卢明燮;金东勋;严永堤;吴东燮;丘峻宅;朴玩哉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理方法及基板处理装置。该基材处理方法包括：用于将基板的温度稳定至用于处理基板的处理空间中的工艺温度的温度稳定化步骤；用于将产生等离子体的等离子体空间的压力和处理空间的压力稳定至工艺压力的压力稳定化步骤，等离子体空间与处理空间流体连通；以及用于在等离子体空间产生等离子体并使用等离子体处理基板的处理步骤。
处理方法装置

[发明专利]空间数据处理方法、装置及系统-CN201510819538.X在审
发明人：卢轶 -专利权人：武汉珞珈德毅科技股份有限公司
申请日： 2015-11-23 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： G06T1/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种空间数据处理方法，该方法包括：获取待处理的空间数据，并根据所述待处理的空间数据的处理类型确定算法；为所述确定的算法选择中央处理器CPU设备或图形处理器GPU设备，并控制所述CPU设备和GPU设备根据确定的算法对待处理的空间数据进行协同处理；接收所述CPU设备及/或GPU设备返回的处理结果，以得到对所述待处理的空间数据的最终处理结果。本发明还公开了一种空间数据处理装置及系统。采用本发明，可提高空间数据的处理效率，及降低成本。
空间数据处理方法装置系统

[发明专利]氟化处理方法和氟化处理装置以及氟化处理装置的使用方法-CN200980136617.3有效
发明人：渡边崇则;岩村英明;南克治 -专利权人：爱沃特株式会社
申请日： 2009-09-10 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： C23C8/08 文献下载
摘要：本发明提供可维持稳定的处理品质的氟化处理方法。其是将被处理物在规定的氟化气氛的氟化处理空间内进行加热保持而进行氟化处理的氟化处理方法，通过使与氟具有反应性的空间内结构物在上述氟化处理空间内露出，以在上述氟化处理空间内露出的空间内结构物的表面上预先形成有氟化层的状态下进行上述氟化处理，用于对被处理物进行氟化处理而供给的氟化源气体不会在氟化处理中由于将空间内结构物的表面氟化而大量地消耗。另外，即使供给的氟化源气体的氟化势能不足，上述空间内结构物表面的氟化层会放出氟化源气体。因此，可以适当地维持氟化处理中的氟化处理空间内的氟化气氛。
氟化处理方法装置以及使用方法