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[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201910991490.9有效
发明人： 吴承勋;柳镇泽;郑富荣;方炳善;金永珍;崔英骏;禹钟贤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的实施例提供一种基板处理方法及基板处理装置，多个回收杯布置成多级，向在所述回收杯的内侧布置的旋转卡盘上的基板喷射处理液来进行液处理工艺，其中，在所述回收杯中任一个回收杯发生高度改变的过渡时间区，连动于所述回收杯的高度改变而调节支承基板的旋转卡盘的旋转速度。
处理方法装置

[发明专利]基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置-CN202010575185.4有效
发明人：朴仁煌;朴贵秀;李暎熏;崔永燮;吴承勋;禹钟贤;诸振模 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置。一种用于支承基板的装置包括：可转动的旋转头，其支承所述基板；中空轴，其与所述旋转头连接、并将扭矩传递至所述旋转头；喷嘴组件，其设置在所述旋转头的内部空间中从而不旋转，并且将处理液供应到所述基板的背侧；和密封部件，其使用磁性流体密封所述旋转头与所述喷嘴组件之间的间隙。
支承单元具有处理装置

[发明专利]电子设备-CN202010851040.2有效
发明人：徐钟麒;吴承勋;涂海生 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H04M1/02 文献下载
摘要：本申请涉及电子产品技术领域，尤其涉及一种电子设备，该电子设备包括：显示屏；中框；导电部件，沿厚度方向H，所述导电部件将所述显示屏与所述中框电连接；其中，所述导电部件设有缓冲部，所述缓冲部到所述显示屏之间具有预设距离。利用本申请提供的电子设备，以在保证天线性能的同时，降低连接部件的内应力，以提高显示屏和中框连接的结构稳定性。
电子设备

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201910809061.5有效
发明人：李映一;朴贵秀;吴承勋;崔重奉;金大勋;方炳善 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法。在一实施例中，基板处理方法包括以下步骤：使基板旋转；以及通过向所述基板的上表面供给工艺流体而形成液膜，在所述基板旋转期间，所述基板上的所述液膜的厚度被调节为设定厚度。
处理方法装置

[发明专利]用于处理基板的设备及用于处理基板的方法-CN202211676993.5在审
发明人：崔龙贤;李暎熏;任镕浚;吴承勋;崔泰钟;高镛璿;李相旼;郑镇优 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明揭示一种用于处理基板的设备及用于处理基板的方法。用于处理基板的设备包括用于通过将处理液体供应至基板来对基板进行液体处理的液体处理腔室、用于通过将工艺流体供应至基板来干燥基板的干燥腔室、用于在液体处理腔室与干燥腔室之间转移基板的转移单元、及用于清洗基板的后表面的后表面清洗单元，其中后表面清洗单元可在将基板自液体处理腔室转移至干燥腔室的同时清洗基板的后表面。
用于处理设备方法

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202211678036.6在审
发明人：崔龙贤;李暎熏;吴承勋;朴美昭;崔泰钟;高镛璿;郑镇优 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理基板的装置及处理基板的方法。用于处理基板的方法包含：用液体处理基板；及干燥经液体处理基板，且液体处理步骤包括：第一液体供应步骤，其将第一液体供应至旋转基板的上表面；及第二液体供应步骤，其将第二液体供应至旋转基板的上表面，且在第二液体供应步骤中，调整基板的旋转速度，使得供应于基板上的第二液体从基板的中心区流动至基板的边缘区。
用于处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201910991489.6有效
发明人：金永珍;柳镇泽;郑富荣;方炳善;吴承勋;崔英骏;禹钟贤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的一实施例提供基板处理装置及基板处理方法，基板处理方法包括以下步骤：向基板表面供给高表面张力液体而形成高表面张力液膜；向形成有所述高表面张力液膜的基板的中心区域供给低表面张力液体，从而将所述高表面张力液膜替换成所述低表面张力液体；以及在供给所述低表面张力液体的步骤中至少一部分时间区期间，追加供给所述高表面张力液体。
处理装置方法

[发明专利]一种棱镜组件、光学防抖组件、摄像头和电子设备-CN202111429157.2在审
发明人：张建广;吴承勋;江玉珊;万玉林;李飞林 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H04N23/51 文献下载
摘要：本申请提供了一种棱镜组件、光学防抖组件、摄像头和电子设备，涉及电子设备领域，以解决固定棱镜的结构需要优化的技术问题。本申请提供的棱镜组件包括棱镜、N个固定片和安装架；棱镜具有N个定位面，每个固定片具有第一固定面和第二固定面；安装架具有N安装面，N个定位面、N个固定片和N个安装面一一对应设置，在对应设置的一组定位面、固定片和安装面中，定位面与固定片的第一固定面固定连接、安装面与固定片的第二固定面固定连接。本申请提供的棱镜组件，棱镜与安装架可以通过固定片进行固定连接，使得固定片能够对棱镜起到有效的保护作用；另外通过固定片也便于提升棱镜与安装架之间的连接强度，有效防止棱镜与安装架之间产生脱落等风险。
一种棱镜组件光学摄像头电子设备

[发明专利]光学镜头、摄像模组及电子设备-CN202111406358.0在审
发明人：张建广;吴承勋;罗振东;曾义闵 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本申请提供一种光学镜头、摄像模组及电子设备。光学镜头包括壳体、第一镜头、第一载体、第一滑杆、第一驱动组件以及第一滚珠组件；第一载体位于壳体内侧，第一镜头安装于第一载体；第一载体设有沿第一镜头的光轴方向延伸的第一滑道，第一滑杆固定于壳体并贯穿第一滑道，第一驱动组件用于驱动第一载体沿第一滑杆滑动；第一滚珠组件包括收容件和滚珠，收容件包括开口，滚珠安装于收容件内并部分露出开口，滚珠能够在收容件内滚动，收容件固定于第一载体内，滚珠露出开口的部分与第一滑杆接触，并将第一滑杆抵持于第一滑道的内壁。本申请提供的光学镜头在任何姿态下均能实现良好成像效果。
光学镜头摄像模组电子设备

[发明专利]用于处理基板的装置-CN202211313020.5在审
发明人：郑镇优;诸振模;李相旼;李暎熏;崔龙贤;任镕浚;吴承勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，其用于提供用于在其中处理基板的处理空间；支撑单元，其用于在处理空间中支撑基板；底部供应端口，其用于向处理空间供应工艺流体；和填充构件，其位于在处理空间中被支撑在支撑单元上的基板下方，其中填充构件形成面向底部供应端口的缓冲空间，并且在填充构件与壳体的内壁之间形成通道，该通道使引入缓冲空间中的工艺流体沿着基板的方向流动。
用于处理装置

[发明专利]摄像模组和电子设备-CN202110977667.7在审
发明人： 吴承勋;张源吉;刘彬;李思 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H04N23/52 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种摄像模组和电子设备，摄像模组包括：镜筒、镜片、驱动机构和导杆；镜筒包括相对设置的进光面和出光面，镜片安装在镜筒内部，多个镜片沿光轴方向从进光面至出光面依次排列，镜筒上开设有连通进光面和出光面的安装孔，导杆设置在安装孔内，驱动机构和导杆连接，导杆用于在驱动机构的驱动下带动镜筒沿光轴方向移动；进光面和出光面中的至少一个上设置有防尘面，防尘面设置在安装孔的周侧，防尘面与安装孔轴心的距离，从靠近安装孔开口的一侧到远离安装孔开口的一侧逐渐增大。本申请实施例提供一种摄像模组和电子设备，可以解决异物进入镜筒和导杆之间导致拍摄品质下降的问题。
摄像模组电子设备

[发明专利]基板处理设备-CN202210907723.4在审
发明人：李钟斗;吴承勋;诸振模;金基峰;李暎熏 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明概念提供一种基板处理设备。基板处理设备包括主体；流体供应单元，用于将处理流体供应至主体内的处理空间；及流体排出管线，用于自处理空间排出处理流体，且其中主体包括：第一主体；第二主体，相对于第一主体相对移动；及抗摩擦构件，用于防止第一主体与第二主体之间的摩擦，且其中抗摩擦构件配置为连续覆盖第一主体及第二主体的表面中的至少两个表面。
处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN202210599755.2在审
发明人：诸振模;吴承勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-05-30 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理设备。基板处理设备包括提供内部空间的腔室，被配置为将干燥流体供应到内部空间的流体供应单元，以及被配置为从内部空间排放干燥流体的流体排放单元，并且其中流体排放单元包括：排放管线，其连接到腔室；压力调节构件，其安装在排放管线处并被配置为将内部空间的压力保持在设定压力；以及加热件，其安装在压力调节构件处或压力调节构件的后端处。
处理设备

[实用新型]一种脚垫及笔记本电脑-CN202220314297.9有效
发明人：雷扬涛;张云杰;吴承勋;欧颖;廖林锋 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-02-16 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： G06F1/16 文献下载
摘要：本申请提供一种脚垫及笔记本电脑，涉及减震技术领域，解决了笔记本电脑的脚垫容易出现三脚猫不良或部分悬空而严重影响用户体验的问题。该脚垫包括主体部和弹片，所述主体部具有相对的连接面和抵靠面。所述弹片的一部分连接在所述主体部的连接面上，所述弹片的另一部分凸出设置在所述连接面的上方。该脚垫用于缓冲支撑各种设备。
一种脚垫笔记本电脑

[发明专利]基板处理装置以及基板处理设备-CN202210042336.9在审
发明人：李相旼;吴承勋;任镕浚;梁孝源 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的实施例提供一种基板处理装置以及基板处理设备，能够消减物体间接触时产生的冲击引起的受损及颗粒。根据本发明的实施例的基板处理装置包括：工艺腔室，包括彼此结合而在内部形成处理空间的第一主体和第二主体；夹紧部件，夹紧所述第一主体和所述第二主体；以及防摩擦部件，安装于在所述夹紧部件针对所述第一主体或者所述第二主体所接触的接触区域形成的沟槽中。根据本发明的实施例的基板处理装置具备安装于在第一主体以及第二主体和锁止部件所接触的接触区域形成的沟槽中的防摩擦部件，从而能够消减接触时产生的冲击引起的受损及颗粒。
处理装置以及设备

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