专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基片承载装置和刻蚀设备-CN201410682769.6有效
  • 贾士亮;吴鑫;栾大为 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2014-11-24 - 2019-08-23 - H01L21/683
  • 本发明提供一种基片承载装置,包括托盘和盖板,所述托盘用于承载多个基片,所述盖板用于将所述多个基片固定在所述托盘上,其中,所述基片承载装置设置为当多个所述基片设置在所述基片承载装置中时,多个所述基片的上表面高度不同,以使得工艺时腔室内的多个所述基片的上表面处的等离子体浓度相同。本发明还提供一种刻蚀设备,在利用包括本发明所提供的基片承载装置的刻蚀设备进行刻蚀时,多个基片表面处的等离子浓度大致相同,因此,多个基片的上表面受到的等离子体的轰击能量也大致相同,所以刻蚀结束后,不同基片上的图形尺寸基本是相同的
  • 承载装置刻蚀设备
  • [发明专利]具有广视角的五个非球面表面晶片级透镜系统-CN201410186759.3有效
  • 尹淳义;邓兆展 - 全视技术有限公司
  • 2014-05-05 - 2014-11-12 - G02B13/18
  • 本发明提供一种晶片级透镜系统,该晶片级透镜系统包括:第一基片;第一透镜,该第一透镜具有与第一基片相接触的平面表面和凹形非球面表面;第二基片;第二透镜,该第二透镜具有面向第一透镜的凸形非球面表面和与第二基片相接触的平面表面;第三透镜,该第三透镜具有与第二基片相接触的平面表面和凹形非球面表面;第三基片;第四透镜,该第四透镜具有面向第三透镜的凸形非球面表面和与第三基片相接触的平面表面;以及第五透镜,该第五透镜具有与第三基片相接触的平面表面和凹形非球面表面
  • 具有视角五个球面表面晶片透镜系统
  • [发明专利]半导体基片加工方法-CN200810224342.6无效
  • 周洋 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2008-10-17 - 2010-06-09 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种半导体基片加工方法,在刻蚀工艺前,当基片经过传输路径被放入工艺腔室后,通入Ar气、He气或N2气等非工艺气体对基片表面进行吹扫,以去除由于在传输过程中掉落在基片表面的颗粒;并当刻蚀工艺完成后,基片传出工艺腔室之前,通入Ar气、He气或N2气等非工艺气体对基片表面进行吹扫,以去除由于刻蚀过程中副产物在基片表面的附着物,可以有效的降低由于基片在传输过程中或刻蚀副产物掉落在基片表面的颗粒对基片加工良率的影响
  • 半导体加工方法
  • [发明专利]完全利用表面区域的光伏模组-CN200580019774.8无效
  • I·L·斯克里亚宾;M·J·松德曼;G·E·塔洛克;G·帕尼;S·M·塔洛克 - 戴索有限公司
  • 2005-06-15 - 2007-05-23 - H01G9/20
  • 一种光伏模组,包括:(i)以紧密间隔彼此平行设置的三块或更多基片(1、2、3),其包括:具有第一和第二表面的中央基片(2);具有内和外表面的第一外基片(1),该内表面与中央基片的第一表面并列设置;和具有内和外表面的第二外基片(3),该内表面和中央基片的第二表面并列设置,(ii)前光伏装置(A、B、C),形成在第一外基片(1)与中央基片(2)的第一表面之间,(iii)连接和/或分隔装置(11),设置在至少一对前装置之间,以及(iv)后光伏装置(D、E),形成在第二外基片(3)与中央基片(2)的第二表面之间,其特征在于:(v)前和后光伏装置被偏移,使前装置(A、B、C)的连接和分隔装置(11)与后装置(D、E)的有效光伏区域相对
  • 完全利用表面区域模组
  • [发明专利]基片托板系统与用于抛光基片的方法-CN200910135152.1无效
  • 户川哲二 - 株式会社荏原制作所
  • 2002-05-29 - 2009-09-09 - B24B29/02
  • 一种基片托板系统,其包括:基片托板,其包括保持环,该保持环用于夹持基片,并将基片定位,以便在抛光过程中使基片表面与抛光表面接触,所述基片托板还包括连接到所述保持环上的基片托板主体装置;基片托板驱动轴,其与所述基片托板连接,用于驱动、上升和下降所述基片托板;滚珠丝杠和滚珠螺母,该滚珠丝杠和滚珠螺母与所述基片托板驱动轴连接;脉冲马达,其与所述滚珠丝杠接合,用于将所述基片托板上升和下降到所希望的垂直位置;流体压力源,其向基片上方供给增压流体;和控制装置,其用于通过所述脉冲马达、所述滚珠丝杠和所述滚珠螺母固定所述基片托板的垂直位置,直到所述基片托板被固定在所希望的垂直位置,并向所述基片上方导入增压流体,将基片压贴到所述抛光表面
  • 基片托板系统用于抛光方法

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