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[实用新型]一种用于激光诱导石墨烯图形化的掩模化制品-CN201720353795.3有效
发明人：张旻;梁家铭;刘易鑫;吴一川;王晓浩 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2017-04-06 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于激光诱导石墨烯图形化的掩模化制品，包括衬底、形成于所述衬底上的聚合物层和形成于所述聚合物层上的图形化的金属掩模层。采用该掩模化制品进行激光诱导石墨烯图形化加工，能够提高多孔石墨烯图形化的加工精度，使工艺过程和加工操作简单化，降低成本。
一种用于激光诱导石墨图形掩模化制品

[发明专利]穿孔二维码的加工方法、装置及计算机可读存储介质-CN201910112306.9在审
发明人：闵秀红;邹长青 -专利权人：深南电路股份有限公司;南通深南电路有限公司
申请日： 2019-02-13 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： B26F1/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种穿孔二维码的加工方法，包括以下步骤：获取印刷电路板的识别信息，并根据所述识别信息生成图形二维码；获取所述图形二维码的尺寸信息，根据所述尺寸信息在坐标系中将所述图形二维码分配成预设矩阵，所述预设矩阵包括坐标信息；根据所述预设矩阵中与所述预定图形对应的坐标信息确定所述预定图形的坐标信息；根据所述预定图形的坐标信息生成钻带，根据所述钻带加工穿孔二维码。本发明还公开了一种穿孔二维码的加工装置及计算机可读存储介质。本发明通过将图形二维码数字化获得图形二维码中预定图形的坐标信息，进而根据所述坐标信息生成钻带，解决传统的PCB数控钻机无法加工带穿孔二维码的PCB板的技术问题。
二维码坐标信息穿孔预定图形矩阵预设计算机可读存储介质尺寸信息加工印刷电路板加工装置数控钻机信息生成传统的加工带数字化分配

[发明专利]蚀刻方法和光掩模坯料的加工方法-CN201010270048.6有效
发明人：五十岚慎一;稻月判臣;金子英雄;吉川博树;木名濑良纪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2010-05-14 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明披露了一种对形成于衬底上的加工层的干蚀刻方法，包括步骤：在形成于衬底上的加工层上形成硬掩模层，在该硬掩模层上形成抗蚀剂图形，通过使用该抗蚀剂图形而实施的第一干蚀刻将该抗蚀剂图形转移至所述硬掩模层，并且通过使用以上转移至所述硬掩模层得到的硬掩模图形而实施的第二干蚀刻对所述加工层进行图形化，其中通过所述第一干蚀刻对所述硬掩模层进行图形化后，在所述第一干蚀刻已经实施过的蚀刻装置中，通过改变干蚀刻气体中副成分的浓度而不改变干蚀刻气体中主成分的浓度，利用所述第二干蚀刻对所述加工层进行图形化。
蚀刻方法光掩模坯料加工

[发明专利]用于配置加工厂中的图形显示元素和过程模块的系统-CN201110156834.8有效
发明人：马克·J·尼克松;亚瑟·韦伯;迈克尔·J·卢卡斯;肯·J·贝欧格特;特伦斯·L·布兰文斯;斯蒂芬·吉尔伯特;布鲁斯·坎普尼 -专利权人：费舍-柔斯芒特系统股份有限公司
申请日： 2005-05-04 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于配置加工厂中的图形显示元素和过程模块的系统。一种便于配置加工厂的系统可以包括过程图形编辑器和过程模块编辑器。过程图形编辑器可便于加工厂中物理实体的图形表示的创建和/或修改。过程模块可以包括代表加工厂中一个或多个相应物理实体的一个或多个互连的过程对象。该系统还包括一与过程图形编辑器及过程模块编辑器通信相连的监控模块。该监控模块能使用过程图形编辑器检测对物理实体的图形表示所做的变化。响应于对此类变化所进行的检测，监控模块可以指令过程模块编辑器对过程模块进行相应的改变，如果有的话。
用于配置加工厂中的图形显示元素过程模块系统

[实用新型]一种激光镭射雕刻机-CN201620158945.0有效
发明人：朱植洁 -专利权人：朱植洁
申请日： 2016-03-02 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种激光镭射雕刻机，包括图形设定机箱体、图形设定机、开关键、支撑腿、雕刻机箱体、开关门、竖直滑块轨道、竖直滑块、水平滑块、激光发射器、水平滑块轨道、排烟口和垫板，所述图形设定机箱体上侧设有图形设定机，所述图形设定机右侧设有开关键，所述图形设定机箱体下侧设有支撑腿，所述图形设定机箱体左侧设有雕刻机箱体，所述雕刻机箱体上侧安装有开关门，所述开关门下侧安装有竖直滑块轨道，所述竖直滑块轨道右侧安装有竖直滑块该激光镭射雕刻机采用激光做加工手段，与工件之间没有加工力的作用，具有无接触，无切削力，热影响小的优点，保证了工件的原有精度，对加工对象的材质，形状，尺寸和加工环境的自由度都很大。
一种激光镭射雕刻

[发明专利]过程环境中具有多种视像的图形元素-CN200580014496.7有效
发明人：斯蒂芬·吉尔伯特;肯·J·贝欧格特;迈克尔·J·卢卡斯;坦尼森·郝;马克·尼克松 -专利权人：费舍－柔斯芒特系统股份有限公司
申请日： 2005-05-04 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：智能图形元素被用作一个或多个图形显示的部分或部件，其中图形显示在加工厂中被执行，以向用户显示关于加工厂环境的信息，例如加工厂内设备的当前状态。每个图形元素都是一个可执行的对象，其包括可以绑定到诸如现场设备的相关过程实体的属性或变量，还包括多种视像，当图形元素被用作图形显示的一部分来执行时，每个视像都可以用于在用户界面上图形化地描述相关过程实体任何图形元素视像都可以用在任何特定的图形显示中，且同一图形显示可以在不同时刻使用不同的视像。与图形元素相关的不同视像可以使该图形元素更加通用，表现在其允许同一图形元素应用于使用不同图形样式或不同图形标准的不同显示中。这些视像也使得同一图形元素可以用于为不同类型的显示设备设计的显示中，例如具有大显示屏、标准计算机显示器以及诸如PDA和电话显示屏之类的等小显示屏的显示设备。
过程环境具有多种视像图形元素

[发明专利]一种管材切割方法、装置以及计算机可读存储介质-CN202210479488.5在审
发明人：迟杰恒;杨基鹏 -专利权人：深圳市小步数控有限公司
申请日： 2022-05-05 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：该管材切割方法包括：获取待切割零件的三维图形；基于所述三维图形和加工顺序获取当前加工图形与下一个加工图形的位置关系；按照所述位置关系获取当前抬高高度；若所述当前抬高高度小于预设抬高高度，则在按照所述当前加工图形对所述待切割零件进行切割后若所述当前抬高高度大于等于预设抬高高度，则在按照所述当前加工图形对所述待切割零件进行切割后，按照所述当前抬高高度抬高所述切割头。
一种管材切割方法装置以及计算机可读存储介质

[发明专利]一种掩膜电解加工微结构阵列的方法-CN201610661385.5有效
发明人：秦歌;周奎;罗晨旭;王冠;程丹佛;赵西梅;李润清;明平美;张新民 -专利权人：河南理工大学
申请日： 2016-08-14 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： B23H9/00 文献下载
摘要：本发明提出一种掩膜电解加工微结构阵列的方法，属于电解加工领域。包括下列步骤:（a）制作掩膜成型的诱导装置。包括：1.在基底（1）上制作支架（2）；2.基底（1）表面疏水处理，制作疏水层（3）；3.涂覆聚合物（4）；4.装配诱导装置；（b）诱导聚合物（4）图形化；（c）固化诱导成型的聚合物（4），在金属平板工件（5）上得到图形化聚合物（7）；（d）电解加工微结构阵列。本发明采用电诱导结合超疏水工艺进行图形转移方法制作电解加工中的图形化掩膜结构，避免了图形之间聚合物在基底表面上的残留，保证了掩膜图形之间的金属裸露和后期的电解加工的顺利进行，工艺简单，成本低，效率高。
电解加工微结构阵列聚合物掩膜诱导装置图形化制作基底成型金属平板工件图形化掩膜涂覆聚合物诱导聚合物表面疏水基底表面金属裸露图形转移掩膜图形超疏水电诱导疏水层支架固化装配诱导残留保证

[发明专利]宝石的微缩标识加工、读取、检测方法及加工装置-CN202011062765.X有效
发明人：程鹏;杨俊 -专利权人：北京石榴果科技有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B23K26/0622 文献下载
摘要：涉及防伪技术领域，本申请公开一种宝石的微缩标识加工、读取、检测方法及加工装置。获取标识图形，标识图形包括多个图形单元；在待加工宝石内或表面上确定与每个图形单元对应的点元区域的位置信息；多个点元区域的投影图案与图形单元的图案一致；根据每个点元区域的位置信息，利用激光在待加工宝石内或表面上形成与每个点元区域对应的具有色心转变结构的数据标识区与现有技术先比，本申请的可通过在宝石表面或内部形成多个点元区域，通过激光加工形成点元区域对应的具有色心转变结构的数据标识区，进而使数据标识区相应的具有色心转变的特性，也就能够增加防伪标记识别的维度，进而提高标识图形的防伪性能
宝石微缩标识加工读取检测方法装置

[发明专利]一种金属表面微凸起模具的制备方法-CN202010677375.7在审
发明人：梁怀南;关妙;翟宏建;徐怀仁;韩帅月;王少川;祁辰 -专利权人：太原科技大学
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B23P15/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属表面微凸起模具的制备方法，该方法对于模具图形的制备，采用激光加工的方式在工具电极上进行微凹坑图形的制备；对于金属表面微凸起的制备，采用精密电火花成形的加工方式，通过利用电火花成形反刻原理，实现图形的精确转移。本发明结合激光加工和精密电火花成形加工技术的优势，实现了在金属表面进行微凸起的制备。该技术中的激光加工不仅可以实现毫米级图形的制备，还可以实现微米级图形的制备。相比微机械切削加工，激光加工可以实现各种复杂图形的制备，加工效率高，成本低。该技术中的精密电火花成形加工不仅可以加工任意高硬度，高强度的导电材料，还能实现材料表面微米级的反刻制备。该复合加工技术制备的微凸起模具，可以应用在各个方面，如：可以进行表面织构的制备，相比那些光学、电化学等表面织构的制备方法，通过该模具头制备的表面织构不仅效率高，成本低，还操作简单，绿色环保。
一种金属表面凸起模具制备方法

[发明专利]采用数控机床加工工件的方法-CN201510918003.8在审
发明人：刘熙杰 -专利权人：广东长盈精密技术有限公司
申请日： 2015-12-10 - 公布日： 2016-04-27 - 主分类号： G05B19/4099 文献下载
摘要：本发明涉及一种采用数控机床加工工件的方法。所述采用数控机床加工工件的方法包括以下步骤：绘制工件轮廓图形；将所述工件轮廓图形中的圆弧边轮廓线及与所述圆弧边轮廓线相连的轮廓线打断成多条线段；根据所述工件轮廓图形生成NC加工文件；以及数控机床读取NC加工文件并根据所述NC加工文件加工工件。所述采用数控机床加工工件的方法提高了工件的加工精度。
采用数控机床加工工件方法

[发明专利]饰品图案成型工艺-CN201810806425.X在审
发明人：邱建江 -专利权人：东莞嘉言金品珠宝科技有限公司
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：一种饰品图案成型工艺，用于加工饰品，使饰品上形成独特视觉效果的图案，其包括以下步骤：(1)、图形制作，在计算机上绘制图形，根据制定要求选定一基础的图形，该基础图形为基本轮廓，所述基本轮廓包括一中心点，该中心点为横向中轴线与竖向中轴线的交点；(2)、加工图案绘制，在基准线轮廓上放置圆，放置在基准线轮廓上的所有圆组成加工图案；(3)、图案录入，将步骤(1)中的图形录入到CNC上；(4)、加工成型，由CNC在手镯完成图形加工，加工后，不同的圆之间的交点组合成与基准线轮廓按比例缩小的轮廓相同的图案
饰品图案基准线图案成型工艺基本轮廓中心点加工按比例缩小横向中轴线产品外观独特视觉绘制图形基础图形加工成型视觉效果图形加工图形录入图形制作手镯中轴线竖向录入绘制折射计算机制定

[发明专利]一种基于嵌入式系统的宝石加工过程可视化辅助的方法-CN201610544859.8在审
发明人：贾佳;江泽如;黄艺 -专利权人：深圳市易德电子有限公司
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： G06F3/0488 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于嵌入式系统的宝石加工过程可视化辅助的方法，属于宝石加工技术领域。本发明依据宝石的基本形状用计算机软件设计宝石原始图形，再根据加工角度的不同，将宝石原始图形切分成各个板位图形保存，并将各个板位的图形渲染成不同颜色及明暗度后与宝石原始图形分层叠放、合成，然后设计宝石加工的显示及操作信息并进行逻辑开发，最后将计算机源代码通过嵌入式操作系统编译成可执行文件并运行，通过嵌入式系统硬件层的核心模块跟触摸模块、显示模块、存储模块、MCU模块通讯实现图形用户界面全程显示、人机互动直观操控来辅助宝石加工。这种可视化辅助的方法操作简单便捷，可提高工作效率，大大降低出错率、极大地减少加工成本。
一种基于嵌入式系统宝石加工过程可视化辅助方法

[发明专利]金属的焊接方法、装置及计算机可读存储介质-CN202111502738.4在审
发明人：欧城孝;高鹏;陈大贵;伏博;黄小龙;陆明;周学慧;张凯 -专利权人：深圳泰德激光技术股份有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B23K26/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属的焊接方法、装置及计算机可读存储介质，方法包括：预设的目标WOBBLE图形，所述目标WOBBLE图形包括鱼鳞摆图形、正弦波图形、三角波图形、圆形以及椭圆形；获取所述目标WOBBLE图形对应的控制参数，所述控制参数包括延迟参数、层参数、加工参数、抖动参数和/或单点参数；根据所述控制参数加工待焊接金属。
金属焊接方法装置计算机可读存储介质

[发明专利]半导体器件的图形对准标记-CN95109443.2无效
发明人：裴相满;崔秉一 -专利权人：现代电子产业株式会社
申请日： 1995-07-07 - 公布日： 2001-12-26 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种图形对准标记，其具有至少一个在半导体器件的制造工艺期间用于对准的已指定测量图形，包括具有衰减所述已指定的测量图形中具有较高的光反射强度的测量图形的光反射的装置，本发明通过消除在测量图形的重叠精度时光反射强度的差异，事先防止了图形误差的出现，使生产稳定，并减少了加工时间从而提高了加工的准确性，增加了产量。
半导体器件图形对准标记