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[发明专利]光罩的制作方法-CN200910055364.9无效
发明人：柳锋;朱振华 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-07-24 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种衰减式相位移光罩的制作方法，包括：提供透明基板，在基板上形成相位偏移层，在相位偏移层上形成光阻层；在光阻层上形成图案化的光刻胶层；以图案化的光刻胶层为掩膜，蚀刻光阻层，形成图案化的光阻层；以图案化的光阻层为掩膜，干法蚀刻相位偏移层；得到相位偏移层的特征尺寸，比较相位偏移层的特征尺寸值相比预定值的偏小量，采用湿法蚀刻法对相位偏移层进行再蚀刻；去除光阻层，加上透明的保护膜，完成制作。干法蚀刻相位偏移层之后，经过测量发现相位偏移层的特征尺寸比预定值偏小的话，采用湿法蚀刻对相位偏移层进行修正，而不必重新制作光罩，能够达到节约成本的目的。
制作方法

[发明专利]光相干接收机、光相干接收机用频差估计装置及方法-CN200710166788.3有效
发明人：李磊;陶振宁;中岛久雄 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2007-11-19 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： H04B10/148 文献下载
摘要：本发明公开了光相干接收机、光相干接收机用频差估计装置及方法。所述光相干接收机包括前端处理部，所述前端处理部将光信号变成基带数字电信号，所述频差估计装置包括：相位偏移计算部，用于计算所述基带数字电信号中的相位偏移；相位偏移变化计算部，用于根据所述相位偏移计算部所计算出的相位偏移，计算所述相位偏移的变化，即相位偏移变化；模糊判断部，用于判断所述相位偏移变化计算部计算出的所述相位偏移变化中是否存在模糊，输出不存在模糊的相位偏移变化；环路滤波部，用于获得所述模糊判断部输出的相位偏移变化的加权平均
相干接收机用频差估计装置方法

[发明专利]相位偏移器、锁模激光器及锁模激光器的控制方法-CN202110337862.3在审
发明人：罗智超;李体鉴;刘萌;罗爱平;徐文成 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种相位偏移器、锁模激光器、锁模激光器的控制方法及计算机可读存储介质。该相位偏移器包括：第一法拉第旋转器，用于在第一方向接收第一偏振光，并将第一偏振光的振动方向旋转‑45°以输出第二偏振光；可变波片，用于在第一方向接收第二偏振光，并将第二偏振光增加第一相移后输出第五偏振光；第二法拉第旋转器，用于在第一方向接收第五偏振光，并将第五偏振光的振动方向旋转45°后以输出第八偏振光；电压控制器，电性连接可变波片，用于控制可变波片的输入电压，以调节可变波片的折射率。该相位偏移器实现在相位偏移器处于工作状态时可以调节相位偏移器的相位差，提高了相位偏移器的便利性和工作效率，降低了相位偏移器的工作成本。
相位偏移激光器控制方法

[发明专利]相位偏移光掩模坯料、相位偏移光掩模及其制造方法-CN200610076905.2有效
发明人：稻月判臣;吉川博树;丸山保;冈崎智 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2006-04-25 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：在对曝光光线透明的基板(1)上设置层合2层由金属硅化物的化合物(2a、2b)组成的层的相位偏移多层膜(2)。而且，在表面侧的金属硅化物的化合物(2b)表面上形成氧化稳定化层(2c)。相位偏移多层膜(2)中基板侧(下面)的层(2a)是金属组成相对高的金属硅化物的化合物，上面的层(2b)是金属组成相对低的金属硅化物的化合物。下面的层(2a)由具有较高金属含量的金属硅化物的化合物膜构成，因此，容易控制相位偏移多层膜的光学特性，能得到所希望的光学特性。
相位偏移光掩模坯料及其制造方法

[发明专利]光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法-CN201410407479.0在审
发明人：山口昇;吉川裕;坪井诚治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2014-08-19 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法，提高细微图案的转印性。显示装置制造用光掩模通过如下方式形成，在透明基板上，利用湿式蚀刻分别对相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜进行图案化，形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的转印用图案，其中，遮光部是依次层叠相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜而成的，相位偏移部是相位偏移膜，或者依次层叠相位偏移膜和蚀刻掩模膜而成的，透光部是使透明基板表面露出而成的，相位偏移膜由含有铬的材料构成，蚀刻掩模膜由对相位偏移膜的蚀刻液具有耐蚀刻性的材料构成，相位偏移部与透光部具有彼此邻接的部分，而且，相位偏移部与透光部相对于光掩模的曝光光的代表波长具有大致180度的相位差。
光掩模及其制造方法图案显示装置

[发明专利]激光装置和电子器件的制造方法-CN202080095261.X在审
发明人：田丸裕基;三浦泰祐 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本公开的一个观点的激光装置具有：主振荡器，其输出激光；放大器，其具有光谐振器，在光谐振器内放大由主振荡器输出的激光；以及相位偏移构造，其被配置于比主振荡器与放大器之间的光路的中间点靠放大器侧的光路上。相位偏移构造具有激光的相位的偏移量不同的多个单元，单元的配置间隔为80μm以上且275μm以下。
激光装置电子器件制造方法

[发明专利]用于修复光掩模的桥接的方法-CN200710149700.7无效
发明人：河泰中 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2007-09-13 - 公布日： 2008-07-02 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于修复光掩模中的桥接的方法，该方法包括：在透明基板上布置相位偏移层图案及光屏蔽层图案，其中该相位偏移层图案布置在该透明基板及该光屏蔽层图案之间；该光掩模的整个表面上形成抗蚀剂层，其中该光掩模具有在相位偏移层图案的相邻部分之间造成桥接的缺陷图案
用于修复光掩模方法

[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法-CN201780070660.9有效
发明人：山田慎吾;森山久美子;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且，在半透过部与相位偏移部邻接的边界部，形成有半透膜、相位偏移膜和蚀刻阻挡膜的叠层膜，蚀刻阻挡膜由不被半透膜和相位偏移膜的蚀刻液蚀刻的材质构成。其结果，实现具有半色调的效果和相位偏移效果双方的光掩模。
色调光掩模坯制造方法

[发明专利]对经相位调制的光信号进行解调的方法-CN201280031892.0有效
发明人： F·瓦孔迪奥;O·博特兰-帕尔多 -专利权人：阿尔卡特朗讯
申请日： 2012-06-20 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： H04B10/2513 文献下载
摘要：提供了一种对接收自光信道的、经相位调制的光信号进行解调的方法。使用本地光信号从经相位调制的光信号中推导出时间离散电信号，该本地光信号的频率基本上等于经相位调制的光信号的载波频率。通过从本地光信号推导出相位偏移以及利用此相位偏移修改推导出的时间离散电信号，对本地光信号和经相位调制的光信号之间的相位误差进行补偿。
相位调制信号进行解调方法

[发明专利]光读写头-CN99102312.9无效
发明人：岛野健;中村滋;大西邦一;井上雅之;福井幸夫 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 1999-02-13 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： G11B7/12 文献下载
摘要：提供消除对焦点偏离信号的干扰，消除跟踪误差信号的偏移的光读写头。利用相位在光盘半径方向按周期Dλ/(2P·NA)反相的相位反相衍射光栅(701)使±1级衍射光的波面相位预先按相同的周期偏移λ/2，使子光点在光盘上与主光点位于同一道上。这样，通过按适当的增益比叠加主光点和子光点的焦点偏离误差信号，便可消除对焦点偏离误差信号发生的干扰。通过按适当的增益比扣除主光点和子光点的推拉方式的跟踪误差信号，便可消除其偏移。
读写

[发明专利]用于测量由样本在光信号中引起的相位偏移的方法和设备-CN200580025163.4有效
发明人：索伦·阿斯马尔 -专利权人：帕瑞萨森思公司
申请日： 2005-07-27 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：用于测量在光信号中引起的相位偏移的设备具有：第一光源，用于沿着包括例如荧光样本的样本的测量光径发射光信号；以及第二光源，用于沿着伪测量光径发射光信号。提供了测量电子电路，用于接收这些光信号，并且提供在时间上分离的、表示相应光信号的相位的输出。在使用时，由荧光样本在测量光径的光中引起相位偏移。提供了参考电子电路，用于接收表示由第一和第二光源发射的光信号的相位的信号。提供了电路，用于在第一光源的操作期间比较从这两个电路输出的光的相应相位，以提供表示第一测量相位差的输出。然后，通过在第二光源的操作期间进行类似的相位差测量并且比较这两个相位差来对该测量施加校正。
用于测量样本信号引起相位偏移方法设备

[发明专利]高效率QLED结构-CN202010692210.7在审
发明人：大卫·詹姆斯·蒙哥马利;爱德华·安德鲁·伯尔德曼;蒂姆·米迦勒·斯米顿 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2020-07-17 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：一种发光层结构，通过改变由反射电极引入的相位偏移，最大限度地增加对光发射的相长干涉。发光层结构包括第一和第二光腔，所述第一和第二光腔包括第一和第二反射电极；第一和第二部分透明电极；以及设置在第一和第二反射电极与第一和第二部分透明电极之间的第一和第二发射层(EML)，其中，第一EML发射具有第一波长的光；其中，第一反射电极根据第一波长在第一EML发射的光的反射上引入第一相位偏移；其中，第二EML发射具有第二波长的光，并且第二反射电极根据第二波长在第二EML发射的光的反射上引入第二相位偏移，并且第一相位偏移与第二相位偏移不同
高效率 qled 结构

[发明专利]光掩膜的制作方法-CN200910055943.3有效
发明人：杨志刚 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-08-05 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种光掩膜的制作方法，所述光掩膜包括石英基板、以及依次镀在石英基板上的相位偏移膜及铬金属膜，该方法还包括：对铬金属膜进行不同层铬金属光掩膜图形的图案化后，分别独立地将不同层的相位偏移光掩膜图形图案化到同一片石英基板的相位偏移膜上该方法在同一片石英基板上制作晶圆衬底上不同层曝光所需的光掩膜图形。
光掩膜制作方法

[发明专利]偏振控制器件和偏振控制的方法-CN201480003264.0在审
发明人：马骁;郝沁汾;邓湘元 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：该偏振控制器件包括：偏振分束装置(110)，第一相位偏移器(120)，合波器(130)，波导(140)，波导(150)和波导(160)；偏振分束装置(110)用于将输入光分为两路TE模光或者两路TM模光；第一相位偏移器(120)用于调节输入到第一相位偏移器(120)中的光的相位；合波器(130)用于调节合波器(130)的分光比，将从合波器(130)的第一输入端口和第二输入端口输入的两路TE模光或者两路TM模光合波为一路TE模光或者一路TM模光。
偏振控制器件方法

[发明专利]一种实现相干光相位同步的方法和接收机-CN200810171949.2有效
发明人：徐晓庚;乔耀军;杜晓;纪越峰 -专利权人：华为技术有限公司;北京邮电大学
申请日： 2008-10-24 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： H04B10/148 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种实现相干光相位同步的方法和接收机，所述方法为：将接收到的相干光信号和本振信号混频后的信号进行模拟/数字转换，转换后的混频信号包含所述相干光信号和所述本振信号的频率偏移和相位噪声；利用对数提取所述混频信号的相位误差，所述相位误差包含所述频率偏移和相位噪声；从所述混频信号中除去所述相位误差。本发明实施例利用对数提取接收到的相干光信号和本振信号混频后信号的相位误差，再从所述混频信号中除去所提取的相位误差，从而实现接收信号与本振信号相位的同步，能够避免相干通信系统信号产生相位模糊，提高相位同步精确度和接收系统的解调效率
一种实现相干光相位同步方法接收机

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