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[其他]把光掩膜定位在印刷线路板上的装置-CN86107270无效
发明人：约翰·V·克罗宁 -专利权人： M和T化学股份有限公司
申请日： 1986-10-22 - 公布日： 1987-07-15 - 主分类号： G03B27/20 文献下载
摘要：一种用于将光掩膜敷在基片上的装置。用辊子把光掩膜敷在基片上，用真空限制装置在把光掩膜敷在基片上的过程中限制光掩膜，使其保持张力。
光掩膜定位印刷线路板装置

[其他]将光掩膜敷到印刷线路板上的装置-CN101986000007270在审
发明人：约翰·V·克罗宁 -专利权人： M和T化学股份有限公司
申请日： 1986-10-22 - 公布日： 1989-03-22 - 主分类号：文献下载
摘要：一种用于将光掩膜敷在基片上的装置，用辊子把光掩膜敷在基片上，用真空限制装置在把光掩膜敷在基片上的过程中限制光掩膜，使其保持张力。
将光掩膜敷到印刷线路板装置

[发明专利]将光掩膜敷到印刷线路板上的装置-CN86107270.7无效
发明人：约翰·V·克罗宁 -专利权人： M和T化学股份有限公司
申请日： 1986-10-22 - 公布日： 1989-03-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于将光掩膜敷在基片上的装置，用辊子把光掩膜敷在基片上，用真空限制装置在把光掩膜敷在基片上的过程中限制光掩膜，使其保持张力。
将光掩膜敷到印刷线路板装置

[发明专利]光掩膜基板胶膜层及铬膜层的返工方法-CN201410388945.5在审
发明人：徐根;周志刚;陈社城 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2014-08-08 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜基板胶膜层及铬膜层的返工方法。所述光掩膜基板胶膜层的返工方法包括：将待返工的光掩膜基板置于质量百分比为4％～10％的氢氧化钠溶液中浸泡多次，去除所述光掩膜基板的胶膜层；用纯水漂洗已去除胶膜层的光掩膜基板；用异丙醇胺溶液漂洗经纯水漂洗后的光掩膜基板所述光掩膜基板铬膜层的返工方法包括：将待返工的光掩膜基板置于质量百分比为4％～10％的氢氧化钠溶液中浸泡多次，去除所述光掩膜基板的胶膜层；用纯水漂洗已去除胶膜层的光掩膜基板；将所述光掩膜基板放入设定配比的硝酸铈铵和纯水的混合溶液中浸泡，去除所述光掩膜基板的铬膜层。
光掩膜基板胶膜铬膜层返工方法

[发明专利]掩膜板的检测方法-CN200910195217.1无效
发明人：朱瑜杰;陈宏璘;孙强;施春山 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板的检测方法，包括步骤：预先根据在掩膜层中形成的光掩膜图形的目标特征尺寸计算目标曝光能量；提供掩膜板和半导体基底，在所述掩膜板上具有开口图形，在所述半导体基底上具有光掩膜层；利用小于目标曝光能量的测试曝光能量，透过掩膜板对所述半导体基底上的部分区域光掩膜层曝光；进行显影，形成光掩膜图形；对所述光掩膜图形进行检测。本发明可以对掩膜板上的缺陷进行检测。
掩膜板检测方法

[发明专利]用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组-CN201811344578.3在审
发明人：向旭;洪孟逸 -专利权人：成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组，用于光配向的掩膜板包括至少一个掩膜图形区域，每个掩膜图形区域包括非连续部和位于非连续部两侧的连续部，连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续，连续部包括多个透光部和多个不透光部，透光部和不透光部沿掩膜板的横向交替排列；每个连续部中的透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的不透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合，且不透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合本发明的用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组能够解决由于在不同配向机台上进行光配向而导致的Mura问题。
掩膜板连续部配向不透光部透光掩膜图形掩膜组接续非连续部重合投影机台交替排列

[发明专利]曝光装置及固化膜的形成方法-CN201210448646.7有效
发明人：香川英章;佐野贵之;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-09-28 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置以及固化膜的形成方法，曝光机(44)具备金属制的支撑辊(41)、光源(52)、光掩膜板(56)及掩膜支撑部(57)。支撑辊(41)从背面通过周面(41A)一边支撑一边输送表面形成有固化性膜(27)的支撑薄膜(13)。光源(52)向被支撑辊(41)支撑的支撑薄膜(13)上的固化性膜(27)放出固化光。光掩膜板(56)遮挡固化光。光掩膜板(56)以与支撑辊(41)靠近的方式配置于光源(52)及支撑辊(41)之间，具有向X方向延伸且沿Y方向排列的狭缝(56S)。掩膜支撑部(57)配置于光掩膜板(56)和支撑辊(41)之间，从支撑辊(41)侧支撑光掩膜板(56)。掩膜支撑部(57)与光掩膜板(56)相比，固化光更容易散射。
曝光装置固化形成方法

[发明专利]光刻装置及光刻方法-CN202011568963.3在审
发明人：彭长四;刘晟;高雅琨;石震武 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种光刻装置及光刻方法，能够按照掩膜版的掩膜图形进行光投影方式的无损光刻；该光刻装置包括真空生长室、掩膜板、光路系统、光源；光源、掩膜板、光路系统均位于真空生长室的外部；光源发出的光线经掩膜板和光路系统后，在真空生长室内形成光投影图案，以通过光投影图案对形成在衬底表面的材料进行光刻；光投影图案的形状与掩膜板的掩膜图案的形状一致。
光刻装置方法

[实用新型]光掩膜版用涂胶卡盘-CN201520500799.0有效
发明人：张诚;李伟;李翼;颜春李;徐根;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体，卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件，故当光掩膜版装设于第一凹槽内时，由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。
光掩膜版用涂胶卡盘

[发明专利]光刻掩膜板-CN202310003540.4在审
发明人：张煜;李培生 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-01-03 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻掩膜板。该光刻掩膜板包括掩膜板基体，该掩膜板基体具有第一表面，且第一表面中具有掩膜图形，该掩膜图形用于采用光刻工艺传递至晶圆上；光罩结构，该光罩结构设置于掩膜板基体的具有第一表面的一侧，与第一表面接触的至少部分光罩结构具有电导性，以使光罩结构和部分第一表面构成封闭区域，上述掩膜图形位于封闭区域中的第一表面中。从而使得在静电放电的情况下，静电能够沿着该光罩结构传输至远离掩膜图形的一侧，从而避免了静电对掩膜图形的损害。
光刻掩膜板

[发明专利]掩膜板和光掩膜-CN201310755510.5无效
发明人：服部功 -专利权人：表面清洁技术株式会社
申请日： 2013-10-15 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本发明提供一种能够制造光掩膜的掩膜板，该光掩膜具有有效防止静电击穿的结构。为了实现上述目的，本发明公开了一种掩膜板，其包括掩膜基底、完全覆盖该掩膜基底一面的静电击穿保护膜和形成在该静电击穿保护膜上的遮光膜。该静电击穿保护膜由钛、钽、钛化合物或钽化合物构成。对于曝光波长该静电击穿保护膜的透光率不小于75％。该静电放电保护膜的方块电阻不大于100KΩ／□。
掩膜板光掩膜

[实用新型]一种光束整形装置及激光焊接机-CN202223025393.0有效
发明人：黄柏源;彭信翰;王国安;文锡;王中达 -专利权人：海目星激光科技集团股份有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B23K26/21 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光束整形装置及激光焊接机，光束整形装置包括调整板、掩膜板和安装板。调整板设置第一通光孔，掩膜板设置第二通光孔，光路先后通过调整板和掩膜板，沿光路传递方向，第一通光孔在垂直于光路传递方向的平面上有第一投影，第二通光孔在垂直于光路传递方向的平面上有第二投影，第二投影位于第一投影内部，且掩膜板连接于调整板，调整板面对掩膜板的表面平行于掩膜板面对调整板的表面。安装板垂直连接调整板背离掩膜板的表面。本实用新型通过设置安装板，抑制调整板在工作过程中的形变，进一步抑制掩膜板在工作过程中的形变，从而提高了激光焊接机的加工精度。
一种光束整形装置激光焊接机

[实用新型]一种光掩膜板用立式手推车-CN202221729598.4有效
发明人：王炫铭 -专利权人：苏州安田丰科技有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B62B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜板用立式手推车，包括手推车本体，所述手推车本体上设置有板件夹紧机构，所述板件夹紧机构包括底座、以及设置于底座两端的夹紧调节装置，所述夹紧调节装置与所述底座的端部铰连接；所述底座上偏向两端部的位置均设置有固定座，所述固定座上设置有V型轮，所述V型轮配合底座两端的夹紧调节装置将立式摆放的光掩膜板夹紧定位；所述底座的中间位置设置有直线轴承座，所述底座的底部设置有支撑杆。本实用新型中通过将光掩膜板竖立着放置在底座上的V型轮上，接着通过调整夹紧调节装置的角度，使底座两端的夹紧调节机构上的V型轮将光掩膜板夹紧固定，保证光掩膜板运输过程中的稳定性。
一种光掩膜板用立式手推车

[实用新型]一种光掩膜板自动斜靠翻转车-CN202222158552.8有效
发明人：王伟;王炫铭;王静 -专利权人：苏州安田丰科技有限公司
申请日： 2022-08-16 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B62B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜板自动斜靠翻转车，包括翻转车本体，所述翻转车本体上设置有剪叉式升降组件，所述剪叉式升降组件的顶部设置有安装板，所述安装板与所述翻转车本体之间沿着安装板的边缘设置有一圈风琴防护罩，所述安装板上设置有翻转机构。本实用新型可用于光掩膜板的上下接料，通过翻转机构可以将不同尺寸的光掩膜板限位固定，并能翻转一定角度，便于光掩膜板上下料，中间都无需人工对光掩膜板进行搬运，可以极大降低工人的劳动强度，而且也无需担心对光掩膜板造成破损，也有效提高了光掩膜板的搬运效率。
一种光掩膜板自动斜靠翻转车

[发明专利]一种激光焊接机及焊接方法-CN202211423472.9在审
发明人：彭信翰;黄柏源;方涵;文锡;李康为 -专利权人：海目星激光科技集团股份有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B23K26/066 文献下载
摘要：本发明提供一种激光焊接机，该激光焊接机包括调整板、掩膜板和固定板。调整板设置第一通光孔，掩膜板设置第二通光孔，光路先后通过调整板和掩膜板，沿光路传递方向，第一通光孔在垂直于光路传递方向的平面上有第一投影，第二通光孔在垂直于光路传递方向的平面上有第二投影，第二投影位于第一投影内部，且掩膜板连接于调整板，调整板面对掩膜板的表面平行于掩膜板面对调整板的表面，固定板沿厚度方向的截面为矩形，固定板设置条形孔，条形孔沿固定板长度方向开口，固定板连接调整板和掩膜板。
一种激光焊接机焊接方法

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