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[实用新型]纳米压印用匀胶铬版压模-CN201420393023.9有效
发明人：李伟;周志刚;李翼;陈社城 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2014-07-16 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种纳米压印用匀胶铬版压模，包括基板、含铬层和胶层，含铬层设置于基板的顶面上；胶层设置于含铬层的顶面上；含铬层和胶层的两端侧壁对齐；含铬层的厚度为100～200nm。本实用新型提供的纳米压印用匀胶铬版压模中含铬层厚度为100～200nm，能使其适于纳米压印，提高所制得初始压模的图形准确性，减少图形变形的发生。
纳米压印用匀胶铬版压模

[发明专利]光掩膜基板胶膜层及铬膜层的返工方法-CN201410388945.5在审
发明人：徐根;周志刚;陈社城 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2014-08-08 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜基板胶膜层及铬膜层的返工方法。所述光掩膜基板胶膜层的返工方法包括：将待返工的光掩膜基板置于质量百分比为4％～10％的氢氧化钠溶液中浸泡多次，去除所述光掩膜基板的胶膜层；用纯水漂洗已去除胶膜层的光掩膜基板；用异丙醇胺溶液漂洗经纯水漂洗后的光掩膜基板；采用异丙醇胺蒸汽进行干燥，所述异丙醇胺蒸汽温度控制在45～70℃。所述光掩膜基板铬膜层的返工方法包括：将待返工的光掩膜基板置于质量百分比为4％～10％的氢氧化钠溶液中浸泡多次，去除所述光掩膜基板的胶膜层；用纯水漂洗已去除胶膜层的光掩膜基板；将所述光掩膜基板放入设定配比的硝酸铈铵和纯水的混合溶液中浸泡，去除所述光掩膜基板的铬膜层。
光掩膜基板胶膜铬膜层返工方法

[实用新型]基片的夹取装置-CN201220402417.7有效
发明人：丁峰;陈社城 -专利权人：湖南电子信息产业集团有限公司;湖南普照信息材料有限公司
申请日： 2012-08-14 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： B25B5/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种基片的夹取装置。夹取装置包括：本体，本体包括第一本体和第二本体，第一本体与第二本体可活动地连接；第一本体与第二本体间形成用于夹紧基片的夹紧空间；调节部，调节部的两端分别与第一本体和第二本体固定连接，调节部的长度可调，用于调节第一本体与第二本体之间的夹紧空间的大小。本实用新型中的夹取装置通过调节部调节第一本体和第二本体间的夹紧空间的大小，来实现对基片的夹取和放置。由于本实用新型采用夹取装置夹取基片，不仅解决了基片被污染的问题，还能可靠的夹取基片，减少了基片脱落而造成损坏的情况。
装置

[发明专利]铬版表面膜层微小缺陷针孔的检测方法-CN200810107562.0无效
发明人： 陈社城;丁峰 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司
申请日： 2008-12-23 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种铬版表面膜层微小缺陷针孔的检测方法，该方法包括如下步骤：建立标准样图；确定待测铬版的有效区；用智能工业摄像机以微米级精度准确移动并逐一连续不断地拍摄到所述有效区的每个部分；用智能工业摄像机将图片分成以每8平方毫米不少于200万像素，并将每份像素分成256个亮度等级，得到高精度拍摄图片；将所获得的高精度拍摄图片与标准样图进行比较；对在测铬版的缺陷位置、个数、大小予以显示。本发明这种检测方法速度相当快，并且没有人眼视觉误差，非常准确并且对铬版没有污染，适用于大面积铬版表面膜层微小缺陷的检测。
表面微小缺陷针孔检测方法