专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光设备-CN201280012652.6有效
  • 克里斯蒂安·盖特纳;阿莱斯·马尔基坦;扬·马费尔德 - 欧司朗光电半导体有限公司
  • 2012-03-08 - 2013-12-11 - H01L25/075
  • 提出一种发光设备,所述发光设备具有:至少一个第一发半导体器件(1),所述第一发半导体器件在运行中放射红光;至少一个第二发半导体器件(2),所述第二发半导体器件具有波长转换元件;以及至少一个第三发半导体器件(3),所述第三发半导体器件具有波长转换元件,其中第二发半导体器件和第三发半导体器件(2,3)分别放射蓝色的初级光和转换的次级并且第二发半导体器件和第三发半导体器件(2,3)的初级光和次级的相应的叠加具有不同的色度坐标
  • 发光设备
  • [发明专利]半导体装置-CN202080106047.X在审
  • 永尾龙介;望月敬太;柳乐崇 - 三菱电机株式会社
  • 2020-11-24 - 2023-06-27 - H01S5/14
  • 本公开所涉及的半导体装置具备:半导体基板;至少一个半导体激光器,设置于半导体基板;光合分波回路,设置于半导体基板,对半导体激光器的第一输出进行合波或分波,并输出第二输出光和第三输出;第一导波部,设置于半导体基板,从半导体基板的端面输出第二输出;以及第二导波部,具有放大第三输出放大器和反射部,并设置于半导体基板,反射部具有衍射光栅,该衍射光栅反射由放大器放大后的第三输出,并经由放大器和光合分波回路反馈到半导体激光器,半导体激光器和反射部形成谐振器。
  • 半导体装置
  • [发明专利]显示体和半导体元件密封用片-CN202310290325.7在审
  • 长束尚辉;仲野武史;浅井量子;田中俊平;植野大树 - 日东电工株式会社
  • 2023-03-23 - 2023-09-26 - H01L27/15
  • 显示体(1)具备基板(2)、配置在基板上的多个半导体元件(3a)~半导体元件(3c)、以及将多个半导体元件(3a)~半导体元件(3c)密封的密封树脂层(4)。密封树脂层从半导体元件(3a)~半导体元件(3c)侧起依次包含着色层(41)和非着色层(42)。在通过半导体元件(3a)的重心(GA)和与半导体元件(3a)在同一像素(3)内相邻的半导体元件(3b)的重心(GB)的、相对于基板表面而言的垂直面剖面中,着色层的位于半导体元件(3a)的正面侧的部分的截面积(S1)小于着色层的位于半导体元件(3a)与半导体元件(3b)之间的部分的截面积(S2)。
  • 显示半导体元件密封
  • [实用新型]高亮度超薄半导体器件-CN200420030046.X无效
  • 陈洪花 - 陈洪花
  • 2004-01-08 - 2005-03-02 - H01L33/00
  • 一种高亮度超薄半导体器件,它包括半导体芯片和两条连接该半导体芯片的金线以及封装半导体芯片的透光还氧树脂罩,其特征是:在半导体芯片的下部设有由正极引线框架和负极引线框架构成的引线框架,两条连接半导体芯片的金线分别与正、负极引线框架相连,半导体芯片通过绝缘透明胶与设在负极引线框架上的芯片座垫相连。与现有技术相比大大提高了半导体器件的发光亮度;使器件受热冲击带来的应力最小化,并实现了半导体器件的超薄型化。
  • 亮度超薄半导体器件
  • [实用新型]半导体装置-CN201220025472.9有效
  • 土居芳行;村本好史;大山贵晴 - NTT电子股份有限公司;日本电信电话株式会社
  • 2012-01-19 - 2013-03-20 - H01L31/10
  • 本实用新型提供一种半导体装置,该半导体装置包括:导电性半导体衬底、在上述导电性半导体衬底上形成的光吸收层、和在上述光吸收层上形成的导电性半导体层,其特征在于:上述导电性半导体层通过具有多个与上述导电性半导体衬底相反的导电类型的扩散区,而在上述半导体装置中形成阵列状的接收元件;在上述导电性半导体衬底的底部具有镜面状的薄膜。该半导体装置充分降低了接收元件间的串扰、小型且简单,并且可以容易地抑制对相邻的接收元件的串扰,减少半导体装置的光强度检测时的误差外,减小背面上的接触电阻,改善串扰,保护半导体元件免受外部环境影响
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体集成元件-CN202080013809.1在审
  • 西田昌义;石井启之;铃木理仁 - 古河电气工业株式会社
  • 2020-02-07 - 2021-09-21 - H01S5/026
  • 本发明的目的在于,提供一种能够抑制来自半导体放大器等正向偏置元件的漏电流向反射镜的流入,并防止谱线宽度的宽大化的半导体集成元件。半导体集成元件是在半导体基板的上表面单片集成有正向偏置元件和半导体激光器的半导体集成元件,具备:无源波导部,其配置于所述正向偏置元件与所述半导体激光器之间;以及接地电极,其配置于所述半导体基板的下表面,所述半导体激光器在所述正向偏置元件侧具有具有长度的反射镜,所述正向偏置元件在与所述半导体基板相接的一侧的相反侧具有正向偏置元件电极,所述无源波导部在与所述半导体基板相接的一侧的相反侧具有无源波导电极
  • 半导体集成元件
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201010504391.2无效
  • 刘巍 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2010-10-12 - 2011-06-15 - H01L27/04
  • 本发明提供一种半导体器件,其包括:具有器件区域和电器件区域的半导体衬底;刻蚀该器件区域形成的导层;形成于该导层下方的半导体衬底中的第一氧化层;覆盖该导层表面的第三氧化层。本发明还提供了制造半导体器件的方法:提供半导体衬底,该半导体衬底包括器件区域和电器件区域,刻蚀器件区域形成导层;然后在导层的表面形成第二氧化层,再利用湿法刻蚀的方式去除第二氧化层;形成覆盖导层表面的第三氧化层;最后在半导体衬底中注入氧离子,以在导层下方的半导体衬底中形成第一氧化层。根据该半导体器件及其制造方法,避免半导体器件发生光泄漏现象,并可使在同一块半导体器件上集成器件基板和电器件基板更为便利。
  • 半导体器件及其制造方法

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