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[发明专利]气体供给装置、气体供给方法-CN201710757592.5有效
发明人：高梨启一;石桥昌幸 -专利权人：胜高股份有限公司
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种能够轻松地且低成本地将气相生长用气体设定为所希望的浓度的气体供给装置及气体供给方法。运算部具备如下控制程序，即至少参考从所述气相生长装置输出的所述混合气体的流量设定值信号，以被导入到所述气相生长装置的所述原料气体的质量变得恒定的方式根据所述混合气体的浓度而运算导入到所述气相生长装置的所述混合气体的流量来获取第1运算结果，并根据该第1运算结果控制所述第1质量流量控制器，在控制所述第1质量流量控制器之后，以所述混合气体流量及所述稀释气体流量的合计流量变得恒定的方式从所述第1运算结果运算所述稀释气体的流量来获取第
气体供给装置方法

[发明专利]气体供给装置和气体供给方法-CN201980075623.6在审
发明人：林裕之;太田龙作 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：【技术问题】在使气体供给通路的下游侧分支来对处理容器供给气体时，能够以简单结构防止气体从气体供给通路泄露。【技术手段】一种气体供给装置，其包括：对处理容器内进行排气来形成真空气氛的排气机构；气体供给通路，其包括从气体供给源供给气体的上游侧流路和该上游侧流路的下游侧分支为多个而形成的分别连接到处理容器的多个分支通路；第1阀，其开度可变但不能全闭，为了将供给到上游侧流路的气体向多个分支通路分流而分别设置于该分支通路；第2阀，其设置于上游侧流路，向下游侧供给气体或停止气体供给；检测处理容器内的压力的压力传感器；和异常检测部，其基于检测出的处理容器内的压力，来检测气体供给通路中的第2阀的下游侧的异常。
气体供给装置方法

[发明专利]气体供给装置和气体供给方法-CN202080064090.4在审
发明人：成岛健索;堀田隼史;松本淳志;川口拓哉;木元大寿 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-16 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23C16/14 文献下载
摘要：在向保存基板的处理容器供给处理气体来进行处理的气体供给装置中，具备：原料容器，其收容液体或固体的原料；载气供给部，其用于向所述原料容器内供给载气；气体供给路，其从所述原料容器向所述处理容器供给包含气化后的所述原料和所述载气的处理气体；流量计，其设置于所述气体供给路，以测定所述处理气体的流量；以及被缩窄的流路，其在所述气体供给路中设置于所述流量计的下游侧，以使该气体供给路中的、所述被缩窄的流路与所述流量计之间的压力的平均值上升。
气体供给装置方法

[发明专利]气体供给系统及气体供给方法-CN202310986755.2在审
发明人：泽地淳;纲仓纪彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种为了控制多个气体并执行处理而改进的气体供给系统。气体供给系统具备第1流路、多个第1气体排出孔、第2流路、第2气体排出孔及多个第1隔膜阀。第1流路与第1气体的第1气源连接，且形成于构成处理容器的顶棚的顶棚部件的内部或处理容器的侧壁的内部。多个第1气体排出孔连通第1流路与处理空间。第2流路与第2气体的第2气源连接，且形成于顶棚部件的内部或处理容器的侧壁的内部。第2气体排出孔连通第2流路与处理空间。各第1隔膜阀在第1流路与第1气体排出孔之间与第1气体排出孔对应地设置。
气体供给系统方法

[发明专利]气体供给装置和气体供给方法-CN201780044746.4有效
发明人：青木隆典;三神克己 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2017-07-11 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： F17C9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体供给装置，用于将由液体化合物气化而成的气体化合物供给到目标场所，具有存储容器、气体化合物供给配管和温度控制装置，所述存储容器能够容纳所述液体化合物，所述气体化合物供给配管的一端与所述存储容器连接，另一端能够配置在所述目标场所，所述温度控制装置用于将所述存储容器内的所述气体化合物或液体化合物的温度控制在所述气体化合物供给配管的周围环境的温度以下。
气体供给装置方法

[发明专利]气体供给装置和气体供给方法-CN201710655290.7有效
发明人：大仓成幸;布重裕 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-03 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明在防止成膜时原料气体所需的流量增大的同时，提高用于置换处理容器(11)内的气氛的置换气体的流量。气体供给装置包括：分别对处理容器内供给原料气体、反应气体的原料气体流路(41)、反应气体流路(61)；与原料气体流路和反应气体流路分别连接的第一载气流路(51)和第二载气流路(71)；置换气体流路(45)，其经由与设置在第一载气流路和第二载气流路中的载气的供给控制装置不同的另外的供给控制装置，对处理容器内供给置换气体；设置在置换气体流路(45、65)中，储存置换气体的储气部(46、66)；在置换气体流路中设置于储气部的下游侧的阀
气体供给装置方法

[发明专利]气体供给单元以及气体供给方法-CN202010115771.0有效
发明人：稲垣竹矢 -专利权人： CKD株式会社
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明实现一种能缩短冷却时间、从而缩短半导体制造装置的工艺时间的气体供给单元。本发明的气体供给单元(1)中，在将控制在第1温度的第1气体经由上部设备(13)供给到腔室(5)之后要将开始化学反应的反应开始温度比第1温度低的第2气体经由上部设备(13)供给至腔室(5)的情况下，在将清洁气体经由上部设备(13)供给至腔室5之前从冷却板构件(3)对形成于基座板(10)与上部设备(13)之间的空间部(S)供给冷却空气，将上部设备(13)冷却至反应开始温度以下。
气体供给单元以及方法

[发明专利]气体供给系统及气体供给方法-CN201811294307.1有效
发明人：泽地淳;纲仓纪彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种为了控制多个气体并执行处理而改进的气体供给系统。气体供给系统具备第1流路、多个第1气体排出孔、第2流路、第2气体排出孔及多个第1隔膜阀。第1流路与第1气体的第1气源连接，且形成于构成处理容器的顶棚的顶棚部件的内部或处理容器的侧壁的内部。多个第1气体排出孔连通第1流路与处理空间。第2流路与第2气体的第2气源连接，且形成于顶棚部件的内部或处理容器的侧壁的内部。第2气体排出孔连通第2流路与处理空间。各第1隔膜阀在第1流路与第1气体排出孔之间与第1气体排出孔对应地设置。
气体供给系统方法

[发明专利]气体供给方法及气体供给装置-CN201280063506.6有效
发明人：名仓见治;高木一 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2012-12-05 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： F17C5/06 文献下载
摘要：能够在使压缩机小型化的同时使蓄压器的设计压力降低的气体填充装置（1）具备压缩机（4）和蓄压器（5），预先根据罐（3）的容积确定填充压力与目标流量的关系，检测填充压力并确定目标流量，按照目标流量来控制向罐（3）内供给的气体的流量，在目标流量是压缩机（4）的最大排出量以下的情况下，仅从压缩机（4）向罐（3）供给气体，在目标流量大于最大排出量的情况下，从压缩机（4）和蓄压器（5）向罐（3）供给气体。
气体供给方法装置

[发明专利]气体供给单元和气体供给系统-CN200680054549.2有效
发明人：守谷修司;长冈秀树;冈部庸之;板藤宽;土居广树;伊藤稔 -专利权人：喜开理株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-06-02 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： F16L41/02 文献下载
摘要：小型、经济的气体供给单元和气体供给系统。气体供给单元(11A)安装在工作气体输送管路上，并且具有通过流路模块(12-17)连通且控制工作气体的流体控制装置(2-6，9)。气体供给单元具有第一流路模块(14)，包括在流体控制装置内的入口开关阀(4)固定至其一侧，且气体供给单元还具有第二流路模块(17)，包括在流体控制装置内的净化阀(9)固定至其一侧。第一流路模块(14)和第二流路模块(17)在垂直于工作气体的输送方向的方向上层叠。入口开关阀(4)和净化阀(9)设置在质量流控制器(5)和安装表面之间，其中所述质量流控制器(5)安装在工作气体输送管路上，单元(11A)安装在所述安装表面内。
气体供给单元系统

[发明专利]气体供给方法和气体供给装置-CN200880009952.2无效
发明人：原正道;五味淳;横山敦;田中利昌;前川伸次;多贺敏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-03-26 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种气体供给方法，其用于将原料气体供给至消耗区域，该原料气体通过对原料容器内的固体原料进行加热并使其气化而得到，该气体供给方法的特征在于，包括：工序(a)，使载气在与消耗区域连通的处理气体供给路内流通，同时测定该处理气体供给路内的气体压力；工序(b)，对上述原料容器内的固体原料进行加热，产生原料气体；工序(c)，将与上述工序(a)相同流量的载气供给至上述原料容器内，使上述原料气体与该载气一起在上述处理气体供给路内流通，同时测定该处理气体供给路内的气体压力；和工序(d)，根据在上述工序(a)中取得的压力测定值、在上述工序(c)中取得的压力测定值和载气流量，计算上述原料气体的流量。
气体供给方法装置

[发明专利]气体供给系统、气体供给控制方法和气体置换方法-CN201610437677.0有效
发明人：泽地淳;网仓纪彦;佐藤好保 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-06-17 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一个实施例中的气体供给系统具有构成气体供给系统的多个构成部件和用于配置多个构成部件的基座(212)。
气体供给系统控制方法置换

[发明专利]气体供给系统、气体供给系统的控制方法-CN202010730351.3在审
发明人：小宫健嗣 -专利权人：丰田自动车株式会社
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： H01M8/04089 文献下载
摘要：本发明的气体供给系统具备：多个高压罐，至少长度方向的长度不同；多个供给管，与多个高压罐分别连接；供给侧集合部，连接有多个供给管；多个电磁阀，分别配置于多个供给管；第一压力传感器，取得关于多个高压罐的内压的压力；第二压力传感器，取得供给侧集合部中的压力；以及控制装置，在气体供给系统的启动时，在从第一压力传感器检测到的压力中减去第二压力传感器检测到的压力而得的值大于阈值的情况下，使与长度方向的长度相对于宽度方向的宽度的比率最大的高压罐对应的电磁阀首先开阀
气体供给系统控制方法

[发明专利]原料气体供给系统和原料气体供给方法-CN202080058420.9在审
发明人：冈部庸之;大仓成幸;小森荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：一种原料气体供给系统，其将使固体原料气化而生成的原料气体向处理装置供给，其中，该原料气体供给系统包括：气化装置，其使所述固体原料气化而生成所述原料气体；送出机构，其从供在溶剂中溶解有所述固体原料的溶液贮存的溶液源向所述气化装置送出所述溶液
原料气体供给系统方法

[发明专利]原料气体供给系统和原料气体供给方法-CN202080063295.0在审
发明人：冈部庸之;大仓成幸;小森荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： C23C16/06 文献下载
摘要：本发明为一种对处理装置供给原料气体的原料气体供给系统，所述原料气体是通过将固体原料气化来生成的，所述原料气体供给系统包括：将所述固体原料气化来生成所述原料气体的气化装置；送出机构，其从贮存有分散系的贮存容器向所述气化装置送出所述分散系
原料气体供给系统方法

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