专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201880087065.0在审
  • 东克荣;菅原雄二;竹松佑介;石川友也 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-12-21 - 2020-09-04 - H01L21/304
  • 基板处理方法,其是向形成有图案的基板表面供给药液而对基板进行处理的方法,所述基板处理方法包括:基板保持工序,对基板进行保持;药液供给工序,向基板的至少前述表面供给前述药液;导电性液体供给工序,在前述药液供给工序之前,为了对基板进行除,向基板的前述表面供给导电性比前述药液导电性液体;以及高导电性液体供给工序,在前述导电性液体供给工序之前,为了对基板进行除,不向基板的前述表面而向基板中与前述表面相反侧的背面供给导电性低于前述药液且高于前述导电性液体的高导电性液体
  • 处理方法装置
  • [实用新型]损耗小的全氟烯醚共聚物柔性覆铜板-CN202122934449.3有效
  • 季荣梅;曹小进;陈佳伟;何亚祥 - 深圳市鑫荣进绝缘材料有限公司
  • 2021-11-26 - 2022-05-10 - B32B15/20
  • 本实用新型提供介损耗小的全氟烯醚共聚物柔性覆铜板,涉及覆铜板技术领域,包括基板,所述基板的上表面均涂覆有高分子层,所述铜箔层压板的内部固定连接有导热杆,所述导热杆的底端依次贯穿铜箔层压板、固化板和基板,所述基板的下表面胶合连接有导热片,所述铜箔层压板靠近导热杆的上表面胶合连接有热辐射贴片。本实用新型基板工作时产生的大量热量通过导热杆进行传递,通过覆铜板表面的热辐射贴片将热量散发出去,提高覆铜板散热的效果,进而减少内部基板材质受热变形甚至损坏的现象;同时高分子层原料为为乳胶液,使用少量的高分子材料达到高频材料所需的传输损耗小的要求。
  • 损耗全氟烯醚共聚物柔性铜板
  • [实用新型]芯片封装体-CN200520130020.7无效
  • 李胜源 - 威盛电子股份有限公司
  • 2005-10-28 - 2007-03-21 - H01L23/488
  • 本实用新型是有关于一种芯片封装体,包括一封装基板、一芯片与至少一埋入式电感元件。其中,封装基板具有多数个图案化导电层、至少一绝缘层与多数个导电孔道,绝缘层配置于相邻这些图案化导电层之间,且这些图案化导电层之二是藉由这些导电孔道之一而相互性连接。此外,芯片配置于封装基板上,且与封装基板性连接。另外,埋入式电感元件包括一导电螺旋结构与至少一系数区。其中低介系数区配置于绝缘层中,系数区与导电螺旋结构相邻,且系数区的介系数小于绝缘层的介系数。
  • 芯片封装
  • [发明专利]原位介电常数加盖以改良整合损坏抗性-CN201180057643.4无效
  • K·S·伊姆;J·徐;S·恩戈;A·T·迪莫斯 - 应用材料公司
  • 2011-11-28 - 2013-08-07 - H01L21/31
  • 本发明提供一种用于形成包括气隙的k介层的方法及装置。在一个实施例中,提供一种处理基板的方法。该方法包含:将基板安置在处理区域内;在存在等离子体的情况下,将有机硅化合物与氧化气体以及提供致孔剂的前驱物反应,以将包含硅、氧及碳的含致孔剂的k介层沉积在基板上;将包含硅、氧及碳的多孔介加盖层沉积在含致孔剂的k介层上;以及紫外线(UV)固化含致孔剂的k介层及多孔介加盖层,以经由多孔介加盖层从含致孔剂的k介层中移除致孔剂的至少一部分,以将含致孔剂的k介层转化为具有气隙的多孔k介层。
  • 原位介电常数加盖改良整合损坏抗性

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