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- [发明专利]镀金铜钯合金单晶键合丝及其制造方法-CN201310081430.6无效
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徐云管;彭庶瑶;梁建华
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江西蓝微电子科技有限公司
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2013-03-14
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2013-07-10
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H01L23/49
- 本发明公开了一种镀金铜钯合金单晶键合丝及其制造方法,镀金铜钯合金单晶键合丝的基体材料由下列重量百分比的原材料组成:金(Au):4%—8%、钯(Pa):0.03%—0.08%、钙(Ca):0.0001%—0.0003%、混合型稀土(Re):0.0002%—0.0008%,其余为铜。其制造方法包括:提取纯度大于99.9995%的高纯铜,制备成铜合金铸锭,再制备成铜钯合金铸态单晶母线,经粗拔和热处理后,在其表面镀金,再经精拔、热处理、表面清洗、分卷定尺。本产品可以有效提升键合丝的抗氧化性能,使其抗氧化性与键合金丝相当,大大延长键合丝产品拆封后的保质期;内部加入钯、钙、稀土等元素使得该产品比其它方式生产的同类型产品机械强度更高,有利于进一步缩小键合丝的线径
- 镀金合金单晶键合丝及其制造方法
- [发明专利]铜铜键合材料的制备方法及其应用-CN202010639826.8在审
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胡斌
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苏州清飙科技有限公司
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2020-07-06
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2020-09-01
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C25D3/56
- 本发明提供一种铜铜键合材料的制备方法及其应用,其中,铜铜键合材料的制备方法包括如下步骤:步骤S1,在至少一个待焊接物的待焊接面设置纳米多孔铜泡沫层;步骤S2,将所述待焊接物的待焊接面相对设置,并实施热压键合,使待焊接的两侧物体之间实现铜铜键合,得到所述铜铜键合材料。根据本发明的制备方法,得到高密度的全铜互连,该铜铜键合中不含任何有机物,不仅具有良好的电气和热力学性能,且即使在相对高温下使用,也不会产生由于有机物挥发导致产生孔洞的问题,由于键合界面两侧都是铜,不会出现因为铜锡扩散系数差异导致铜锡界面的柯肯达尔孔洞
- 铜铜键合材料制备方法及其应用
- [实用新型]半导体分立器件键合机-CN202122601295.6有效
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李健
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江苏东海半导体股份有限公司
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2021-10-27
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2022-03-11
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H01L21/677
- 本实用新型是半导体分立器件键合机,其结构包括输送半导体分立器件铜框架的铜框架料道,铜框架料道两端分别为进料端和出料端,铜框架料道中部侧上方相邻设有2套键合限位机构,对应每套键合限位机构上方分别设一套键合机构,对应每套键合限位机构的铜框架料道另一侧分别设一套带动半导体分立器件铜框架由进料端向出料端方向输送的铜框架输送机构。本实用新型的优点:结构设计合理,两侧键合机构和键合限位机构分别键合对应位置芯片单侧管脚,每次键合完成后两侧铜框架输送机构同时动作向前输送,可有效提高键合效率,提高一倍左右生产速度,有效满足生产需要。
- 半导体分立器件键合机
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