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[发明专利]一种金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的制备方法-CN201110359286.9有效
发明人：任豪;曾群;刘颂豪;张庆茂 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2011-11-12 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： C30B29/28 文献下载
摘要：本发明公开一种金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的制备方法。所述方法包括如下步骤：按照比例将金属离子掺杂的钇铝石榴石的原料粉末压制成沉积镀膜用的坯体，采用电子束蒸发沉积工艺，电子枪产生电子束聚焦射入坯体，控制电子束自动扫描均匀加热预熔坯体，使坯体初步烧结结晶成瓷，随后加大电子枪功率进一步加热坯体，使其熔融并蒸发沉积在衬底基片上形成薄膜，再将薄膜在真空或保护气氛下进行退火处理，最终制备获得有效结晶的金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜。本方法可实现金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的高质量、低成本、大面积批量生产，制得的金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜可用作新型的光波导材料、激光工作物质和功能薄膜材料。
一种金属离子掺杂石榴石晶体薄膜制备方法

[发明专利]用于钢表面腐蚀防护处理的湿碰湿方法和无铬的酸性溶液-CN200680045555.1有效
发明人：斯特凡·弗雷;索菲·科嫩;弗朗茨－阿道夫·齐卡;帕特里克·德罗尼乌;西尔维娅·霍哈根;彼得·屈姆;延斯·克勒姆 -专利权人：汉高两合股份公司
申请日： 2006-12-06 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： C23C22/34 文献下载
摘要：至少部分是钢表面的有光泽的金属表面的防腐蚀处理方法，其中将所述金属表面与至少一种选自B、Si、Ti、Zr和Hf的金属M的氟络合物的酸性水溶液相接触，用水冲洗和然后用可阴极沉积的电沉积涂料涂覆，其中：a)所述水溶液包含不超过1mg/l的具有烯丙基胺或乙烯基胺单体的有机聚合物，b)所述水溶液另外包括至少一种其它组分，该其它组分选自：硝酸根离子、铜离子、银离子、钒或钒酸根离子、铋离子、镁离子、锌离子、锰离子、钴离子、镍离子、锡离子、pH范围为2.5－5.5的缓冲体系、具有至少两个包含给电子原子的基团的芳香族羧酸、具有平均尺寸小于1μm的二氧化硅颗粒，和c)在用所述电沉积涂料涂覆之前，所述金属表面不被干燥；至少一种选自B、Si、Ti、Zr和Hf的元素M的氟络合物的酸性、无铬水溶液，其具有的pH范围为2－5.5，用于处理金属表面，还包括一种或多种组分，该组分选自：锡离子、铋离子、pH范围为2.5－5.5的缓冲体系
用于表面腐蚀防护处理湿碰湿方法酸性溶液

[发明专利]一种低温电解直接制备铝箔的方法-CN201610217913.8在审
发明人：涂贤能;张锁江;郎海燕;石朝辉;高洁;蔡迎军;张军玲 -专利权人：中国科学院过程工程研究所
申请日： 2016-04-08 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： C25D1/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种在离子液体介质中低温下直接电解制备铝箔的方法，不仅解决了离子液体电沉积金属铝存在的沉积致密层难以剥脱的难题，也为铝箔的电化学制备提供了一条新的路径。本方法重要创新是利用金属铝在碳阴极上较高的成核过电位形成致密沉积层，同时金属铝与碳材料晶格匹配性较差，使得阴极表面的致密铝箔易于剥脱。本发明以低温离子液体为电解液，以表面光滑的碳材料为阴极，利用离子液体熔点低、不易挥发的特性，在25～100℃的低温范围内成功制备了金属铝箔。本发明在低温电解金属铝及铝箔制备方面具有很好的应用前景。
一种低温电解直接制备铝箔方法

[发明专利]一种锂离子电池用硅基负极的制备方法-CN201611028305.9在审
发明人：刘伟华;肖伟;张开悦;刘建国;严川伟 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： H01M4/1395 文献下载
摘要：本发明涉及锂离子电池负极制备领域，特别是一种锂离子电池用硅基负极的制备方法，解决目前硅基材料作为锂离子电池负极材料，在嵌Li和脱Li过程中体积发生较大变化导致活性材料内部破坏及与集流体分离导致电池循环寿命低的问题采用多孔金属、表面粗化处理的金属网或表面粗糙处理的金属箔为集流体，增加活性物质与集流体的接触面积及结合力，并为活性物质体积膨胀提供缓冲空间；采用物理气相沉积的方法在集流体表面共沉积不同比例的硅—金属合金活性物质，在硅—金属合金活性物质表面采用物理气相沉积一层完整的碳材料保护层，形成锂离子电池用硅基负极。
锂离子电池用硅基负极活性物质集流体制备物理气相沉积金属合金锂离子电池负极材料锂离子电池负极表面粗糙处理表面粗化处理电池循环寿命活性物质表面电池一致性集流体表面多孔金属硅基材料环境影响缓冲空间活性材料人为影响体积膨胀保护层大变化共沉积结合力金属箔金属网碳材料锂电池

[发明专利]离子束增强磁控溅射渗镀涂层装置及工艺-CN02110192.2无效
发明人：唐宾;潘俊德;徐重;田林海 -专利权人：太原理工大学
申请日： 2002-03-20 - 公布日： 2003-03-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明离子束增强磁控溅射渗镀涂层装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴。是一种非平衡磁控溅射和离子注入相结合的技术，在非平衡磁控溅射镀膜的装置中，加入一个中低能束离子源，从磁控溅射源发射出欲渗镀的金属及其合金的高能量、高离化率的金属离子流，在工件负偏压下的吸引下，快速沉积于预加热的工件表面，然后由中低能离子束注入氮和碳，使其沉积层与工件基体形成一定厚度的扩散层，在较低温度工件表面快速形成金属碳、氮化合物的表面改性层。
离子束增强磁控溅射涂层装置工艺

[发明专利]一种管状材料内表面进行MPCVD的方法及装置-CN201910892374.1在审
发明人：满卫东 -专利权人：武汉工程大学
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： C23C16/517 文献下载
摘要：方法包括：将管状材料放置于微波等离子体基片台上；将一根金属丝沿管状材料中轴线方向穿过管状材料，所述金属丝上绑缚有金属尖端；打开微波等离子体化学气相沉积装置，在管状材料内表面进行沉积镀膜。装置包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应室，所述等离子体反应室内设有一自旋转基片台，所述自旋转基片台用于放置管状材料，所述等离子反应室还包括用陶瓷支撑物，所述陶瓷支撑物上支撑有金属丝，所述金属丝能够沿管状材料中轴线方向穿过管状材料，所述金属丝表面绑缚有金属尖端。
管状材料金属丝金属尖端陶瓷支撑旋转基片内表面中轴线镀膜微波等离子体化学气相沉积等离子体反应室等离子反应室等离子体反应微波等离子体金属丝表面穿过供气系统均匀镀膜微波系统真空系统上支撑沉积能耗室内

[发明专利]在保持沸石酸度的同时制备整体式催化剂的方法及由其制备的催化剂-CN201280027156.8无效
发明人： H·S·拉驰恩;R·J·萨克斯顿 -专利权人：雪佛龙美国公司
申请日： 2012-06-28 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B01J37/08 文献下载
摘要：本发明公开了制备包括过渡金属组分和沸石组分的催化剂的方法。在一些实施方案中，所述过渡金属在前体溶液中沉积到沸石挤出物上以形成中间整体式催化剂，其中，在所述沉积之前，所述沸石已经与保护阳离子进行了初始离子交换，所述保护阳离子与所述沸石的质子交换。将所述中间整体式催化剂加热以使所述过渡金属分解，且接着使所述催化剂与离子铵配合物进行二次离子交换，所述离子铵配合物与所述保护阳离子交换。将所得铵处理过的催化剂加热到足以使所述铵配合物分解以形成氨和H+离子的温度。在所得催化剂中的过渡金属以位于所述沸石通道外部的还原的晶体形式。在所述沸石通道内没有发生所述过渡金属的明显离子交换。
保持酸度同时制备整体催化剂方法

[发明专利]在有高纵横比的图案化特征的基板上沉积金属膜的方法-CN202110450415.9在审
发明人：孙昊辰 -专利权人：全立传感科技（南京）有限公司
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C16/48 文献下载
摘要：本发明涉及金属膜沉积技术领域，特别涉及在有高纵横比的图案化特征的基板上沉积金属膜的方法。本发明的方法是采用自下而上沉积工艺，所述的自下而上沉积工艺选自：使用含金属前体的气体团簇离子束对所述的有高纵横比的图案化特征的基板进行沉积；或采用含金属前体的气体经光诱导化学气相沉积方法对所述的有高纵横比的图案化特征的基板进行沉积本发明的方法消除了与常规PVD和CVD沉积相关的具有悬垂和增加长宽比的问题，可以完成对高纵横比的精细半导体器件结构的自下而上的金属化，实现了无空隙的间隙填充。
纵横图案特征基板上沉积金属膜方法

[发明专利]一种医用高熵合金复合强化层及其制备方法-CN202210119130.1在审
发明人：谭洪;杨纪洁;王成磊;谢映光;梁朝杰;刘伟杰;梁慕林 -专利权人：桂林医学院附属医院;桂林电子科技大学
申请日： 2022-02-08 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：该高熵合金复合强化层是通过等离子固态表面冶金技术沉积于金属基材表面的高熵合金沉积层，制备方法：将金属基材和高熵合金源极靶材置于等离子固态表面冶金设备中；通过等离子固态表面冶金设备将高熵合金源极靶材通过固态表面冶金步骤渗镀沉积于所述金属基材的表面形成高熵合金沉积层本发明所提供的一种医用高熵合金复合强化层及其制备方法，利用等离子固态表面冶金技术的结合力强、表面改性效率高、成本低、可适应各种复杂工件形状等技术优势，提高医用植入体材料的耐磨性、耐腐蚀性、稳定性和生物相容性
一种医用合金复合强化及其制备方法

[发明专利]一种快充石墨复合材料及其制备方法-CN202211065734.9在审
发明人：裴国军;王福寿;王福国;王福山;裴成勇 -专利权人：新疆天宏基科技有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：一种快充石墨复合材料的制备方法，包括：(1)将稀土化合物、分散剂和金属偶联剂分散到有机溶剂中后，添加石墨，分散均匀，再添加碱性溶液进行共沉积反应，过滤、干燥、碳化，得石墨前驱体材料；(2)以所述的石墨前驱体材料为衬底，快离子导体/稀土化合物/导电剂复合体为靶材，通过原子气相沉积法，将所述的靶材包覆在所述的衬底上。本发明所述的一种快充石墨复合材料的制备方法，利用掺杂稀土金属扩充了石墨的层间距，提升锂离子的脱嵌速率，同时共沉积法可以在石墨表面可以实现均匀的金属掺杂，并利用原子气相沉积法在其外层包覆锂离子导电率高的快离子导体提升材料的快充性能及其循环性能
一种石墨复合材料及其制备方法

[发明专利]以1,2-二氯乙烷为添加剂的离子液体中电沉积金属锌的方法-CN201810318541.7有效
发明人：吴新虎;周尉;成旦红 -专利权人：上海大学
申请日： 2018-04-11 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： C25D3/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种以1,2‑二氯乙烷为添加剂的离子液体中电沉积金属锌的方法。本发明首先将四氟硼酸锌加入到1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐中，之后真空加热除水，然后将1,2‑二氯乙烷加入到除去水杂质的溶液中，组成电镀液；S2、电沉积反应的实施，取出阴极，先用丙酮洗，乙醇洗，然后吹干，得到金属锌。本发明采用1,2‑二氯乙烷作为添加剂，添加到离子液体中。可以大大的改善金属锌在离子液体中的形貌，使得锌沉积的形貌变得光滑平整，使得锌沉积的含量增加。此外选择离子液体1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐的原因是，在室温下其具有很宽的电化学窗口、优良的导电性及较低的粘度。镀液组成简单且易于控制。
二氯乙烷添加剂离子液体沉积金属方法

[发明专利]超临界条件下制备功能复合材料的装置及方法-CN201910141774.9有效
发明人：雷卫宁;邓瑶;张文杰;王剑桥;彭勇 -专利权人：江苏理工学院
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：；反应釜组件包括反应釜本体、釜盖及夹具、底座及磁力搅拌装置；进给系统包括储液箱、进液管、电动阀门、高压泵、背压阀、止回阀、控制器等；抽取系统包括电动阀门、高压泵、背压阀、止回阀、储液箱、出液管、底阀、离子浓度计和控制器加工方法主要包括基层金属离子电沉积、抽取反应釜中的反应剩余液体、添加二层沉积金属离子溶液、外层金属离子电沉积等步骤。利用该装置可在基板上实现多层材料的复合梯镀，亦可用于实现在高温高压反应条件下对釜内溶液的实时添加、监测与取样，扩展了超临界电沉积的使用范围。
临界条件下制备功能复合材料装置方法

[发明专利]一种基于离子交换玻璃基底薄膜沉积方法-CN201910534672.3在审
发明人：张文杰;赵志敏;刘振鲁;李琳 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： C03C21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于离子交换玻璃基底薄膜沉积方法，包括如下步骤：(1)将含有钠离子的碱硅酸盐玻璃浸入含有钾离子的碱金属熔融盐中，进行离子交换处理；(2)将离子交换后的碱硅酸盐玻璃置于真空镀膜系统中，室温条件下沉积三氧化二铝薄膜阻挡层；(3)于25‑350℃条件下，在三氧化二铝薄膜阻挡层上沉积介质薄膜。本发明在离子交换玻璃基底和薄膜之间加入三氧化二铝薄膜阻挡层，避免了物理气相沉积过程离子交换玻璃基底强度下降；本发明的离子交换玻璃广泛有效地应用于光电触摸显示器件。
离子交换玻璃沉积三氧化二铝薄膜阻挡层基底薄膜碱硅酸盐基底碱金属熔融盐离子交换处理物理气相沉积真空镀膜系统玻璃浸入触摸显示介质薄膜离子交换室温条件钾离子钠离子有效地薄膜应用

[发明专利]一种高效离化的离子注入方法-CN202210033045.3在审
发明人：郎文昌;钱琦嘉;蒋慧珍;郭景燕;林振宇;陈盛旭;赵涣波;刘艳杰 -专利权人：温州瑞明工业股份有限公司
申请日： 2022-01-12 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明提供一种高效离化的离子注入方法，属于离子注入技术领域，本发明中电子发生装置产生的电子与通入气体碰撞，产生气体离子轰击曲面靶材产生金属靶材原子和离子，带正电的金属离子在电磁场的作用下导向离子引出组件形成离子束进入到质量分析装置，再通过质量分析装置对离子束进行提纯，然后由加速管进行加速导入聚焦系统，之后通过偏转扫描系统对工作靶室内存放的工件进行离子注入，而绝大多数不带电的颗粒保留在溅射区，进一步与气体离子碰撞形成带正电的金属离子，本发明既能大大减少沉积区域的颗粒数量，同时不影响沉积速度，又增加了金属离子与靶材接触面积，极大的提高了粒子的离化率，可获得优质涂层。
一种高效离子注入方法

[发明专利]在非催化性基材上无电沉积金属的方法-CN200880106054.9无效
发明人： R·A·塔肯;R·M·德查尔特;A·赫韦斯泰特 -专利权人：荷兰应用自然科学研究组织TNO
申请日： 2008-09-05 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： C23C18/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在基本无催化剂的基材上无电沉积金属的方法，该方法包括：(a)提供基本无催化剂的基材；以及(b)将所述基本无催化剂的基材暴露于无电镀液中以便在基材上沉积金属，该溶液包含金属离子及用于将金属离子还原成金属的还原剂
催化基材上无电沉积金属方法