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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电导体测试装置-CN201610021776.0有效
发明人： J.M.吉尔伯特 -专利权人：弗兰克公司
申请日： 2016-01-13 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： G01R19/00 文献下载
摘要：测试装置包括：具有至少一个柔性部分的衬底；位于所述衬底上的至少一个传感器；以及保持机构。至少一个传感器被构造成产生表明电导体的特征的信号。保持机构被构造成将测试装置保持到电导体的外部部分上，以使得所述至少一个传感器相对于电导体被保持就位。
导体测试装置

[发明专利]衬底处理装置、半导体器件的制造方法以及加热部-CN201610084003.7有效
发明人：村田等;和田优一;八幡橘;吉田秀成;西堂周平 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-02-06 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底处理装置，其能够缩短处理炉内的温度稳定时间。该衬底处理装置具有：保持多张衬底的衬底保持件；设在衬底保持件的下方的隔热部；收纳衬底保持件并处理衬底的处理室；设在处理室的周围并对处理室内从侧部加热的第1加热部；处于处理室内并设在衬底保持件与隔热部之间的第2加热部，第2加热部具有：大致环状的发热部；和从发热部向下方延伸的下垂部，发热部收在直径比衬底小的环状区域内。
衬底处理装置半导体器件制造方法以及加热

[发明专利]衬底搬送机器人及衬底处理系统-CN201680013363.6有效
发明人：后藤博彦 -专利权人：川崎重工业株式会社
申请日： 2016-03-03 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的控制器件(12)使机器人臂(4)及衬底保持装置(7)实施如下动作：掌片部件进入动作，使一对掌片部件(25、26)进入至衬底载置构造；衬底接收动作，以处于衬底非保持状态的掌片部件(25)接收载置在衬底载置构造的上段的衬底；及衬底载置动作，将处于衬底保持状态的掌片部件(26)的衬底载置在下段。将通过衬底接收动作接收衬底的时间、与通过衬底载置动作载置衬底的时间错开。本发明可提供一种不论衬底保持装置的衬底固定方式的种类，均能缩短衬底搬送时的作业时间的衬底搬送机器人。
衬底机器人处理系统

[发明专利]隔绝的能量调节屏蔽装置-CN01810000.7无效
发明人： A·A·安东尼;W·M·安东尼 -专利权人： X2Y衰减器有限公司
申请日： 2001-03-22 - 公布日： 2003-07-16 - 主分类号： H03H7/01 文献下载
摘要：由多层或单片电容器(500A，500B)构成的一对或多对滤波电容器装置(10)具有和导电保持器(109)相连的电极部分(102)，所述导电保持器对于导电衬底(111)被选择地设置。所述衬底(111)使电极部分(102)相互屏蔽，从而形成共模和差模滤波器。
隔绝能量调节屏蔽装置

[发明专利]包括衬底台的光刻设备-CN201210149034.8有效
发明人：汉斯·巴特勒;J·范埃基科;S·A·J·霍尔;J·P·M·B·沃麦尤伦;黄仰山 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-05-14 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光刻设备还包括构造成保持衬底的衬底台；定位器，构造成定位衬底台；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；衬底表面致动器，布置成接合衬底表面的面对投影系统的部分，和位置控制器，配置成控制衬底台的位置，位置控制器布置成驱动定位器和衬底表面致动器。
包括衬底光刻设备

[发明专利]相机模块-CN202010316434.8有效
发明人：具源书;申秀吉;金相晋 -专利权人：三星电机株式会社
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：相机模块包括：透镜；图像传感器，设置在衬底上，并且将由透镜折射的光信号转换成电信号；粘合剂构件，设置在衬底与图像传感器之间，以将图像传感器固定至衬底；以及支承构件，设置在衬底与图像传感器之间，配置成即使在粘合剂构件收缩变形时也保持透镜与图像传感器之间的恒定距离
相机模块

[发明专利]具有注射器的衬底处理设备-CN202111372623.8在审
发明人： K.哈恩斯特拉;L.吉迪拉;C.G.M.德里德;R.勒洛夫斯;W.科内鹏;H.特霍斯特 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2021-11-18 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了一种衬底处理设备，其具有管、衬在管的内部表面上的封闭衬里、用于向衬里的内空间提供气体的多个气体注射器以及用于从内空间移除气体的排气管。该设备可以具有舟皿，其构造和布置成可经由衬里开口移动到内空间中，并且设置有多个衬底保持器，用于在内空间中的衬底支撑长度上保持多个衬底。每个气体注射器可以在顶部具有单个出口开口，并且多个注射器的出口开口在衬底支撑长度上基本均等地分开。
具有注射器衬底处理设备

[发明专利]衬底处理装置及半导体器件的制造方法-CN201410710890.5在审
发明人：佐藤武敏;平松宏朗;广地志有 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理装置及半导体器件的制造方法。若在流过原料气体的定时在ALD成膜中腔室内压力急剧变化，则衬底发生偏移，由此原料气体进入晶片背面，在灯表面发生成膜。衬底处理装置包括：衬底处理室，对衬底进行处理；气体供给部，在对衬底处理时向所述衬底处理室交替供给多种处理气体；衬底保持部，具有保持所述衬底的背面的一部分的保持机构、和支承所述保持机构的支承部；加热部，从背面加热所述衬底；待机室，供所述衬底保持部待机；以及控制部，控制所述气体供给部及/或气体排气部，以使所述衬底处理室的压力高于所述待机室的压力。
衬底处理装置半导体器件制造方法

[发明专利]光刻设备对准传感器和方法-CN201680050090.2有效
发明人： S·G·J·马斯杰森;A·J·登博夫;N·潘迪;P·A·J·廷尼曼斯;S·M·怀特;K·S·E·埃克玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：被构造为保持衬底的衬底台；以及被配置为感测设置到由衬底台保持的衬底上的对准标记的位置的传感器。传感器包括被配置为用辐射束照射对准标记的辐射源、被配置为检测已经与对准标记相互作用的辐射束作为离焦光学图案的检测器、以及数据处理系统。
光刻设备对准传感器方法

[发明专利]晶圆保持销及其使用方法-CN201810584605.8在审
发明人：陈嘉伦;洪明松;施博仁;许文鸿 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-06-08 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种装置包括：衬底台，配置为将衬底固定在其上；以及运动机构，配置为旋转衬底台。衬底台包括用于保持衬底的边缘的多个保持销。旋转衬底台使得分配在衬底的上表面上的化学溶液朝着衬底的边缘向外扩散。多个保持销中的至少一个包括至少一个开口或至少一个锥形侧表面或两者，用于引导化学溶液从衬底流出。本发明的实施例还涉及晶圆保持销及其使用方法。
衬底衬底台化学溶液晶圆锥形侧表面运动机构上表面配置开口流出扩散分配

[发明专利]用于清洁电镀衬底保持器的方法和装置-CN201380023757.6有效
发明人：桑托斯·库马尔;布莱恩·L·巴卡柳;史蒂芬·T·迈耶;托马斯·波努司瓦米;查德·迈克尔·霍萨克;罗伯特·拉什;蔡利鹏;大卫·波特 -专利权人：诺发系统公司
申请日： 2013-03-27 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：这里披露了通过去除在先前的电镀操作中聚集的金属沉积物而清洁电镀设备的唇密封件和/或杯底的方法。该方法可包括定位喷嘴以使其基本指向在唇密封件和/或杯底的内圆边；以及从喷嘴分配清洁溶液流以在唇密封件和/或杯底转动时使该流接触唇密封件和/或杯底的内圆边；去除金属沉积物。在一些实施例中，流具有与唇密封件和/或杯底的转动方向相反的速度分量。在一些实施例中，金属沉积物包括锡/银合金。本文同样公开用于安装在电镀设备中并从它们的唇密封件和/或杯底去除电镀金属沉积物的清洁装置。在一些实施例中，清洁装置可包括喷射喷嘴。
用于清洁电镀衬底保持方法装置

[发明专利]衬底洗净装置及衬底洗净方法-CN202210773648.7在审
发明人：筱原智之;石井淳一;中村一树;冈田吉文;髙桥拓马;筱原敬;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过将洗净工具接触于由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域来将下表面中央区域洗净。通过将洗净工具接触于由第2保持部旋转的衬底的下表面外侧区域来将衬底的下表面外侧区域洗净。在下表面中央区域的洗净时，在不保持衬底的状态下使第2保持部绕铅直轴旋转。或，在下表面中央区域的洗净时，通过配置在洗净工具与第2保持部之间的气体喷出部从只离开衬底特定距离的第1高度向衬底喷出气体，且在下表面中央区域的干燥时，通过气体喷出部从比第1高度更接近衬底的第2高度向衬底喷出气体
衬底洗净装置方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底位置调整方法-CN202111055253.5在审
发明人：安武阳介;菊本宪幸;岩尾通矩;石井弘晃;邓宝铃 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理衬底的衬底处理装置及衬底位置调整方法。本发明的衬底处理装置具备：基座，具有将圆板状衬底以水平姿势保持的保持面；旋转单元，使所述基座绕铅直的旋转轴线旋转；加热单元，加热保持在所述保持面的衬底的周缘部；偏心量测定单元，具有发出光的发光部及接收从所述发光部发出的光的受光部，在保持在所述保持面的衬底的周缘部位于所述发光部与所述受光部间的检测空间内时，测定所述衬底相对于所述旋转轴线的偏心量；定心单元，使所述保持面上的衬底相对于所述基座移动，使得所述衬底的中心部靠近所述旋转轴线
衬底处理装置位置调整方法

[发明专利]半导体存储装置-CN201510553468.8在审
发明人：生田武史;山田雄太 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2015-09-02 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： G11C7/10 文献下载
摘要：本实施方式提供一种能将衬底固定在壳体内的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备衬底(10)及壳体。衬底(10)设置有能存储数据的存储器、及控制存储器的控制器。壳体包含第一及第二壳体零件，且将衬底(10)保持在内部。第一壳体零件具备具有弹性且与衬底(10)相接的固定部(3)。
半导体存储装置

[发明专利]用于抛光半导体衬底的边缘的设备-CN201010003394.8无效
发明人：沃尔特·施瓦岑贝格;塞巴斯蒂安·凯尔迪勒;阿齐兹·哈拉米-艾蒂里斯 -专利权人：硅绝缘体技术有限公司
申请日： 2010-01-19 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于化学地和机械地抛光半导体衬底的边缘的设备，所述半导体衬底包括由基于离子注入步骤、结合步骤以及分离步骤的诸如Smart-CutTM的层转移工艺所产生的、在所述衬底的外围区域中的突出的残留形貌为了能除去该台阶状区域，所述设备包括抛光垫，其中所述抛光垫被布置和构造成使得在与衬底保持器的表面垂直的平面中的所述抛光垫的横截面是弯曲的。本发明还涉及用于所述设备的垫保持器和用于抛光包括突出的残留形貌的半导体衬底的方法。
用于抛光半导体衬底边缘设备

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