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- [实用新型]一种防指纹光学薄膜镀膜设备-CN202020110952.X有效
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王为城
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厦门立扬光学科技有限公司
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2020-01-17
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2020-08-18
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C23C14/24
- 本实用新型公开一种防指纹光学薄膜镀膜设备，包括真空室腔体、工转架、蒸发器、蒸发电源、流量阀、温控器、真空计、残余气体分析仪、膜厚仪和控制单元，在真空室腔体内的上部设置一可转动的工转架用于承载镜片，在真空室腔体内的下部设有惰性气体管道和蒸发器，膜厚仪安装在真空室腔体外且探头伸入真空室腔体内的工转架中，真空计、残余气体分析仪和温控器安装在真空室腔体的侧壁上，蒸发器与安装在真空室腔体外的蒸发电源连接，惰性气体管道通过真空室腔体外的流量阀与供气管道连接，蒸发电源、流量阀、温控器、真空计、残余气体分析仪和膜厚仪都与控制单元连接。
- 一种指纹光学薄膜镀膜设备
- [实用新型]一种蒸发源离子轰击刻蚀装置-CN202021511986.6有效
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卢国英;石昌仑;兰睿
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常州夸克涂层科技有限公司
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2020-07-28
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2021-05-07
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C23C14/02
- 本实用新型涉及公开了一种蒸发源离子轰击刻蚀装置，其包括真空室，真空室后侧固定连接蒸发源，蒸发源前端面与真空室内部连通，蒸发源旁边设置有在真空室外部的弧电源，弧电源负极和蒸发源通过电线电性连接，蒸发源的前端面上固定连接Ti靶，Ti靶前侧设置挡板，挡板在真空室内，挡板转动连接在真空室右端面上，挡板前侧间隔设置有水冷阳极，水冷阳极在真空室内，弧电源正极和水冷阳极通过电线电性连接，水冷阳极前侧间隔设置工作转架，工作转架在真空室内，工作转架转动连接在真空室左端面上，真空室外部设置有偏压电源且偏压电源正极和真空室通过电线电性连接，偏压电源负极和工作转架通过电线电性连接，本发明具有快速对材料表面清洗刻蚀的效果。
- 一种蒸发离子轰击刻蚀装置
- [发明专利]一种高纯铟提纯方法-CN202010660255.6有效
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曹昌威;唐朝辉
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楚雄川至电子材料有限公司
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2020-07-10
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2021-04-23
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C22B58/00
- 本发明公开了一种高纯铟提纯方法，在10‑2Pa真空条件下，将原料铟溶液通过真空负压吸入真空炉下段蒸发区，真空炉下段蒸发区温度为1020～1180℃，真空炉上段精馏塔温度为900～1000℃；原料铟溶液在真空炉下段蒸发区蒸发为铟蒸汽，铟蒸汽在真空炉上段精馏塔冷凝为高纯铟溶液并流出；将流出的高纯铟溶液冷凝至170～230℃，获得高纯铟固体与现有技术相比，本技术方案提供的高纯铟提纯方法，利用真空环境降低铟溶液的沸点，同时利用较小的汽化和冷凝温差，使真空炉内的环境满足铟的蒸发和冷凝，其他杂质在该条件下难以蒸发或冷凝，以提高获得的高纯铟固体的纯度
- 一种高纯提纯方法
- [实用新型]简易型蒸发器-CN200920011046.8有效
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郭方准
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大连齐维科技发展有限公司
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2009-02-27
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2010-01-20
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C23C14/26
- 本实用新型涉及真空设备。简易型蒸发器，回转导入器导入棒真空端固定安装遮板，遮板位于坩埚上方，坩埚上缠绕有加热丝，加热丝接通电极。本实用新型蒸发器可蒸发绝大多数金属，坩埚的材质为氧化铝，可耐1800摄氏度的高温，而且放出气体少，热源采用高熔点的钨丝，通电加热，使用方式简单，安装蒸发遮挡板，可以控制蒸发的时机，同时也可以确保蒸发的质量，蒸发遮挡板的驱动靠超高真空旋转驱动器实现，可以人工从外界控制，和真空接触部件选用材质适合超高真空环境的使用，简易蒸发源可耐高温烘烤，整体构造独特且操作简单。
- 简易蒸发器
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