专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]经济型抗H2-CN202010765899.1在审
  • 钟彬;陈义庆;高鹏;李琳;艾芳芳;伞宏宇;苏显栋;沙楷智;肖宇 - 鞍钢股份有限公司
  • 2020-08-03 - 2020-11-24 - G01N3/20
  • 本发明公开一种经济型抗H2S‑CO2油井管的应力腐蚀性能测试方法,将试样加工和表面预处理,计算表面积和原始质量,按照名义屈服强度进行四点弯曲加载,将夹具和试样整体放入密闭储罐中进行抗应力腐蚀试验,完成试验周期后,将未失效的试样进行表面除锈处理,记录试验后的质量,进行腐蚀速率分析,并进行表面形貌观察和腐蚀深度的测量,将试样拉应力侧表面的腐蚀腐蚀深度作为最后的测试结果,通过腐蚀形貌观察和计算腐蚀的深度来评价油井管材料的抗应力腐蚀性能,结合腐蚀速率评价油井管的耐蚀性能。
  • 经济型basesub
  • [发明专利]一种碳化硅晶体的位错识别方法-CN202010042808.1在审
  • 张九阳;李霞;高宇晗;高超 - 山东天岳先进材料科技有限公司
  • 2020-01-15 - 2020-06-05 - G01N1/32
  • 本发明提供了一种碳化硅晶体的位错识别方法,所述方法包括以下步骤:(1)将碳化硅晶体在碱性腐蚀剂中进行腐蚀;(2)腐蚀完成后,观察位错腐蚀形貌,从而将碳化硅晶体中刃位错、螺位错和基平面位错识别;所述碳化硅晶体包括高纯碳化硅和氮掺杂碳化硅,其中,高纯碳化硅的腐蚀时间为5~7min,氮掺杂碳化硅的腐蚀时间为7~9min。本发明通过优化碱性腐蚀腐蚀时间,将高纯碳化硅和氮掺杂碳化硅的腐蚀时间控制在少于10min,就能将高纯碳化硅或氮掺杂碳化硅中的刃位错、螺位错和基平面位错三种位错准确区别开来;腐蚀时间短且能将晶体中的三种位错准确识别出来
  • 一种碳化硅晶体识别方法
  • [实用新型]杜仲茶发酵用喷淋水蓄水池-CN202022921811.9有效
  • 罗云霄 - 灵宝市天地科技生态有限责任公司
  • 2020-12-08 - 2021-07-23 - A23F3/34
  • 本实用新型属于发酵技术领域,具体涉及杜仲茶发酵用喷淋水蓄水池;包括水箱、第一水池、第二水池、第一水池和第二水池,第一水池设置在第一水池内,第二水池设置在第二水池内,水箱、第一水池和第二水池均为顶部设置有可开启密封盖的空腔体第一水池和第二水池底部分别设置有第三出液管和第四出液管,第一出液管、第二出液管、第三出液管和第四出液管上分别设置有电磁阀,并且水箱、第一水池和第二水池均为不锈钢材质构成;采用不锈钢池体,能够减少池体的腐蚀
  • 杜仲发酵喷淋蓄水池
  • [发明专利]CdSiP2晶体的腐蚀剂与腐蚀方法-CN201610453782.3有效
  • 赵北君;何知宇;林莉;陈宝军;黄巍;朱世富 - 四川大学
  • 2016-06-21 - 2019-01-25 - G01N23/2251
  • 本发明所述CdSiP2晶体的腐蚀剂,由溴素、甲醇、硝酸、盐酸和纯净水配制而成,溴素、甲醇、硝酸、盐酸和纯净水的体积比为:溴素:甲醇:硝酸:盐酸:纯净水=(0.003~0.005):本发明所述CdSiP2晶体的腐蚀方法,使用上述腐蚀剂,步骤依次如下:(1)将抛光、清洗、干燥处理后的CdSiP2晶片浸入腐蚀剂中,在常压、室温下超声振荡腐蚀5~10分钟取出;(2)将从腐蚀剂中取出的CdSiP2晶片浸入质量浓度为5%的NaOH溶液中清洗以终止反应,再用纯净水清洗至中性;(3)将清洗后的CdSiP2晶片在常压下自然干燥或烘干使用上述腐蚀剂和腐蚀方法对CdSiP2晶体进行腐蚀具有很好的择优腐蚀性,腐蚀后的CdSiP2晶片在扫描电镜下可以清晰地显示出某一晶面的腐蚀形貌。
  • cdsipsub晶体腐蚀剂腐蚀方法
  • [发明专利]一种微阵列的制作方法-CN201810016919.8有效
  • 秦歌;刘凯瑞;曲海军;闫亮;张云燕;周奎 - 河南理工大学
  • 2018-01-09 - 2022-04-01 - B23H3/00
  • 本发明公布了一种微阵列的制作方法,包括以下几个步骤:(1)制备磁性胶体粒子悬浮液。(2)在工件表面制备磁性胶体粒子膜。在电解槽的阴极和阳极外侧加平行于电极的磁极,磁性胶体粒子在所加磁极产生的磁场作用力下被牢固地压在工件表面上,以表面覆有磁性胶体粒子的工件为阳极,以工件表面上的磁性胶体粒子为掩膜,在磁性胶体粒子之间的间隙中对工件进行电解腐蚀加工(4)去除磁性胶体粒子,得到微结构。本发明利用磁场力对磁性胶体粒子的作用,有效解决了粒子掩膜电解过程中作为掩膜的胶体粒子和基底之间黏附力不足的问题,其掩膜固定方式简单、操作简单,可保证掩膜电解加工微阵列工艺地顺利进行。
  • 一种阵列制作方法
  • [实用新型]一种城市行道树树防护砖-CN201320035950.9有效
  • 罗小林;王文响;于文博 - 昆明理工大学
  • 2013-01-23 - 2013-07-31 - A01G13/00
  • 本实用新型涉及一种城市行道树树防护砖,属于道路工程技术领域。本实用新型包括无纺土工布层、鹅暖石层、透水砖;无纺土工布层通过树根铺设在树土层上,鹅暖石层铺设在无纺土工布层上,透水砖铺设在鹅暖石层上,其特征在于:透水砖侧部设有燕尾块,透水砖上开设有孔,且其侧部还设有圆弧槽本实用新型渗透性好、价格低、抗老化、抗腐蚀、阻尘,施工工艺简单;铺设在树土层面上的无纺土工布层能有效阻止灰尘产生,且能反滤、排水,即保证了树木刚移植期的生长,又利于城市园林环境的保护,且便于后期的维护
  • 一种城市行道树防护
  • [实用新型]一种室外盲沟排水集水坑结构-CN201920904526.0有效
  • 张志军 - 重庆基准方中建筑设计有限公司
  • 2019-06-17 - 2020-05-15 - E03F5/10
  • 本实用新型涉及一种室外盲沟排水集水坑结构,包括集水坑主体,所述集水坑主体剖面呈“凸”形,其顶面的人孔上设置检修盖板;所述集水坑主体内壁中间位置设置检修平台,所述检修平台将集水坑主体分为上部和下部;在人孔位置从上往下沿着集水坑主体内壁设置多个爬梯,位于所述集水坑主体底部耦合式安装潜污泵;位于所述下部内壁上设置盲沟孔,所述盲沟孔内设置铸铁管,所述铸铁管与盲沟贯通,所述盲沟的高度小于检修平台的高度。本实用新型结构新颖,设计巧妙,对现有技术中第三种处理方式的集水坑进行深化改造,增加人员检修平台,规避了由于集水坑过深容易造成人员伤亡和阀门长期暴露在潮湿环境中容易腐蚀的问题。
  • 一种室外排水集水结构

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