专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种表面粗糙化金刚石的超薄划片刀制备方法-CN202111203403.2在审
  • 尹韶辉;洪秋 - 湖南大学
  • 2021-10-15 - 2021-12-24 - C25D3/12
  • 本发明公开了一种表面粗糙化金刚石的超薄划片刀制备方法,包括以下步骤:步骤A、金刚石表面热腐蚀处理;将金刚石微粉与腐蚀剂压制成型的块体置入管式炉中加热保温处理,使腐蚀剂在热化学作用下在金刚石表面形成形状和大小可控的腐蚀本发明工艺方法简单,在金刚石表面形成形状和大小可控的腐蚀;利用金刚石表面的点洞腐蚀结构与结合剂之间形成“锚定连接”,电镀层对金刚石颗粒把持力高,工作层金刚石利用率高,有效延长划片刀的使用寿命。
  • 一种表面粗糙金刚石超薄划片制备方法
  • [发明专利]一种KH2-CN202011045463.1在审
  • 王圣来;徐龙云;余波;刘慧;张力元;王波 - 山东大学
  • 2020-09-29 - 2021-01-12 - G01N1/32
  • 本发明涉及一种KH2PO4晶体{101}晶面产生清晰位错蚀的方法,属于晶体表征技术领域。配置74%~76%含水量的水‑乙醇混合溶液作为晶体腐蚀液,室温下将晶体样品置于该腐蚀液中并保持10~20s,取出后使用该腐蚀液对晶体表面抛光2~4s,抛光机转速设置在120~200r/min,将晶体表面的溶液擦拭干净并烘干,在光学显微镜和3D激光共聚焦显微镜下观察处理好的晶体表面,得到清晰的位错蚀照片。
  • 一种khbasesub
  • [发明专利]一种式耐酸反应槽的制作方法-CN89105928.8在审
  • 杨大为 - 重庆市硅酸盐研究所
  • 1989-06-17 - 1990-02-21 - B01J19/02
  • 一种式耐酸反应槽或贮槽及制造方法,其特征是在地下开挖一所需容量的,浇注钢筋混凝土层后再制作耐酸内层,为检查反应酸穿漏的现象,在开挖好后在坑底铺上一层方解石,壁布置上草绳层,当有穿漏情况发生时,反应酸与方解石反应有二氧化碳生成本发明制造的反应槽或贮槽方法简单,成本低廉,特别适用于制作固定式反应槽特别是耐腐蚀贮槽。
  • 一种耐酸反应制作方法
  • [实用新型]一种防撞地下升降式室外消防栓-CN201921259758.1有效
  • 张细古 - 唐山微霖物业管理有限公司
  • 2019-08-05 - 2020-06-19 - E03B9/08
  • 本实用新型提供了一种防撞地下升降式室外消防栓,包括:消防栓和保护,消防栓固定连接在保护内中间处,电机通过电线和插座电性连接,当需要使用该装置进行升降的时候,通过外接电源插上插座进行通电,形成闭合电路,使升降杆推动底座进行升降,使用起来更加便捷,达到更好的使用效果,通过在底座左右两侧均匀设有斜坡状的导水块,可以通过斜面将水引导至左右两侧便于排导回收,防止积水长时间累积在保护腐蚀消防栓,达到对消防栓更好的保护效果,保护为凹槽状,通过保护为凹槽状将消防栓安装在保护内,使其低于路面水平高度,防止其受到外物的碰撞,达到更好的保护消防栓的效果。
  • 一种地下升降室外消防栓
  • [发明专利]氧化锆种植体的表面处理方法-CN201710377775.4在审
  • 刘光荣;朱爱萍 - 绍兴华晶科技有限公司
  • 2017-05-25 - 2017-10-20 - C04B35/48
  • 本发明公开一种氧化锆种植体的表面处理方法,属于缺失牙修复用的种植体加工技术领域,在注射成形的氧化锆种植体坯料排蜡之前,先对注射成形的氧化锆种植体坯料表面进行喷丸处理,然后进行排蜡,再进行烧结,最后进行酸腐蚀处理或其他方式的表面处理本发明氧化锆种植体的表面处理方法喷丸打效果好。本发明在注射成形的氧化锆种植体排蜡以前的坯料状态中(因为该状态的坯料还比较能通过喷丸打击出明显的凹凸),对其进行喷丸处理,使注射成形的氧化锆种植体坯料表面产生凹凸状,再去排蜡、烧结,使最终烧结成形后的氧化锆种植体表面具有明显的凹凸状,最后进行酸腐蚀处理或其他方式的表面处理。
  • 氧化锆种植表面处理方法
  • [发明专利]一种具有原位SiN位错湮灭层的AlGaN薄膜及其外延生长方法-CN202011052794.8有效
  • 张骏;岳金顺;梁仁瓅 - 苏州紫灿科技有限公司
  • 2020-09-29 - 2022-05-20 - H01L33/00
  • 本发明公开了一种具有原位SiN位错湮灭层的AlGaN薄膜及其外延生长方法,该方法步骤包括:在蓝宝石衬底上外延生长AlN膜层;在所述AlN膜层上外延生长第一AlGaN薄膜层;在所述第一AlGaN薄膜层上采用氢气腐蚀出位错;在所述位错表面原位沉积SiN位错湮灭层;在所述SiN位错湮灭层上外延生长第二AlGaN薄膜层。本发明通过在第一AlGaN薄膜层上先腐蚀出位错再进行SiN原位填补的方式,一方面能够使第二AlGaN薄膜层及后续膜层在生长过程中便同步进行了图形化处理,避免了将外延片取出进行复杂的刻蚀工艺,以及取出刻蚀时引入杂质的问题;另一方面,由于SiN位错湮灭层是同位错相对应的岛状分布结构,这种结构更利于第二AlGaN薄膜层的生长愈合。
  • 一种具有原位sin湮灭algan薄膜及其外延生长方法

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