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[发明专利]处理基片的装置和方法及供应等离子体的方法-CN200710164030.6有效
发明人：李畅源 -专利权人： PSK有限公司
申请日： 2007-10-16 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种处理基片的装置和方法及供应等离子体的方法，有效地解决了剥离基片上的光致抗蚀剂或残渣的问题。其中装置包括第一生成单元，用于向放电空间供应第一源气体，并给供应的第一源气体放电以生成第一等离子体；第二生成单元，用于向第一等离子体的流动路径上供应第二源气体，并利用第一等离子体给供应的第二源气体放电，以生成第二等离子体；以及处理室，将第一等离子体及第二等离子体供应到处理室，并且在处理室中装载有利用第一等离子体和第二等离子体处理的目标基片。可应用于清洗处理、刻蚀工艺、表面改性工艺以及利用等离子体的所有工艺中。
处理装置方法供应等离子体

[实用新型]一种等离子体曝气污水处理装置-CN201921345782.7有效
发明人：王照洋;王健;薛云华 -专利权人：深圳市东信高科自动化设备有限公司;深圳市水务规划设计院股份有限公司
申请日： 2019-08-19 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： C02F1/72 文献下载
摘要：本实用新型提出一种等离子体曝气污水处理装置，包括空气压缩机用于压缩空气并将压缩的空气传输给空气分离器；空气分离器用于对空气进行分离以得到氧气气源，并将氧气气源输送给等离子体发生器；等离子体发生器设置在曝气处理池的内壁上，其包括氧气气源输入端，并有等离子体强氧化物质输出端，用于产生高压电场电离从氧气气源中输送来的氧从而得到等离子体强氧化物质并将等离子体强氧化物质输送到曝气盘；曝气盘，与等离子体发生器连接以接收等离子体强氧化物质；曝气处理池，用于利用等离子体强氧化物质对待处理的污水进行处理。通过设置空气分离器将空气中的氮气预先去除得到氧气气源，再通过等离子体发生器电离，有效降低能耗，提高效率。
一种等离子体污水处理装置

[发明专利]等离子体设备-CN202080079916.4在审
发明人： M·坎茨勒;P·赛兰;F·米歇尔;T·文德 -专利权人： BSH家用电器有限公司;特拉等离子体有限责任公司
申请日： 2020-11-10 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将冷大气等离子体施加到待处理表面、特别是纺织品、皮革和/或塑料纤维上的等离子体设备，具有外壳、布置在所述外壳中的等离子体源和用于将电压施加到所述等离子体源的电压源，并且具有致动器，所述致动器被构造为如果在所述等离子体源与所述待处理表面之间的距离在预定距离内则激活所述等离子体源，其中所述致动器具有可调节且被施加了预应力的致动器元件和检测装置，所述致动器元件具有至少一个致动元件，所述检测装置至少在所述等离子体源与所述待处理表面之间的距离在所述预定距离内时检测所述致动器元件的位置使用根据本发明的等离子体设备，特别是可以避免由于客户的错误操作引起的危险和排放，因为仅在与待清洁衣服的距离在预定距离内时才激活等离子体源。
等离子体设备

[发明专利]等离子体处理的方法-CN201510198918.6有效
发明人：叶如彬 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2015-04-22 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理的方法，包括预先获取第一频率，所述第一频率为第一等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；预先获取第二频率，所述第二频率为第二等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；对待处理基底进行第一等离子体处理，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第一频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配；对待处理基底进行第二等离子体处理，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第二频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配。所述等离子体处理的方法能够保持等离子体稳定，避免等离子体熄灭的问题。
等离子体处理方法

[发明专利]离子过滤方法和相关的离子过滤系统-CN201780066279.5有效
发明人：莱斯利·迈克尔·莱亚;林内尔·马丁内斯;迈克尔·摩根;鲁塞尔·韦斯特曼 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种使用离子过滤来调节传送到基板(170)的离子数量的方法。该方法包括提供的处理室(100)，其可操作地被连接到等离子体源(120)。提供电偏置源，其可操作地被连接到在处理室中被提供的孔板(190、191、192)。通过使用等离子体源产生的等离子体处理基板支撑件上的基板。在基板的等离子体处理期间，来自电偏置源的可变偏置电压被施加到孔板。基板的等离子体处理能够进一步包括将基板暴露于等离子体时分复用处理，该等离子体时分复用处理在基板上交替进行沉积和蚀刻。
离子过滤方法相关系统

[发明专利]可控片状等离子体发生装置-CN200910238502.7无效
发明人：欧阳吉庭;王跃东;何锋 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2010-05-05 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种可控片状等离子体发生装置，包括气室、等离子体源、云母片、诱导阳极、负高压直流电源和正高压电源；其中气室开有出气口和进气口；等离子体源由阴极的外表面覆盖云母片后与阳极连接构成狭缝型空心结构，诱导阳极固定于气室内的等离子体源上方，并且面向等离子体源的阳极一侧，诱导阳极由导线与正高压电源的高压端相连；等离子体源的阴极与负高压直流电源的负高压端相连，阳极接地。等离子体源与诱导阳极共同构成放电系统，等离子体产生和消失由提供给诱导阳极正偏置电压的脉冲电源来控制；本发明可作为一种控制电磁波传播或电流阀的快速等离子体器件，具有结构简单、操作方便、价格低廉、体积小且易实现等优点
可控片状等离子体发生装置

[发明专利]用于使用等离子源激发井、沉积物和钻孔的系统和方法-CN201380049824.1有效
发明人： P·G·阿吉夫;A·A·莫莎诺夫 -专利权人：诺瓦斯能源集团有限公司
申请日： 2013-07-26 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：一种用于在流体介质中产生非线性的、宽频带的、周期性的、定向的、弹性的振荡的等离子体源。等离子体源包括具有限定间隙的两个电极的等离子体发射器、用于将金属导体引入到间隙中的传送装置以及用于为等离子体发射器供电的高压变压器。一种用于通过使用等离子体源产生的受控的周期性振荡激发井、沉积物和钻孔的系统和方法。系统包括等离子体源、地面控制单元和支撑电缆。在方法中，等离子体源浸没在井、沉积物或者钻孔的流体介质中并且用于在间隙中产生金属等离子体。金属等离子体发射压力脉冲和冲击波，该压力脉冲和冲击波被引导至流体介质中。
用于使用离子源激发沉积物钻孔系统方法

[发明专利]纤维丝束表面处理系统-CN201710224804.3在审
发明人：赵海波;格伦·L·史密斯;安·玛丽·斯特拉西亚 -专利权人：福特全球技术公司
申请日： 2017-04-07 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： D06M10/02 文献下载
摘要：还公开了对纤维丝束(如碳纤维丝束)进行等离子体处理的系统和方法。系统可以是纤维丝束处理系统，包括空气等离子体源，被构造为发射等离子体流；支撑表面，与空气等离子体源隔开并被构造为在发射等离子体流时接触等离子体流。第一导向装置和第二导向装置可位于支撑表面的相背端部上并被构造为使运动的纤维丝束在支撑表面和空气等离子体源之间对齐。方法可包括将纤维丝束连续输送通过第一导向装置、越过支撑表面并通过第二导向装置；当纤维丝束越过支撑表面时对其进行空气等离子体处理，使得由等离子体处理引起的纤维丝束挠度受支撑表面限制。公开的系统/方法在等离子体处理期间可减小对纤维丝束的损伤。
纤维丝束表面处理系统

[发明专利]利用表面等离子体远程激发单光子源的方法-CN200910236247.2有效
发明人：魏红;李敬;徐红星 -专利权人：中国科学院物理研究所
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2010-05-05 - 主分类号： G02B6/122 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用表面等离子体远程激发单光子源的方法，具体为：制备一维表面等离子体纳米波导；将单光子源放置在距离纳米波导1～100nm的位置上；将激光聚焦在纳米波导一端，以激发纳米波导的表面等离子体，并使其沿纳米波导传播；利用纳米波导中传播的表面等离子体将能量转移到单光子源上，以激发单光子源发光。本发明通过等离子体纳米波导对单光子源进行远程激发，由于光在纳米波导中以表面等离子体的形式传播，在单光子源处，等离子体将能量转移到单光子源，从而将单光子源激发，可以极大地降低激发光造成的噪音干扰。另外，在一定条件下金属纳米结构对单光子源的发光有增强作用，因而可以提高单光子源的发光效率。
利用表面等离子体远程激发光子方法

[发明专利]便携式自给材料加工系统-CN200880106744.4有效
发明人： E·M·希普勒斯基;N·A·桑德斯;M·霍法;J·L·杰森 -专利权人：海别得公司
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：一种便携式等离子体电弧焊炬系统可用于加工材料。该系统包括可替换或可充电的电源和可替换或可充气的气源。控制器与电源或气源中的至少一个通信。等离子体输送装置经由控制器接收来自电源的电流和来自气源的气体，以在等离子输送装置的输出端处产生等离子体电弧。该等离子体电弧可用于加工诸如金属加工件之类的材料。该等离子体电弧焊炬可包括可穿戴式的便携式组件，其包括可替换或可充装的电源和气源。等离子体输送装置从该组件中的电源接收电流，且从该组件中的气源接收气体以产生等离子体电弧。
便携式自给材料加工系统

[发明专利]具有等离子体源线圈的等离子体室及使用该等离子体室蚀刻晶片的方法-CN200580008980.9无效
发明人：金南宪 -专利权人：自适应等离子体技术公司
申请日： 2005-03-24 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种具有等离子体源线圈的等离子体室包括室体、等离子体源线圈和边缘衬套。该室体包括由侧壁、下围墙和上室顶限定的并且形成等离子体的反应空间。布置在该室顶上的等离子体源线圈包括对应于大于“2”的整数的M个单元线圈。该M个具有表示正整数的预定匝数“n”的单元线圈从处于中央部分的具有预定半径的中央衬套延伸，并沿着该中央衬套的圆周螺旋形地布置，从而在该反应空间中形成等离子体。边缘衬套布置在该室体的室顶与该等离子体源线圈之间，并配置成圆柱形的形式以与布置在该反应空间中的晶片的边缘重叠。
具有等离子体线圈使用蚀刻晶片方法

[发明专利]用于使用等离子体源激发井、沉积物和钻孔的系统和方法-CN201810203635.X在审
发明人： P·G·阿吉夫;A·A·莫莎诺夫 -专利权人：诺瓦斯能源集团有限公司
申请日： 2013-07-26 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明一般涉及用于使用等离子体源激发井、沉积物和钻孔的系统和方法。等离子体源包括具有限定间隙的两个电极的等离子体发射器、用于将金属导体引入到间隙中的传送装置以及用于为等离子体发射器供电的高压变压器。系统包括等离子体源、地面控制单元和支撑电缆。在方法中，等离子体源浸没在井、沉积物或者钻孔的流体介质中并且用于在间隙中产生金属等离子体。金属等离子体发射压力脉冲和冲击波，该压力脉冲和冲击波被引导至流体介质中。在流体介质中产生非线性的、宽频带的、周期性的和弹性的振荡，包括冲击波的通过的谐振振荡。
等离子体源沉积物流体介质冲击波钻孔等离子体发射器金属等离子体压力脉冲地面控制单元高压变压器传送装置金属导体谐振振荡弹性的宽频带电极浸没激发振荡电缆供电发射引入支撑

[发明专利]等离子体处理方法及装置-CN03104127.2无效
发明人：奥村智洋;木村忠司;矢代阳一郎;佐藤健一;齐藤光央 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-02-14 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： H05H1/42 文献下载
摘要：提供一种等离子体处理方法及装置，本发明的等离子体处理方法，其特征在于是在一边向配置在被处理物旁边的微等离子体源空间内供给气体，一边向上述微等离子体空间旁边的部件供给电力，在上述微等离子体源的空间内，发生微等离子体，从与上述空间连接的上述微等离子体源开口部分释放出的活性粒子作用于上述被处理物，在被处理物上形成细微线状部分的等离子体处理方法中，使气体与上述被处理物平行，沿着上述细微线状部分的长度方向，在开口部分附近进行流动
等离子体处理方法装置

[发明专利]阻抗减小的室-CN99805062.8无效
发明人：韦恩·L·约翰逊 -专利权人：东京电子株式会社
申请日： 1999-04-12 - 公布日： 2001-05-30 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：一种用于等离子体处理的阻抗减小的室产生了如下的实用的优点等离子体罩电压基本独立于在等离子体阻抗范围上的等离子体阻抗。这种减小阻抗的室的设计结构包括卡盘部件(30)、反电极和等离子体源。运行等离子体源(36)以在室中从工作气体产生等离子体。等离子体源(36)的壁部直接电连接到卡盘部件(30)的反电极和接地部分(31)。
阻抗减小

[发明专利]等离子体浸没离子注入技术对种植牙钉进行表面改性的方法-CN201410093067.4有效
发明人：刘宣勇;金国栋 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2014-03-13 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体浸没离子注入技术对种植牙钉进行表面改性的方法，所述方法包括激发锌阴极和银阴极分别作为锌离子等离子体源和银离子等离子体源，等离子体浸没离子注入技术对种植牙钉表面注入锌离子和银离子进行表面改性
等离子体浸没离子注入技术种植进行表面改性方法

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